一种磁控溅射台的制作方法

文档序号:10241605阅读:269来源:国知局
一种磁控溅射台的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及一种磁控溅射台。
【背景技术】
[0002]溅射工艺是以一定能量的粒子(离子或中性原子、分子)轰击固体表面,使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面的工艺。溅射只能在一定的真空状态下进行。以一定能量的粒子(离子或中性原子、分子)轰击固体表面,使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面的工艺。溅射只能在一定的真空状态下进行。
[0003]溅射用的轰击粒子通常是带正电荷的惰性气体离子,用得最多的是氩离子。氩电离后,氩离子在电场加速下获得动能轰击靶极。当氩离子能量低于5电子伏时,仅对靶极最外表层产生作用,主要使靶极表面原来吸附的杂质脱附。当氩离子能量达到靶极原子的结合能(约为靶极材料的升华热)时,引起靶极表面的原子迀移,产生表面损伤。轰击粒子的能量超过靶极材料升华热的四倍时,原子被推出晶格位置成为汽相逸出而产生溅射。对于大多数金属,溅射阈能约为10?25电子伏。溅射产额,即单位入射离子轰击靶极溅出原子的平均数,与入射离子的能量有关。在阈能附近溅射,产额只有10-5?10-4个原子/离子,随着入射离子能量的增加,溅射产额按指数上升。当离子能量为103?104电子伏时,溅射产额达到一个稳定的极大值。
[0004]目前现有的磁控溅射台结构复杂,安装不方便,靶材的利用率较低。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型要解决的技术问题是提供一种结构简单,安装方便,能够保持刻蚀均匀,靶材利用率高的磁控溅射台。
[0006]为解决上述问题,本实用新型采用如下技术方案:
[0007]—种磁控溅射台,包括真空工作台、靶材、靶体和顶板,所述靶体设在靶材上,所述靶体与靶材螺纹连接,所述顶板设在靶材外侧,所述顶板与真空工作台无缝连接,所述顶板下方设置有屏蔽罩,所述靶材内设置有转动轴,转动轴能够带动磁铁转动,使得靶材在刻蚀时保持均匀,靶材利用率高,电动机能够保持传动稳定可靠,进水管和出水管能够通入冷却水进行降温,保持使用安全可靠,电极能够使得靶材表面产生溅射源进行加工,所述转动轴上设置有电动机,所述转动轴与电动机传动连接,所述转动轴底部设置有磁铁,所述靶体外侧设置有电极、进水管和出水管,所述电极与靶材电性连接,所述进水管与出水管连通。
[0008]作为优选,所述真空工作台一侧设置有进料口,方便工件的投入,同时能够保持良好的气密性。
[0009]作为优选,所述靶材为铝靶材,能够保持较高的利用率。
[0010]作为优选,所述磁铁为钕铁硼,结构强度高,使用寿命长。
[0011 ] 作为优选,所述磁铁与转动轴固定连接,能够保持磁铁能够转动。
[0012]本实用新型的有益效果为:设置的转动轴能够带动磁铁转动,使得靶材在刻蚀时保持均匀,靶材利用率高,电动机能够保持传动稳定可靠,进水管和出水管能够通入冷却水进行降温,保持使用安全可靠,电极能够使得靶材表面产生溅射源进行加工。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型一种磁控溅射台的结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]如图1所示,一种磁控溅射台,包括真空工作台1、靶材2、靶体3和顶板4,所述靶体3设在靶材2上,所述靶体3与靶材2螺纹连接,所述顶板4设在靶材2外侧,所述顶板4与真空工作台1无缝连接,所述顶板4下方设置有屏蔽罩5,所述靶材2内设置有转动轴6,所述转动轴6上设置有电动机7,所述转动轴6与电动机7传动连接,所述转动轴6底部设置有磁铁8,所述革EH本3外侧设置有电极9、进水管10和出水管11,所述电极9与革E1材2电性连接,所述进水管10与出水管11连通。
[0015]所述真空工作台1 一侧设置有进料口 12,在使用时,方便工件的投入,同时能够保持良好的气密性。
[0016]所述靶材2为铝靶材,在使用时,能够保持较高的利用率。
[0017]所述磁铁8为钕铁硼,在使用时,结构强度高,使用寿命长。
[0018]所述磁铁8与转动轴6固定连接,在使用时,能够保持磁铁能够转动。
[0019]在使用时,通过进料口 12将工件放入到真空工作台1内,电极9接入到电路中,启动电动机7带动转动轴6上的磁铁8转动,靶材2产生溅射源进行加工。
[0020]本实用新型的有益效果为:设置的转动轴能够带动磁铁转动,使得靶材在刻蚀时保持均匀,靶材利用率高,电动机能够保持传动稳定可靠,进水管和出水管能够通入冷却水进行降温,保持使用安全可靠,电极能够使得靶材表面产生溅射源进行加工。
[0021]以上所述,仅为本实用新型的【具体实施方式】,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种磁控溅射台,其特征在于:包括真空工作台、靶材、靶体和顶板,所述靶体设在靶材上,所述靶体与靶材螺纹连接,所述顶板设在靶材外侧,所述顶板与真空工作台无缝连接,所述顶板下方设置有屏蔽罩,所述靶材内设置有转动轴,所述转动轴上设置有电动机,所述转动轴与电动机传动连接,所述转动轴底部设置有磁铁,所述靶体外侧设置有电极、进水管和出水管,所述电极与靶材电性连接,所述进水管与出水管连通。2.根据权利要求1所述的磁控溅射台,其特征在于:所述真空工作台一侧设置有进料□ ο3.根据权利要求2所述的磁控溅射台,其特征在于:所述靶材为铝靶材。4.根据权利要求3所述的磁控溅射台,其特征在于:所述磁铁为钕铁硼。5.根据权利要求4所述的磁控派射台,其特征在于:所述磁铁与转动轴固定连接。
【专利摘要】本实用新型公开一种磁控溅射台,包括真空工作台、靶材、靶体和顶板,所述靶体设在靶材上,所述靶体与靶材螺纹连接,所述顶板设在靶材外侧,所述顶板与真空工作台无缝连接,所述顶板下方设置有屏蔽罩,所述靶材内设置有转动轴,所述转动轴上设置有电动机,所述转动轴与电动机传动连接,所述转动轴底部设置有磁铁,所述靶体外侧设置有电极、进水管和出水管,所述电极与靶材电性连接,所述进水管与出水管连通,该磁控溅射台结构简单,安装方便,能够保持刻蚀均匀,靶材利用率高。
【IPC分类】C23C14/35
【公开号】CN205152319
【申请号】CN201520811646
【发明人】蔚璇, 陈娜
【申请人】北京普拉斯马科技有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年10月20日
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