带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种电镀炉，尤其涉及一种可以光学电镀中电镀层厚度不均匀的缺陷进行修正的光学电镀炉。
【背景技术】
[0002]在电镀生产的过程中，常会对一些塑料材质的配件进行表面的电镀，电镀的工作在电镀炉内完成，电镀炉的底部设有用于加热电镀材料使其挥发出去的加热盘，电镀炉的顶部固定有用于固定被电镀产品的锅形结构的电镀伞，该电镀伞呈倒扣的锅形结构，该倒扣的锅状的电镀伞上设有许多个卡扣孔，被电镀的材料通过先与夹具固定后，夹具通过其上端所设置的卡钩与电镀伞相互卡固固定后，夹具和被电镀材料一起固定在电镀伞的下方，被电镀材料的被电镀面朝向电镀炉的下方，开始电镀时，电镀材料放置于电镀炉底部的加热盘，然后将电镀炉的舱门关闭，电热盘升温，位于电热盘内的电镀材料在电热盘的作用下快速挥发，挥发的电镀材料通常会直接上升到电镀炉顶部，之后从电镀炉的顶部开始向下缓慢的流动，直到最终充满电镀炉的内部的空间，这些挥发的气体附着在被电镀材料的外侧，最终形成稳定的电镀层，目前的这种电镀工艺中，由于电热盘上方的电镀材料在电镀过程中始终会处于挥发状态，因此位于加热盘上方电镀材料挥发烟雾的浓度始终会最大，造成电镀过程的不均匀，尽管在电镀过程中电镀伞一直在缓慢旋转，电镀完成后位于加热盘正上方位置电镀伞上的被电镀产品的电镀层，往往比其他位置所固定的被电镀产品表面的电镀层更厚，导致了产品电镀层厚度的不均匀，造成最终的产品表面颜色不一致。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型是为了解决上述的技术问题，提供一种可以减轻电镀过程中电镀层厚度不均匀状况的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉。
[0004]本实用新型采用如下的技术方案:该带有膜层均匀分散装置的电镀炉，包括控制电镀炉进行电镀的中央控制单元、圆筒状的电镀炉炉体、设于电镀炉炉体内上方顶部的电镀伞、以及在电镀炉炉体内一侧的底部设置并与中央控制单元相互电连接的电热盘，被电镀的产品固定于电镀炉炉体内电镀伞的下方，且被电镀产品的被电镀面朝向下方设置，还包括用于旋转的叶片、隔热板和驱动用的电机，所述的电机隔着隔热板在电镀炉炉体外侧与电镀炉炉体密封性固定连接，上述电机的转动轴穿过隔热板和电镀炉炉体上所设的轴孔伸入电镀炉炉体内，所述的叶片与转动轴相互固定，该叶片的轴流出风面朝向电热盘，所述的电机与上述的中央控制单元相互。
[0005]在本实用新型的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉中，所述的电机和中央控制单元之间还连接有电机调速器装置。
[0006]在本实用新型的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉中，所述的叶片的材质为表面抛光并电镀有铜的钢材。
[0007]有益的效果:由于采用了上述的技术方案，本实用新型的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，可以通过调整叶片旋转的速度在电镀的过程中对电热盘内挥发的电镀物质气体进行吹散，使电镀物质挥发物不能随着热流竖直地上升到电镀伞的下表面，不会使电镀伞下表面对应电热盘的位置电镀层最厚，从而避免电镀后电镀层不均匀问题，可以充分利用电镀料，保证电镀质量的稳定。
【附图说明】
[0008]下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
[0009]图1、为本实用新型的电镀炉的结构示意图。
【具体实施方式】
[0010]如图1所示，为本实用新型的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉的一种实施例的结构示意图，该带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，包括控制电镀炉进行电镀的中央控制单元、圆筒状的电镀炉炉体1、设于电镀炉炉体内上方的电镀伞2、以及在电镀炉炉体I内一侧的底部设置并与中央控制单元相互电连接的电热盘10，被电镀的产品固定于电镀炉炉体内电镀伞的下方，且被电镀产品的被电镀面朝向下方设置，还包括用于旋转的叶片8、隔热板3和驱动用的电机18，所述的电机隔着隔热板在电镀炉炉体外侧与电镀炉炉体密封性固定连接，上述电机的转动轴穿过隔热板和电镀炉炉体上所设的轴孔伸入电镀炉炉体内，所述的叶片与转动轴相互固定，该叶片的轴流出风面朝向电热盘，所述的电机与上述的中央控制单元相互。
[0011]更进一步地，所述的电机和中央控制单元之间还连接有电机调速器装置。
[0012]更进一步地，所述的叶片的材质为表面抛光并电镀有铜的钢材。本实用新型的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，可以通过调整叶片旋转的速度在电镀的过程中对电热盘内挥发的电镀物质气体进行吹散，使电镀物质挥发物不能随着热流竖直地上升到电镀伞的下表面，不会使电镀伞下表面对应电热盘的位置电镀层最厚，从而避免电镀后电镀层不均匀问题，可以充分利用电镀料，保证电镀质量的稳定。
【主权项】
1.一种带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，包括控制电镀炉进行电镀的中央控制单元、圆筒状的电镀炉炉体、设于电镀炉炉体内上方顶部的电镀伞、以及在电镀炉炉体内一侧的底部设置并与中央控制单元相互电连接的电热盘，被电镀的产品固定于电镀炉炉体内电镀伞的下方，且被电镀产品的被电镀面朝向下方设置，其特征在于:还包括用于旋转的叶片、隔热板和驱动用的电机，所述的电机隔着隔热板在电镀炉炉体外侧与电镀炉炉体密封性固定连接，上述电机的转动轴穿过隔热板和电镀炉炉体上所设的轴孔伸入电镀炉炉体内，所述的叶片与转动轴相互固定，该叶片的轴流出风面朝向电热盘，所述的电机与上述的中央控制单元相互。2.如权利要求1所述的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，其特征在于:所述的电机和中央控制单元之间还连接有电机调速器装置。3.如权利要求1所述的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，其特征在于:所述的叶片的材质为表面抛光并电镀有铜的钢材。
【专利摘要】本实用新型涉及一种带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，包括控制电镀炉进行电镀的中央控制单元、圆筒状电镀炉炉体、设于电镀炉炉体内上方顶部的电镀伞、以及在电镀炉炉体内一侧底部设置并与中央控制单元相互电连接的电热盘，还包括用于旋转的叶片、隔热板和驱动用的电机。本实用新型的带有膜层均匀分散装置的光学电镀炉，可以通过调整叶片旋转的速度在电镀的过程中对电热盘内挥发的电镀物质气体进行吹散，使电镀物质挥发物不能随着热流竖直地上升到电镀伞的下表面，不会使电镀伞下表面与电热盘对应的位置电镀层最厚，从而避免电镀后电镀层不均匀问题，可以充分利用所有的电镀料，保证电镀质量的稳定性。
【IPC分类】C23C14/24
【公开号】CN205170962
【申请号】CN201520492192
【发明人】伍冬瑞
【申请人】深圳市联懋塑胶有限公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2015年7月9日