用于真空镀膜系统的环形坩埚的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种用于真空镀膜系统的环形坩祸。作为蒸镀材料的载体，能有效提高蒸镀材料预熔后结构密度，从而改善产品质量。
【背景技术】
[0002]目前，真空蒸镀系统所使用的蒸镀材料的载体环形坩祸，其环形主体是一个空心的圆环体，圆环体内部开一道通冷却水的环槽，环槽内外圈靠两条氟橡胶密封圈和底板通过螺栓连接，形成由两条密封圈间水冷却循环结构。由于环形主体是一个空心圆，冷却水槽的冷却量有限，导致膜料在电子束轰击熔化时不能够迅速冷却，从而容易出现空穴现象，最终导致在产品镀制过程中出现蒸镀速率不稳定情况而影响产品的性能。
【实用新型内容】
[0003]为了克服普通环形坩祸在真空蒸镀熔料过程出现空穴情况，本实用新型提供了一种用于真空镀膜系统的环形坩祸，能有效提高蒸镀材料在电子束轰击熔料过程中材料的结构密度，解决蒸镀过程速率不稳定的情况。
[0004]本实用新型解决技术问题所使用的技术方案是:
[0005]—种用于真空镀膜系统的环形坩祸，包括环形主体、水流分流板、底板、冷却水导管、旋转主轴，环形主体的中心通过螺丝固定水流分流板，外圈设有氟橡胶密封圈，底板通过固定螺栓与固定水流分流板相连压紧氟橡胶密封圈后形成一个中空腔体为冷却水提供循环空间，然后整体固定在电机的旋转主轴上，主轴中空，内部设有冷却水导管为所述中空腔体提供冷却水。
[0006]所述的环形主体进一步设有上盖板，用于为防止蒸镀过程对固定螺栓的污染。
[0007]本实用新型的有益效果是:由于水冷面积大能够最大限度保证蒸镀材料由颗粒状熔化液体后变为固体时的结构密度，防止了在蒸镀过程中因出现材料空穴造成成膜速率跳动而影响成膜质量问题。最终能够节约蒸镀材料，延长烧坑时间，提高膜层稳定性。增大水冷却面积后可以避免蒸镀材料在预熔料过程中出现的结构密度问题，能有效减少预熔次数节约蒸镀材料稳定蒸镀速率。
【附图说明】
[0008]下面结合附图和实例对本实用新型进一步说明。
[0009]图1为本实用新型的一种爆炸图；
[0010]其中，环形主体1、水流分流板2、底板3、固定螺栓4、上盖板5、冷却水导管6、旋转主轴7，氟橡胶圈为标准件图中未标出；
[0011 ]图2为本实用新型的一种装配后的剖面图。
【具体实施方式】
[0012]本实用新型将将传统的蒸镀材料载体环形坩祸的环形主体由原来的空心圆环体，加工成一个表面看起来是整个圆环而内部大面积中空的结构，并增加一个水流分流板，此分流板水流固定于环形主体内部，故环形主体与底板的密封由原来两道变为一道。这种结构增加了环形坩祸的冷却面积有效增大冷却量，从而克服常规环形坩祸熔料中出现的材料结构密度不一致问题。
[0013]—种用于真空镀膜系统的环形坩祸，包括环形主体1、水流分流板2、底板3、冷却水导管6、旋转主轴7，环形主体I的中心通过螺丝固定水流分流板2，外圈设有氟橡胶密封圈，底板3通过固定螺栓4与固定水流分流板2相连压紧氟橡胶密封圈后形成一个中空腔体为冷却水提供循环空间，然后整体固定在电机的旋转主轴7上，主轴中空，内部设有冷却水导管6为所述中空腔体提供冷却水。
[0014]所述的环形主体I进一步设有上盖板5，用于为防止蒸镀过程对固定螺栓的污染。当然对于本领域技术人员来说也可以采用其它方式来防止该污染，图中仅示出有盖板5的情形。
[0015]实施例
[0016]如图1所示，将氟橡胶圈放入环形主体I中，注意先将橡胶圈清洁后涂一层真空润滑脂，以防损坏密封圈。环形主体I与水流分流板2通过M3螺丝固定，然后将底板3与通过固定螺栓4连为一体，插入冷却水导管6，将连接好的主体通过外六角螺栓(此螺栓尾部一般需带有密封圈槽)固定到旋转主轴7上完成连接，盖板5主要是为防止蒸镀过程对外六角螺栓的污染。
[0017]装配后的剖面图如图2所示。
[0018]其中，环形主体I由无氧铜材料加工成型，水流分流板2由SUS304板加工，底板3由SUS304材料加工。
[0019]所述环形坩祸，环形主体I设有的矩形槽道放置蒸镀材料由高压电子枪产生电子束对材料进行预熔，环形主体I与底板3之间充满冷却循环水对蒸镀材料预熔后迅速冷却保证了预熔材料凝固时结构密度，由调速电机带动环形坩祸转动完成材料预熔。
【主权项】
1.一种用于真空镀膜系统的环形坩祸，其特征是:包括环形主体(I)、水流分流板(2)、底板(3)、冷却水导管(6)、旋转主轴(7)，环形主体(I)的中心通过螺丝固定水流分流板(2)，外圈设有氟橡胶密封圈，底板(3)通过固定螺栓(4)与固定水流分流板(2)相连压紧氟橡胶密封圈后形成一个中空腔体为冷却水提供循环空间，然后整体固定在电机的旋转主轴(7)上，主轴中空，内部设有冷却水导管(6 )为所述中空腔体提供冷却水。2.根据权利要求1的所述环形坩祸，其特征是:所述的环形主体I进一步设有上盖板(5)， 用于为防止蒸镀过程对固定螺栓的污染。
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于真空镀膜系统的环形坩埚，包括环形主体、水流分流板、底板、冷却水导管、旋转主轴，环形主体的中心通过螺丝固定水流分流板，外圈设有氟橡胶密封圈，底板通过固定螺栓与固定水流分流板相连压紧氟橡胶密封圈后形成一个中空腔体为冷却水提供循环空间，然后整体固定在电机的旋转主轴上，主轴中空，内部设有冷却水导管为所述中空腔体提供冷却水。所述的环形主体进一步设有上盖板，用于为防止蒸镀过程对固定螺栓的污染。本实用新型的有益效果是：增大冷却水冷却面积后可以避免蒸镀材料在预熔料过程中出现的结构密度问题，能有效减少预熔次数节约蒸镀材料稳定蒸镀速率。
【IPC分类】C23C14/24
【公开号】CN205188413
【申请号】CN201520920849
【发明人】谢继闯
【申请人】合波光电通信科技有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2015年11月18日