碱性蚀刻废液处理循环再生装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于碱性蚀刻废液处理技术领域，具体涉及一种碱性蚀刻废液处理循环再生装置。
【背景技术】
[0002]近年来随着电子工业的发展，其已成为我国最大的支柱产业之一，而作为电子部件和电子元器件的支撑体的印制电路板(简称PCB)也发展迅速，产量也随之逐年增加，然而，随之产生的环境问题也日益严重。
[0003]国内印制电路板企业主要分布在华南地区，其中大型PCB企业，珠江三角洲占46.62%,是PCB行业主要聚集地，同时也是PCB行业污染最为严重的地区之一，而PCB行业产生污染主要是碱性蚀刻废液。碱性蚀刻液是由于印制电路板行业中蚀刻工艺中的碱性蚀刻液能够腐蚀电路板上多余的铜箔，所以碱性蚀刻液中的铜含量会逐渐增加，当碱性蚀刻液中铜的含量到达一定浓度时，碱性蚀刻液腐蚀铜的效率下降，因此成为碱性蚀刻废液被排放。由于碱性蚀刻废液含铜量高达150g/L-200g/L，对周边环境及其人类都造成了严重的危害，这不仅仅是一种环境的污染，更是一种资源的浪费。
[0004]传统碱性蚀刻废液通常的处理方法包括化学沉淀法、萃取法和碱性直接电解法，但这些方法存在二次污染、处理成本高，程序相对复杂，资源浪费严重等问题。因此，研究碱性蚀刻废液资源化处理有着相当广阔的前景。
【实用新型内容】
[0005]为了解决现有技术中碱性蚀刻液处理成本高、效益低的难题，本实用新型提出一种碱性蚀刻废液处理循环再生装置，该装置中废液直接电解后再通过循环槽进入旋流电解装置进行电解，处理后铜离子浓度降低至0.5g/L以下，废液回用物料消耗少，回用成本低。
[0006]本实用新型的技术方案是这样实现的:
[0007]—种碱性蚀刻废液处理循环再生装置，包括蚀刻机、废液储存罐、直接电解槽、循环槽、旋流电解装置、再生液储存罐与再生液调节罐，所述蚀刻机与所述废液储存罐连接，所述废液储存罐与所述直接电解槽连接，所述直接电解槽与所述循环槽连接，所述循环槽与所述旋流电解装置的进液口连接，所述旋流电解装置的出液口与所述循环槽连接，所述循环槽与所述再生液储存罐连接，所述再生液储存罐与所述再生液调节罐连接，所述再生液调节罐与所述蚀刻机连接。
[0008]进一步，所述废液储存罐与所述直接电解槽之间设置有过滤装置。
[0009 ]进一步，所述蚀刻机与所述废液储存罐之间设置有中转缸。
[0010]进一步，所述蚀刻机与所述中转缸之间设置有第一磁力栗，所述中转缸与所述废液储存罐之间设置有第二磁力栗，所述过滤装置与所述直接电解槽之间设置有第三磁力栗，所述直接电解槽与所述循环槽之间设置有第四磁力栗，所述循环槽与所述旋流电解装置的进液口之间设置有第五磁力栗，所述循环槽与所述再生液储存罐之间设置有第六磁力栗，所述再生液储存罐与所述再生液调节罐之间设置有第七磁力栗，所述再生液调节罐与所述蚀刻机之间设置有第八磁力栗。
[0011]本实用新型的碱性蚀刻废液处理循环再生装置工作原理为:
[0012]将蚀刻机中的碱性蚀刻废液栗入中转缸，再将中转缸中的废液栗入废液储存罐中，废液储存罐中的废液经过过滤装置处理后栗入直接电解槽进行电解提铜，将提铜后的废液栗入循环槽中。循环槽与旋流电解装置的进液口与出液口均连接，进行循环槽中的提铜后的废液进入旋流电解槽中再次进行提铜处理，二次提铜处理后的废液进入循环槽中，然后通过循环槽栗入再生液储存罐中，这时直接电解槽处理的后废液停止进入循环槽中。再将再生液储存罐中的回收废液栗至再生液调节罐中进行回用参数调整，再将经过参数调整后的再生液栗入蚀刻机中再次循环利用。
[0013]本实用新型的有益效果:
[0014]本实用新型的碱性蚀刻废液处理循环再生装置中废液直接电解后再通过循环槽进入旋流电解装置进行电解，处理后铜离子浓度降低至0.5g/L以下，废液回用物料消耗少，回用成本低。
【附图说明】
[0015]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本实用新型碱性蚀刻废液处理循环再生装置的结构示意图。
[0017]附图标示:1、蚀刻机，2、中转缸，3、废液储存罐，4、过滤装置，5、直接电解槽，6、循环槽，7、旋流电解装置，8、再生液储存罐，9、再生液调节罐，10、第一磁力栗，11、第二磁力栗，12、第三磁力栗，13、第四磁力栗，14、第五磁力栗，15、第六磁力栗，16、第七磁力栗，17、第八磁力栗，箭头方向表示液体流向。
【具体实施方式】
[0018]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0019]参照图1，一种碱性蚀刻废液处理循环再生装置，包括蚀刻机1、中转缸2、废液储存罐3、过滤装置4、直接电解槽5、循环槽6、旋流电解装置7、再生液储存罐8与再生液调节罐9。蚀刻机I与中转缸2连接，中转缸2与废液储存罐3连接，废液储存罐3与过滤装置4连接，过滤装置4与直接电解槽5连接，直接电解槽5与循环槽6连接，循环槽6与旋流电解装置7的进液口连接，旋流电解装置7的出液口与循环槽6连接，循环槽6与再生液储存罐8连接，再生液储存罐8与再生液调节罐9连接，再生液调节罐9与蚀刻机丨连接。蚀刻机丨与中转缸2之间设置有第一磁力栗10。中转缸2与废液储存罐3之间设置有第二磁力栗11。过滤装置4与直接电解槽5之间设置有第三磁力栗12。直接电解槽5与循环槽6之间设置有第四磁力栗13。循环槽6与旋流电解装置7的进液口之间设置有第五磁力栗14。循环槽6与再生液储存罐8之间设置有第六磁力栗15。再生液储存罐8与再生液调节罐9之间设置有第七磁力栗16。再生液调节罐9与蚀刻机I之间设置有第八磁力栗17。
[0020]本实用新型的碱性蚀刻废液处理循环再生装置中废液直接电解后再通过循环槽6进入旋流电解装置7进行电解，处理后铜离子浓度降低至0.5g/L以下，废液回用物料消耗少，回用成本低。
[0021]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种碱性蚀刻废液处理循环再生装置，其特征在于，包括蚀刻机、废液储存罐、直接电解槽、循环槽、旋流电解装置、再生液储存罐与再生液调节罐，所述蚀刻机与所述废液储存罐连接，所述废液储存罐与所述直接电解槽连接，所述直接电解槽与所述循环槽连接，所述循环槽与所述旋流电解装置的进液口连接，所述旋流电解装置的出液口与所述循环槽连接，所述循环槽与所述再生液储存罐连接，所述再生液储存罐与所述再生液调节罐连接，所述再生液调节罐与所述蚀刻机连接。2.根据权利要求1所述的碱性蚀刻废液处理循环再生装置，其特征在于，所述废液储存罐与所述直接电解槽之间设置有过滤装置。3.根据权利要求2所述的碱性蚀刻废液处理循环再生装置，其特征在于，所述蚀刻机与所述废液储存罐之间设置有中转缸。4.根据权利要求3所述的碱性蚀刻废液处理循环再生装置，其特征在于，所述蚀刻机与所述中转缸之间设置有第一磁力栗，所述中转缸与所述废液储存罐之间设置有第二磁力栗，所述过滤装置与所述直接电解槽之间设置有第三磁力栗，所述直接电解槽与所述循环槽之间设置有第四磁力栗，所述循环槽与所述旋流电解装置的进液口之间设置有第五磁力栗，所述循环槽与所述再生液储存罐之间设置有第六磁力栗，所述再生液储存罐与所述再生液调节罐之间设置有第七磁力栗，所述再生液调节罐与所述蚀刻机之间设置有第八磁力栗ο
【专利摘要】本实用新型公开了一种碱性蚀刻废液处理循环再生装置，包括蚀刻机、废液储存罐、直接电解槽、循环槽、旋流电解装置、再生液储存罐与再生液调节罐，蚀刻机与废液储存罐连接，废液储存罐与直接电解槽连接，直接电解槽与循环槽连接，循环槽与旋流电解装置的进液口连接，旋流电解装置的出液口与循环槽连接，循环槽与再生液储存罐连接，再生液储存罐与再生液调节罐连接，再生液调节罐与蚀刻机连接。该装置中废液直接电解后再通过循环槽进入旋流电解装置进行电解，处理后铜离子浓度降低至0.5g/L以下，废液回用物料消耗少，回用成本低。
【IPC分类】C23F1/46
【公开号】CN205223355
【申请号】CN201520962734
【发明人】帅和平
【申请人】深圳市瑞世兴科技有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2015年11月26日