真空溅射设备及用其制备得到的复合铝箔的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种真空溅射设备，此外，本实用新型还涉及了用上述真空溅射设备制备得到的复合铝箔。
【背景技术】
[0002]铝箔表面容易因氧化而形成一层致密的氧化层，氧化层的导热性能不佳从而使铝箔的导热性能降低，在铝箔的表面加一层导热层，能很好得提高其散热效果。现在大多采用贴石墨烯膜的方法，贴上去的石墨烯膜对粘结剂要求比较高，即要求有良好导热性能的同时，又要求有优良的粘结性，固使用时成本较高。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是为了克服现有技术中铝箔贴石墨烯膜而造成的成本高的问题，提供一种真空溅射设备及用其制备得到的复合铝箔，产品不仅其导热性能比现有技术中贴附有石墨稀的招猜的导热性能更尚，而且成本低。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型的技术采用以下技术方案:
[0005]—种真空溅射设备，包括真空溅射室以及设于所述真空溅射室内的阴极板、铝箔放卷辊、铝箔收卷辊、铝箔传动辊，所述真空溅射室底部室壁上设有抽真空口和氩气入口，所述阴极板设于真空溅射室内上方，所述阴极板上附有石墨烯块料，所述铝箔放卷辊和铝箔收卷辊设于所述阴极板下方两侧，分别完成铝箔的放卷和收卷，所述铝箔传动辊设于所述铝箔放卷辊和铝箔收卷辊之间，用于使铝箔在阴极板下方水平传动，便于石墨烯块料镀于铝箔上。
[0006]作为优选地，为了使铝箔的传动过程中传动更加平缓，增加铝箔上镀石墨烯的效果，所述铝箔传动辊有四个，工作条件下，所述真空溅射室内的真空度为-0.1MPa，电极电压1200?2500V。
[0007]作为优选地，所述石墨烯块料为品质疏松的石墨烯块料。
[0008]—种复合铝箔，包括铝箔本体，所述铝箔本体的表面镀有石墨烯层，工作状态下，所述真空溅射设备的真空度为-0.1MPa，电极电压为1200?2500V。
[0009]作为优选的，镀成的所述石墨烯层的厚度为1-2微米。
[0010]作为优选地，所述石墨稀块料为品质疏松的石墨稀块料，。
[0011]与现有技术相比，本实用新型具有的有益效果为:本实用新型的石墨烯层薄，节省原材料且吸附效果好。相对于贴附的石墨烯膜，铝箔和石墨烯层之间没有一层粘着剂，产品导热性能更佳，石墨烯真空溅射，附着效果好。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型实施例1的结构示意图；
[0013]图2为本实用新型实施例2的结构示意图。
[0014]图中:1-真空溅射室；11-抽真空口；12-氩气入口；2-阴极板;3-铝箔放卷辊;4-铝箔收卷棍;5-招箔传动棍；6-石墨稀块料;7-招箔;8-石墨稀层。
【具体实施方式】
[0015]为让本领域的技术人员更加清晰直观的了解本实用新型，下面将结合附图，对本实用新型作进一步的说明。
[0016]实施例1
[0017]本实施例的真空溅射设备如图1所示，包括真空溅射室I以及设于真空溅射室I内的阴极板2、铝箔放卷辊3、铝箔收卷辊4、铝箔传动辊5，真空溅射室I底部室壁上设有抽真空口 11和氩气入口 12，阴极板2设于真空溅射室I内上方，阴极板2上附有石墨烯块料6，铝箔放卷辊3和铝箔收卷辊4设于阴极板2下方两侧，分别完成铝箔7的放卷和收卷，铝箔传动辊5设于铝箔放卷辊3和铝箔收卷辊4之间，用于使铝箔7在阴极板2下方水平传动，便于石墨烯块料6镀于铝箔7上，其中，为了使铝箔7的传动过程中传动更加平缓，增加铝箔7上镀石墨烯的效果，铝箔传动辊5有四个，工作条件下，真空溅射室I内的真空度为-0.1MPa，电极电压1200?2500V。
[0018]实施例2
[0019]本实施例的复合铝箔包括图2所示，包括铝箔7以及镀于铝箔7表面的石墨烯层8，工作状态下，真空溅射室I内的真空度为-0.1MPa，电极电压1200?2500V。
[0020]作为优选的，镀成的石墨烯层8的厚度为1-2微米。
[0021]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种真空溅射设备，其特征在于:包括真空溅射室以及设于所述真空溅射室内的阴极板、铝箔放卷辊、铝箔收卷辊、铝箔传动辊，所述真空溅射室底部室壁上设有抽真空口和氩气入口，所述阴极板设于真空溅射室内上方，所述阴极板上附有石墨烯块料，所述铝箔放卷辊和铝箔收卷辊设于所述阴极板下方两侧，分别完成铝箔的放卷和收卷，所述铝箔传动辊设于所述铝箔放卷辊和铝箔收卷辊之间，用于使铝箔在阴极板下方水平传动，便于石墨烯块料镀于铝箔上。2.根据权利要求1所述的真空溅射设备，其特征在于:所述铝箔传动辊有四个。3.根据权利要求1所述的真空溅射设备，其特征在于:所述石墨烯块料为品质疏松的石墨烯块料。4.一种用权利要求1?3任一项所述的真空溅射设备制备得到的复合铝箔，其特征在于:包括铝箔本体，所述铝箔本体的表面镀有石墨烯层。5.根据权利要求4所述的复合铝箔，其特征在于:镀成的所述石墨烯层的厚度为1-2微米。6.根据权利要求4所述的复合铝箔，其特征在于:所述石墨烯块料为品质疏松的石墨烯块料。
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空溅射设备及用其制备得到的复合铝箔，包括真空溅射室以及设于所述真空溅射室内的阴极板、铝箔放卷辊、铝箔收卷辊、铝箔传动辊，所述真空溅射室底部室壁上设有抽真空口和氩气入口，所述阴极板设于真空溅射室内上方，所述阴极板上附有石墨烯块料，所述铝箔放卷辊和铝箔收卷辊设于所述阴极板下方两侧，分别完成铝箔的放卷和收卷，所述铝箔传动辊设于所述铝箔放卷辊和铝箔收卷辊之间，用于使铝箔在阴极板下方水平传动，便于石墨烯块料镀于铝箔上。本实用新型的石墨烯层薄，节省原材料且吸附效果好。相对于贴附的石墨烯膜，铝箔和石墨烯层之间没有一层粘着剂，产品导热性能更佳，石墨烯真空溅射，附着效果好。
【IPC分类】B32B15/04, C23C14/06, B32B9/04, C23C14/34
【公开号】CN205313659
【申请号】CN201520585834
【发明人】相小琴
【申请人】常州富烯科技股份有限公司
【公开日】2016年6月15日
【申请日】2015年8月6日