一种消失模砂箱振实台的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及一种振动压实装置，具体而言，涉及一种消失模砂箱振实台。
【背景技术】
[0002]目前的干砂振实装置，通常将砂箱放置在振动平台上，通过振动电机的振动使松散的干砂夯实，现有技术使用的通常为三维振实台，通常采用弹簧和振动电机组合，通过上下、左右、前后的三维运动振动来完成工作，但是存在一下几个问题，当振动电机提供的振动幅度较大时，砂箱放置在振动平台上不稳定，如果减小振动电机的振幅，又达不到振动要求。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种消失模砂箱振实台，以解决上述问题。
[0004]为实现本实用新型目的，采用的技术方案为:一种消失模砂箱振实台，包括底座，所述底座上设置有支柱，所述支柱上方设置有台面，且台面与支柱之间设置有空气弹簧;所述台面下固定设置有振动电机，台面上设置有立架，且立架上铰接设置有卡紧爪;所述立架的外围安装有框架，框架与卡紧爪的一端铰接，框架的下端设置推动装置，推动装置的下端固定在台面上。
[0005]进一步的，所述卡紧爪至少为4个，且4个卡紧爪共同铰接在框架上。
[0006]进一步的，所述推动装置为2个，且2个推动装置分别设置在框架的对角上。
[0007]进一步的，所述推动装置为气缸。
[0008]本实用新型的有益效果是，本实用新型将4个卡紧爪的一端共同固定在框架上，而框架下端的对角上安装2个推动装置推动框架，使框架向上移动的同时，所有的卡紧爪同时对砂箱进行卡紧，操作方便快速。同时减少了气缸的安装数量，节约了成本。本实用新型结构简单，能有效的对砂箱进行卡紧，使用方便，运行可靠且稳定。
【附图说明】
[0009]图1是本实用新型提供的消失模砂箱振实台的结构图；
[0010]附图中标记及相应的零部件名称:
[0011]1、底座，2、支柱，3、台面，4、空气弹簧，5、振动电机，6、立架，7、框架，8、卡紧爪，
9、推动装置。
【具体实施方式】
[0012]下面通过具体的实施例子并结合附图对本实用新型做进一步的详细描述。
[0013]图1所示出了本实用新型提供的一种消失模砂箱振实台，包括底座I，所述底座I上设置有支柱2，所述支柱2上方设置有台面3，且台面3与支柱2之间设置有空气弹簧4;所述台面3下固定设置有振动电机5，台面3上设置有立架6，且立架6上铰接设置有卡紧爪8;所述立架的6外围安装有框架7，框架7与卡紧爪8的一端铰接，框架7的下端设置推动装置9，推动装置9的下端固定在台面3上。
[0014]所述卡紧爪8至少为4个，且4个卡紧爪8共同铰接在框架7上，可以有效的对砂箱进行卡紧，使砂箱更加稳固。所述推动装置9为2个，且2个推动装置9分别设置在框架7的对角上，减少了推动装置9的数量，节约了生产成本。所述推动装置9为气缸，推动效果更好，推动速度快。
[0015]先将砂箱上放置在台面上，此时通过推动装置9推动框架向上移动，通过框架7向上移动的同时使卡紧爪8的一端向上移动，此时卡紧爪8的卡头将砂箱卡紧。此时台面3下固定的振动电机5开始运行，台面3开始振动，从而实现砂箱的振实。
[0016]以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种消失模砂箱振实台，其特征在于:包括底座，所述底座上设置有支柱，所述支柱上方设置有台面，且台面与支柱之间设置有空气弹簧;所述台面下固定设置有振动电机，台面上设置有立架，且立架上铰接设置有卡紧爪;所述立架的外围安装有框架，框架与卡紧爪的一端铰接，框架的下端设置推动装置，推动装置的下端固定在台面上。2.根据权利要求1所述的消失模砂箱振实台，其特征在于，所述卡紧爪至少为4个，且4个卡紧爪共同铰接在框架上。3.根据权利要求1所述的消失模砂箱振实台，其特征在于，所述推动装置为2个，且2个推动装置分别设置在框架的对角上。4.根据权利要求1所述的消失模砂箱振实台，其特征在于，所述推动装置为气缸。
【专利摘要】本实用新型公开了一种消失模砂箱振实台,涉及一种振动压实装置，包括底座，所述底座上设置有支柱，所述支柱上方设置有台面，且台面与支柱之间设置有空气弹簧；所述台面下固定设置有振动电机，台面上设置有立架，且立架上铰接设置有卡紧爪；所述立架的外围安装有框架，框架与卡紧爪的一端铰接，框架的下端设置推动装置，推动装置的下端固定在台面上。本实用新型结构简单，能有效的对砂箱进行卡紧，使用方便，运行可靠且稳定。
【IPC分类】B22C9/04, B22C15/14
【公开号】CN205324655
【申请号】CN201521043862
【发明人】李思兵, 邓琳琅, 何开奎
【申请人】宜宾玖鼎精密铸造有限公司
【公开日】2016年6月22日
【申请日】2015年12月15日