滚珠离子镀膜用盘式支撑装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种在离子束辅助沉积镀膜时对滚珠进行支撑的盘式支撑装置，属于一种夹具。
【背景技术】
[0002 ]离子束辅助沉积镀膜作为一种金属材料表面改性的手段，可以实现向金属材料表面注入任何种类的元素而不受元素间固溶度的限制。离子束辅助沉积镀膜不仅可以改变金属材料的表面特性，如:材料表面的力学性能、物理性能、抗腐蚀性能等，还可保证材料的光洁度与精度，且不影响材料的基体性能。轴承广泛应用在各种工业设备和动力机械上，它是使表面作相对滑动、保持恒定的相对位置并承担一定载荷的活动部件，它的工作稳定性及使用寿命的长短直接影响到设备整体的工作稳定性和工作效率。这就要求轴承中滚珠表面具有极高的耐磨性和疲劳强度，并具有极佳的摩擦学特性。为了达到上述目标，可以采用镀膜的方法使滚珠表面性能得到改善，在对滚珠进行镀膜时，需要对滚珠进行支撑，而现有技术中的普通夹具不能适应不同尺寸、不同类型的滚珠镀膜的需求。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种滚珠离子镀膜用盘式支撑装置，以解决现有技术中的普通夹具不能适应不同尺寸、不同类型的滚珠镀膜的需求的问题。
[0004]为了实现以上目的，本实用新型采用如下技术方案:一种滚珠离子镀膜用盘式支撑装置，包括底座，底座的上方设置有固定在底座上的轴承支架，底座上通过轴承转动装配有主轴，主轴穿过轴承支架上开设的安装孔并通过轴承与轴承支架转动配合，主轴上设置有带动主轴转动的齿轮，主轴穿出轴承支架的上端部固定装配有滚珠支撑盘，滚珠支撑盘的上表面上布设有用于放置滚珠的凹槽。
[0005]所述的轴承支架通过两侧的立柱与底座固定，立柱的上端固定在轴承支架上，立柱的下端固定在底座上。
[0006]所述的凹槽为圆形凹槽。
[0007]所述的凹槽布设在一组同心圆上。
[0008]所述的齿轮设置在主轴处在轴承支架与底座之间的部分上。
[0009]本实用新型通过滚珠支撑盘对滚珠进行支撑，滚珠设置在滚珠支撑盘的上表面上设置的凹槽内，可以对不同尺寸、不同类型的滚珠进行支撑，提高了滚珠镀膜装置的通用性;同时，通过齿轮转动可以使得滚珠支撑盘自转，提高了滚珠镀膜效率和镀膜的均匀性。
[0010]另外，本实用新型的结构简单，不易损坏；制造简单，维护成本低;体积小巧，可在空间有限的镀膜设备真空室内放置多个，空间利用率高，提高了生产效率。
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型实施例的整体结构示意图；
[0012]图2是图1的俯视图；
[0013]图3是图1的左视图。
【具体实施方式】
[0014]—种滚珠离子镀膜用盘式支撑装置的实施例，在图1、图2以及图3中，其底座5的上方设置有轴承支架2，轴承支架2通过两侧的立柱7与底座5固定，立柱7的上端固定在轴承支架2上，立柱7的下端固定在底座5上，底座5的上表面上向下凹设有盲孔，轴承支架2上具有安装孔，主轴6穿过轴承支架2上的安装孔，下端伸入底座5的盲孔中，主轴6与底座和轴承支架2之间设置有轴承4，主轴6可以相对于底座5和轴承支架2转动，主轴6的上端伸出轴承支架2，主轴6处在轴承支架2与底座3之间的部分上装配有齿轮3，齿轮3可以带动主轴6转动，主轴6穿出轴承支架2的上端部固定装配有滚珠支撑盘I，滚珠支撑盘I的上表面上布设有凹槽8，凹槽8为圆形凹槽。凹槽8布设在一组同心圆上，凹槽8的作用是用于放置滚珠。
[0015]本实施例中的齿轮是设置在主轴6处在轴承支架2与底座3之间的部分上，也可以处在主轴6的其它部位。
[0016]本实用新型的轴承支架通过两侧的立柱与底座固定，也可以通过其它现有技术中的其它结构固定在底座上。
[0017]本实施例中的凹槽为圆形凹槽，也可以为矩形凹槽或椭圆形凹槽。
[0018]本实施例中的凹槽布设在一组同心圆上，也可以排设成多行或多列。
[0019]在镀膜时通过底座将本实施例中的产品固定在离子束辅助沉积镀膜腔体内部，将滚珠放置在滚珠支撑盘I上；启动离子束辅助沉积镀膜设备，外部动力通过齿轮3将动力引入，再将动力输出到滚珠支撑盘I上，使被镀膜的滚珠旋转起来;被镀膜的滚珠将随着滚珠支撑盘转动并通过底座5在镀膜腔内绕中心轴公转，完成滚珠表面的镀膜处理。
[0020]上述实施例是结合附图对本实用新型的介绍，本实用新型的保护范围并不局限于上述限定，任何对本实用新型简单变换后得到的方案也均属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种滚珠离子镀膜用盘式支撑装置，其特征在于:包括底座，底座的上方设置有固定在底座上的轴承支架，底座上通过轴承转动装配有主轴，主轴穿过轴承支架上开设的安装孔并通过轴承与轴承支架转动配合，主轴上设置有带动主轴转动的齿轮，主轴穿出轴承支架的上端部固定装配有滚珠支撑盘，滚珠支撑盘的上表面上布设有用于放置滚珠的凹槽。2.根据权利要求1所述的滚珠离子镀膜用盘式支撑装置，其特征在于:所述的轴承支架通过两侧的立柱与底座固定，立柱的上端固定在轴承支架上，立柱的下端固定在底座上。3.根据权利要求1或2所述的滚珠离子镀膜用盘式支撑装置，其特征在于:所述的凹槽为圆形凹槽。4.根据权利要求3所述的滚珠离子镀膜用盘式支撑装置，其特征在于:所述的凹槽布设在一组同心圆上。5.根据权利要求4所述的滚珠离子镀膜用盘式支撑装置，其特征在于:所述的齿轮设置在主轴处在轴承支架与底座之间的部分上。
【专利摘要】本实用新型公开了一种滚珠离子镀膜用盘式支撑装置，包括底座，底座的上方设置有固定在底座上的轴承支架，底座上通过轴承转动装配有主轴，主轴穿过轴承支架上开设的安装孔并通过轴承与轴承支架转动配合，主轴上设置有带动主轴转动的齿轮，主轴穿出轴承支架的上端部固定装配有滚珠支撑盘，滚珠支撑盘的上表面上布设有用于放置滚珠的凹槽，本实用新型通过滚珠支撑盘对滚珠进行支撑，滚珠设置在滚珠支撑盘的上表面上设置的凹槽内，可以对不同尺寸、不同类型的滚珠进行支撑，提高了滚珠镀膜装置的通用性；同时，通过齿轮转动可以使得滚珠支撑盘自转，提高了滚珠镀膜效率和镀膜的均匀性。
【IPC分类】C23C14/50
【公开号】CN205329156
【申请号】CN201620096312
【发明人】王志新, 马明星, 张志汉, 张宪斌
【申请人】郑州启航精密科技有限公司
【公开日】2016年6月22日
【申请日】2016年1月29日