一种真空镀膜衬底高温加热装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及真空的技术领域，更具体地，涉及一种真空镀膜衬底高温加热装置。
【背景技术】
[0002]当前的真空镀膜技术中，真空射频溅射镀膜技术是一种常用的镀膜技术之一，由于它具有成膜均匀度高、附着力强等特点，在集成电路和固体电子器件的生产中得到广泛的应用。为了提高薄膜的性能，经常需要给衬底加热，因为衬底温度与薄膜性能有十分紧密的联系，如ZnO薄膜的择优取向、内应力等参数，然而在镀膜过程中，衬底暴露于真空室内，由于工作气体在电场作用下发生电离，真空室内存在大量带电粒子，这些带电粒子很容易在加热导线间聚集放电而形成短路，导致烧毁保险丝或电阻丝而导致加热无法进行。
【发明内容】
[0003]本实用新型为克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，提供一种真空镀膜衬底高温加热装置，仅有加热片上的凹槽暴露在真空室内，有效防止了带电粒子在加热导线间放电而形成短路。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是:一种真空镀膜衬底高温加热装置，其中，包括屏蔽盒、法兰、接线柱、热电偶、导电片、加热片夹具、加热片，所述的热电偶、导电片、加热片夹具均置于屏蔽盒内；
[0005]所述的法兰包括热电偶法兰和导电片法兰，所述的热电偶一端与热电偶法兰固定，另一端延伸到加热片上;接线柱设于热电偶法兰和导电片法兰上；
[0006]导电片法兰上的接线柱连接导电片，导电片一侧设有加热片夹具，加热片夹具之间夹紧加热片；
[0007]所述的屏蔽盒在两加热片夹具之间上方开有一个窗口。
[0008]进一步的，所述的加热片上设有凹槽，凹槽内放置衬底，使加热片上的凹槽能暴露于真空室中。
[0009]进一步的，所述的热电偶位于衬底上方0.5?2cm，通过热电偶法兰外端的接线柱与外电路连接。
[0010]进一步的，所述的导电片为波浪形铜片，位于加热片夹具和导电片法兰之间，连接导电片法兰上端的接线柱，有效防止加热和冷却过程中由于热胀冷缩而产生的拉伸效应。
[0011]进一步的，所述的加热片夹具上设有两颗固定螺丝，用于固定加热片。所述的加热片是低阻硅片。
[0012]与现有技术相比，有益效果是:本实用新型将加热片固定在两加热片夹具之间，调节输入电流的大小即可对衬底进行加热。由于采用了屏蔽盒的设计并且加热导线之间距离较远，仅有加热片上的凹槽暴露在真空室内，有效防止了带电粒子在加热导线间放电而形成短路。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型真空镀膜衬底高温加热装置全图。
[0014]图2是本实用新型真空镀膜衬底高温加热装置具体工件图。
【具体实施方式】
[0015]附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制;为了更好说明本实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸;对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。附图中描述位置关系仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制。
[0016]如图1、2所示，一种真空镀膜衬底高温加热装置，其中，包括屏蔽盒1、法兰、接线柱
3、热电偶4、导电片5、加热片夹具6、加热片8，热电偶4、导电片5、加热片夹具6均置于屏蔽盒I内；
[0017]法兰包括热电偶法兰21和导电片法兰22，热电偶4 一端与热电偶法兰21固定，另一端延伸到加热片8上;接线柱3设于热电偶法兰21和导电片法兰22上；
[0018]导电片法兰22上的接线柱3连接导电片5，导电片5—侧设有加热片夹具6，加热片夹具6之间夹紧加热片8;
[0019]屏蔽盒I在两加热片夹具6之间上方开有一个窗口，使衬底能暴露于真空室中。
[0020]热电偶4位于衬底上方lcm，通过热电偶法兰21外端的接线柱3与外电路连接，所述的导电片5为2cm宽的波浪形纯铜片，位于加热片夹具6和导电片法兰22之间，连接导电片法兰22上端的接线柱，有效防止加热和冷却过程中由于热胀冷缩而产生的拉伸效应;所述的加热片夹具6上均有两颗固定螺丝7，用于固定加热片；所述的加热片8是低阻硅片，低阻硅片上留有放置衬底的凹槽9;所有电源来源均通过屏蔽盒外的接线柱连接外电路得到。
[0021]工作原理:我们把真空镀膜衬底高温加热装置固定于真空室内，连接好外电路，通过调节输入电流的大小控制衬底加热的温度，衬底温度由热电偶连接的温度显示仪可直接显示。由于采用了屏蔽盒的设计并且加热导线之间距离较远，仅有衬底暴露在真空室内，使得可以实现衬底加热的同时，又有效防止了带电粒子在加热导线间放电而形成短路。
[0022]显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。
【主权项】
1.一种真空镀膜衬底高温加热装置，其特征在于，包括屏蔽盒(1)、法兰、接线柱(3)、热电偶(4)、导电片(5)、加热片夹具(6)、加热片(8)，所述的热电偶(4)、导电片(5)、加热片夹具(6)均置于屏蔽盒(I)内； 所述的法兰包括热电偶法兰(21)和导电片法兰(22)，所述的热电偶(4) 一端与热电偶法兰(21)固定，另一端延伸到加热片(8)上;接线柱(3)设于热电偶法兰(21)和导电片法兰(22)上; 导电片法兰(22)上的接线柱(3)连接导电片(5)，导电片(5)—侧设有加热片夹具(6)，加热片夹具(6)之间夹紧加热片(8)； 所述的屏蔽盒(I)在两加热片夹具(6)之间上方开有一个窗口。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜衬底高温加热装置，其特征在于:所述的加热片(8)上设有凹槽(9)，凹槽(9)内放置衬底。3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜衬底高温加热装置，其特征在于:所述的热电偶(4 )位于衬底上方0.5?2 cm，通过热电偶法兰(21)外端的接线柱(3 )与外电路连接。4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜衬底高温加热装置，其特征在于:所述的导电片(5)为波浪形铜片，位于加热片夹具(6)和导电片法兰(22)之间，连接导电片法兰(22)上端的接线柱。5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜衬底高温加热装置，其特征在于:所述的加热片夹具(6)上设有两颗固定螺丝(7)，用于固定加热片(8)。6.根据权利要求1至5任一所述的一种真空镀膜衬底高温加热装置，其特征在于:所述的加热片(8)是低阻硅片。
【专利摘要】本实用新型涉及真空的技术领域，更具体地，涉及一种真空镀膜衬底高温加热装置。一种真空镀膜衬底高温加热装置，包括屏蔽盒、法兰、接线柱、热电偶、导电片、加热片夹具、加热片，热电偶、导电片、加热片夹具均置于屏蔽盒内；所述的法兰包括热电偶法兰和导电片法兰，所述的热电偶一端与热电偶法兰固定，另一端延伸到加热片上；接线柱设于热电偶法兰和导电片法兰上；导电片法兰上的接线柱连接导电片，导电片一侧设有加热片夹具，加热片夹具之间夹紧加热片；所述的屏蔽盒在两加热片夹具之间上方开有一个窗口。由于采用了屏蔽盒的设计并且加热导线之间距离较远，仅有加热片上的凹槽暴露在真空室内，有效防止了带电粒子在加热导线间放电而形成短路。
【IPC分类】C23C14/54
【公开号】CN205368491
【申请号】CN201620141448
【发明人】廖峻, 张军, 邵乐喜, 李达, 莫德云, 王磊
【申请人】岭南师范学院
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2016年2月25日