真空镀膜设备用抽真空装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种真空镀膜设备用抽真空装置，包括真空镀膜仓，还包括两个U型接管和真空接管，真空镀膜仓的内壁对称分布四个抽气口，U型接管的两端分别与一个抽气口贯通，真空接管的两端分别与U型接管的中部贯通，真空接管的中部具有抽气接头。本实用新型的有益效果是最大限度的减少抽真空对真空镀膜腔内气流分别的影响，使镀膜层更加均匀。
【专利说明】
真空镀膜设备用抽真空装置
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及一种真空镀膜设备用抽真空装置。
【背景技术】
[0002]在现有的技术中真空镀膜机的真空内腔上往往设置一个抽气口，这样导致了真空内腔中的气流分别不均匀，在镀膜时镀室内蒸发的镀料或溅射靶溅出的原子、离子分散不均匀，极大的硬性了镀膜的均匀性。
【发明内容】
[0003]本实用新型要解决的问题是提供一种真空镀膜设备用抽真空装置，克服了现有技术中的不足。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是:真空镀膜设备用抽真空装置，包括真空镀膜仓，还包括两个U型接管和真空接管，所述真空镀膜仓的内壁对称分布四个抽气口，所述U型接管的两端分别与一个所述抽气口贯通，所述真空接管的两端分别与所述U型接管的中部贯通，所述真空接管的中部具有抽气接头。
[0005]进一步，每个所述抽气口上均具有缓冲箱，所述缓冲箱与所述真空镀膜仓内部和所述U型接管的内壁均贯通。
[0006]本实用新型具有的优点和积极效果是:由于采用上述技术方案，最大限度的减少抽真空对真空镀膜腔内气流分别的影响，使镀膜层更加均匀。
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的整体结构不意图；
[0008]图中:1-真空镀膜仓;2-缓冲箱;3-抽气接头;4-U型接管;5-真空接管。
【具体实施方式】
[0009]如图1所示，本实用新型提供一种真空镀膜设备用抽真空装置，包括真空镀膜仓I，还包括两个U型接管4和真空接管5，真空镀膜仓I的内壁对称分布四个抽气口，U型接管4的两端分别与一个抽气口贯通，真空接管5的两端分别与U型接管4的中部贯通，真空接管5的中部具有抽气接头3。
[0010]使用时，抽气接头3与外部真空栗相连，由于各抽气口到真空栗的路径均相同，且各抽气口对称分布于真空镀膜仓I上，因此抽真空过程对仓内气流的干扰被相互抵消，避免由于抽真空导致的镀膜过程中离子气流分别不均匀现象的发生。
[0011 ]每个抽气口上均具有缓冲箱2，缓冲箱2与真空镀膜仓I内部和U型接管4的内壁均贯通。缓冲箱2的设置进一步起到缓冲的作用。
[0012]以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。
【主权项】
1.真空镀膜设备用抽真空装置，包括真空镀膜仓，其特征在于:还包括两个U型接管和真空接管，所述真空镀膜仓的内壁对称分布四个抽气口，所述U型接管的两端分别与一个所述抽气口贯通，所述真空接管的两端分别与所述U型接管的中部贯通，所述真空接管的中部具有抽气接头。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备用抽真空装置，其特征在于:每个所述抽气口上均具有缓冲箱，所述缓冲箱与所述真空镀膜仓内部和所述U型接管的内壁均贯通。
【文档编号】C23C14/56GK205473968SQ201620082236
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年1月27日
【发明人】孙婧, 李卫东, 同建辉
【申请人】天津众伟科技有限公司