大容量卧式等离子体金属表面加工装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种大容量卧式等离子体金属表面加工装置，包括卧置的抗压壳体，抗压壳体的一端封闭，另一端设有密封门，在抗压壳体内设有与高频电源连接的电极板，所述电极板为中空平面电极，所述中空平面电极的一侧面设有与进气管连接的进气口，另一相对侧面设有出气口。本实用新型的大容量卧式等离子体金属表面加工装置，可均匀处理等离子体金属内表面，保证产品质量，提高生产效率。
【专利说明】
大容量卧式等离子体金属表面加工装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种金属表面处理装置，尤其涉及一种大容量卧式等离子体金属表面加工装置。
【背景技术】
[0002]中国专利ZL200920051678.7公开了一种“卧式等离子体大型筒状金属内表面加工装置”，解决了利用等离子体技术在大型筒状金属部件内表面沉积一层陶瓷合金的强化技术问题。但该装置的进气系统置于金属筒外层，工作气体绕道扩散到达需要进行强化处理的筒状金属部件的内表面。这样，一方面造成只有一部分源气体被利用，在放电区域被激活、电离，产生等离子体，一部分源气体被直接抽出真空室，造成源气体的浪费；另一方面，这样进气，源气体在金属筒的内表面流场不均匀，造成处理不均匀。这些问题均严重地影响产品的质量，同时也造成生产效率的低下。因此，有必要对装置进行改造，以适合对金属筒部件的内表面进行有效加工。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种大容量卧式等离子体金属表面加工装置，可均匀处理等离子体金属表面，保证产品质量，提高生产效率。
[0004]为实现上述目的，本实用新型提供一种大容量卧式等离子体金属表面加工装置，包括卧置的抗压壳体，抗压壳体的一端封闭，另一端设有密封门，在抗压壳体内设有与高频电源连接的电极板，所述电极板为中空平面电极，所述中空平面电极的一侧面设有与进气管连接的进气口，另一相对侧面设有出气口。
[0005]作为本实用新型的进一步改进，还包括一端开口另一端封闭并且侧面呈蜂窝状开孔的筒状电极，所述筒状电极的开口端与中空平面电极的出气口对接。
[0006]作为本实用新型的更进一步改进，所述出气口有多个并且均匀分布，各出气口处安装有一所述筒状电极。
[0007]作为本实用新型的更进一步改进，所述筒状电极的轴线位于水平方向上，中空平面电极位于垂直方向上，筒状电极与中空平面电极基本垂直。
[0008]作为本实用新型的进一步改进，在所述抗压壳体内设有沿抗压壳体轴向延伸的导轨，在导轨上设有沿导轨移动的承载托盘，中空平面电极设置在沿导轨移动的小车上，中空平面电极上还设有上下移动机构。
[0009]作为本实用新型的更进一步改进，所述小车设有行走驱动机构。
[0010]作为本实用新型的进一步改进，所述抗压壳体内部为圆形真空室或矩形真空室。
[0011]与现有技术相比，本实用新型的大容量卧式等离子体金属表面加工装置的有益效果如下:
[0012](I)利用中空平面电极喷气对金属筒进行加工，可使得气体在金属筒表面流场更加均匀，对金属筒的处理更均匀，保证产品质量，提高生产效率。
[0013](2)在中空平面电极的基础上增加筒状电极，可以对较长的金属筒进行处理，并且还能保证其质量。
[0014](3)出气口有多个并且均匀分布，从而可进一步使得气体在金属筒表面流场更加均匀，以保证产品质量。
[0015](4)结构简单，处理效率高。
[0016]通过以下的描述并结合附图，本实用新型将变得更加清晰，这些附图用于解释本实用新型的实施例。
【附图说明】
[0017]图1为实施例一的大容量卧式等离子体金属表面加工装置的使用状态图。
[0018]图2为实施例一的电极板和筒状电极结合时的不意图。
[0019]图3为实施例一的筒状电极的示意图。
[0020]图4为实施例二的电极板的示意图
【具体实施方式】
[0021]现在参考附图描述本实用新型的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元件。
[0022]实施例一
[0023]请参考图1-3，所述的大容量卧式等离子体金属表面加工装置包括卧置的抗压壳体I，所述抗压壳体I内部为圆形真空室或矩形真空室。所述抗压壳体I的一端封闭，另一端设有密封门2，在所述抗压壳体I内设有沿抗压壳体I轴向延伸的导轨3，在导轨3上设有沿导轨3移动的承载托盘4，在抗压壳体I内设有与高频电源连接的电极板5，所述电极板5为中空平面电极，所述中空平面电极的一侧面设有与进气管连接的进气口 51，用于向电极板5内输送工作气体，另一相对侧面设有出气口 52。所述的大容量卧式等离子体金属表面加工装置还包括一端开口另一端封闭并且侧面呈蜂窝状开孔的筒状电极6，所述筒状电极6的开口端与中空平面电极的出气口 52对接。
[0024]所述出气口52有多个并且均匀分布，各出气口 52处安装有一所述筒状电极6。所述筒状电极6的轴线位于水平方向上，中空平面电极位于垂直方向上，筒状电极6与中空平面电极基本垂直。中空平面电极设置在沿导轨3移动的小车7上，所述小车7设有行走驱动机构，行走驱动机构可采用现有技术中常用的液压传动机构，这样方便筒状电极6的前后移动。所述中空平面电极上还设有上下移动机构8，上下移动机构8可采用现有技术中常用的电机螺杆直线移动机构。在抗压壳体I上还设有与真空栗连接的抽气管9，用于对抗压壳体I内抽真空。在抗压壳体I的下部还连接有与抽气机连接的工作气体出气管。
[0025]具体使用时，将较长的待加工的筒形金属工件13固定在承载托盘4上，然后将承载托盘4推入抗压壳体I内，调整筒状电极6和小车7的位置，使筒状电极6伸入待处理的筒形金属工件10内的适当位置，然后将负电极与筒形金属工件10连接，关闭密封门2后即可进行抽真空、高频放电、通入工作气体，进行筒形金属工件10内表面的BN-SiN层沉积加工。
[0026]实施例二
[0027]请参考图4，本实施例与上述实施例一的区别仅在于:在本实施例中仅使用电极板5，而不使用筒状电极6，仅使用电极板5时，用于对较短的金属工件的外表面进行BN-SiN层沉积加工。
[0028]以上结合最佳实施例对本实用新型进行了描述，但本实用新型并不局限于以上揭示的实施例，而应当涵盖各种根据本实用新型的本质进行的修改、等效组合。
【主权项】
1.一种大容量卧式等离子体金属表面加工装置，包括卧置的抗压壳体，抗压壳体的一端封闭，另一端设有密封门，在抗压壳体内设有与高频电源连接的电极板，其特征在于:所述电极板为中空平面电极，所述中空平面电极的一侧面设有与进气管连接的进气口，另一相对侧面设有出气口。2.如权利要求1所述的大容量卧式等离子体金属表面加工装置，其特征在于:还包括一端开口另一端封闭并且侧面呈蜂窝状开孔的筒状电极，所述筒状电极的开口端与中空平面电极的出气口对接。3.如权利要求2所述的大容量卧式等离子体金属表面加工装置，其特征在于:所述出气口有多个并且均匀分布，各出气口处安装有一所述筒状电极。4.如权利要求2所述的大容量卧式等离子体金属表面加工装置，其特征在于:所述筒状电极的轴线位于水平方向上，中空平面电极位于垂直方向上，筒状电极与中空平面电极基本垂直。5.如权利要求1所述的大容量卧式等离子体金属表面加工装置，其特征在于:在所述抗压壳体内设有沿抗压壳体轴向延伸的导轨，在导轨上设有沿导轨移动的承载托盘，中空平面电极设置在沿导轨移动的小车上，中空平面电极上还设有上下移动机构。6.如权利要求5所述的大容量卧式等离子体金属表面加工装置，其特征在于:所述小车设有行走驱动机构。7.如权利要求1所述的大容量卧式等离子体金属表面加工装置，其特征在于:所述抗压壳体内部为圆形真空室或矩形真空室。
【文档编号】C23C16/34GK205473977SQ201620101793
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年2月1日
【发明人】吴晓明
【申请人】吴晓明