用于沉积设备的基板遮蔽结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型是关于一种用于沉积设备的基板遮蔽结构，包括环状框体及唇状部，环状框体包含复数框条，每一框条具有第一支撑面及第二支撑面，在第一支撑面和第二支撑面的一侧形成有内侧边，在内侧边设有容置槽；唇状部包含复数唇片，每一唇片具有第一表面、第二表面、分别形成在第一表面和第二表面侧边的第一边缘及第二边缘，各唇片分别对应于各容置槽嵌设，并使各第一表面的部分区域暴露于各容置槽外。藉此，可提升组装的便利性且能够增加组合后的结构强度。
【专利说明】
用于沉积设备的基板遮蔽结构
技术领域
[0001]本实用新型是有关一种基板遮蔽结构，尤指一种用于沉积设备的基板遮蔽结构。
【背景技术】
[0002]以电浆辅助化学气相沉积、物理气相沉积或蚀刻等技术，用来在玻璃基板上沉积和移除导体、半导体及介电材料的多个层来形成半导体装置，电浆处理不仅可在相对低的处理温度来进行沉积薄膜，并且能够获得良好的薄膜质量，因此已被广泛地应用在平板装置的生产。
[0003]前述的沉积设备是在一真空腔室中设置一支撑构件，以提供一基板配置在支撑构件的上方，电浆处理是藉由将一或多种处理气体引入腔室中，并以一电场激发气体，以使气体解离成带电和中性的粒子来形成。在处理过程中，玻璃基板的边缘和背面以及腔室内部组件为免于受到沉积的影响，一般皆会以遮蔽框来沿着基板的周围放置，以避免处理气体或电浆到达基板的边缘和背面，并在处理过程中将基板保持在支撑构件上。
[0004]现有的遮蔽框主要包括一框体及一唇片，唇片的部分区域是迭接在框体的边缘，并且和唇片是透过螺丝等螺固组件锁固，其在组装的过程中不仅需要耗费大量的组装时间和人力成本，且组装后的成品亦存在有结构强度不足的情况，而亟待加以改善者。
【发明内容】
[0005]本实用新型的目的在于提供一种用于沉积设备的基板遮蔽结构，其是在组装过程中能够顺势将各唇片予以固定，进而提升组装的便利性和增加组合后的结构强度。
[0006]为了达成上述之目的，本实用新型是提供一种用于沉积设备的基板遮蔽结构，包括一环状框体及一唇状部，该环状框体包含相互组接的复数框条，每一该框条具有一第一支撑面及形成在该第一支撑面背后方的一第二支撑面，在该第一支撑面和该第二支撑面的一侧形成有一内侧边，在该内侧边设有一容置槽;该唇状部包含复数唇片，每一该唇片具有一第一表面、形成在该第一表面背后方的一第二表面、分别形成在该第一表面和该第二表面侧边的一第一边缘及一第二边缘，各该唇片分别对应于各该容置槽嵌设，并使各该第一表面的部分区域暴露于各该容置槽外。
[0007]优选地，上述各唇片是可分离式地嵌设各该容置槽。
[0008]优选地，上述内侧边在该容置槽的下方形成有一下内侧边，该内侧边在该容置槽的上方形成有一上内侧边，该下内侧边至该容置槽槽底的距离大于该上内侧边至该容置槽槽底的距离。
[0009]优选地，上述环状框体为一四边形，包含两两相对的二支纵向框条和二支横向框条。
[0010]优选地，上述各框条的首末端面分别形成有一阶梯台，各该框条以各该阶梯台相互搭接。
[0011]优选地，上述各阶梯台开设有复数孔洞，在该第一支撑面对应于每一该孔洞的位置设有连通该孔洞的一螺孔，各该孔洞分别供一插销插设连接，各该螺孔则分别供一螺固组件穿设以固定该插销。
[0012]优选地，上述各唇片的首末端面分别形成有一直切边，并于各该直切边分别形成有一倾斜面，各该唇片以各该倾斜面相互抵接。
[0013]优选地，上述各唇片的首末端面分别形成有一斜切边，各该唇片以各该斜切边相互抵接。
[0014]本实用新型还具有以下功效，利用各唇片的首末端面分别形成有斜切边或直切边及倾斜面的设置，不仅可缩短组装过程中所耗费的时间，且能够有效地降低人力成本。
【附图说明】
[0015]图1是本实用新型之部分构件的立体分解图。
[0016]图2是本实用新型之部分构件的另一视角立体分解图。
[0017]图3是本实用新型之部分构件的组合示意图。
[0018]图4是本实用新型基板遮蔽结构组合示意图。
[0019]图5是本实用新型基板遮蔽结构之部分剖视图。
[0020]图6是本实用新型应用于沉积设备组合剖视图。
[0021]图7是本实用新型之另一实施例的组合俯视图。
[0022]【主要部件符号说明】
[0023]1、Ia…基板遮蔽结构
[0024]10…环状框体
[0025]11...纵向框条
[0026]11’...横向框条
[0027]111…第一支撑面
[0028]112…第二支撑面
[0029]113...内侧边
[0030]1131…下内侧边
[0031]1132...上内侧边
[0032]114…外侧边
[0033]1141…倒斜面
[0034]115…容置槽
[0035]116…阶梯台
[0036]117…孔洞
[0037]118…螺孔
[0038]12…插销
[0039]13…螺固组件
[0040]D1...距离[0041 ]D2...距离
[0042]20...唇状部
[0043]21…纵向唇片
[0044]21’…横向唇片
[0045]211…第一表面
[0046]212…第二表面
[0047]213…第一边缘
[0048]214…第二边缘
[0049]215…直切边
[0050]2151…倾斜面[0051 ]216…斜切边
[0052]5…沉积设备
[0053]51…腔体
[0054]511...处理区
[0055]512...开口
[0056]52...背板
[0057]53…气体分配板
[0058]531…开孔
[0059]54…气体源
[0060]55...电源
[0061 ]56…遮蔽框支撑件
[0062]57…基板支撑件
[0063]58…升降机
[0064]6…基板。
【具体实施方式】
[0065]有关本实用新型之详细说明及技术内容，配合【附图说明】如下，然而所附图式仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制。
[0066]请参阅图1至图5所示，本实用新型提供一种用于沉积设备的基板遮蔽结构，此基板遮蔽结构I主要包括一环状框体10及一唇状部20。
[0067]本实施例的环状框体10为一四边形，其包含两两相对的二支纵向框条11和二支横向框条11’，每一纵向框条11具有一第一支撑面111、一第二支撑面112、一内侧边113及一外侧边114，第二支撑面112是形成在第一支撑面111的背后方，内侧边113形成在第一支撑面111和第二支撑面112的内侧，在内侧边113设有一容置槽115，此容置槽115大致平行于第一支撑面111配设，且内侧边113在容置槽115的下方位置形成有一下内侧边1131，内侧边113在容置槽115的上方位置形成有一上内侧边1132，下内侧边1131至容置槽115槽底的距离Dl大于上内侧边1132至容置槽115槽底的距离D2。外侧边114形成在第一支撑面111和第二支撑面112的外侧，外侧边114则形成有一倒斜面1141。同理，每一横向框条11’亦皆具备有前述纵向框条11相同的结构特征，因此不再一一重复细述。
[0068]在各框条11、11’的首末端面分别形成有一阶梯台116，各框条11、11’利用各阶梯台116相互搭接。另在各阶梯台116开设有复数孔洞117，各孔洞117大致平行于第一支撑面111配设，在第一支撑面111对应于每一孔洞117的位置设有连通孔洞117的一螺孔118，各孔洞117分别供一插销12插设连接，各螺孔118则供一螺丝等螺固组件13穿设以固定插销12。
[0069]唇状部20可分离式地连接在环状框体10，此唇状部20亦为一四边形，其包含两两相对的二支纵向唇片21和二支横向唇片21’，每一纵向唇片21具有一第一表面211、形成在第一表面211背后方的一第二表面212、分别形成在第一表面211和第二表面212侧边的一第一边缘213及一第二边缘214，各唇片21、21’是分别对应于前述各容置槽115嵌设，并使各第一表面211的部分区域暴露于各容置槽115外部。同理，每一横向唇片21’亦皆具备有与前述纵向唇片21相同的结构特征，因此不再一一重复细述。另在各唇片21、21’的首末端面分别形成有一直切边215，并于各直切边215分别形成有一倾斜面2151，各唇片21、21 ’利用各倾斜面2151相互抵接。
[0070]请参阅图6所示，本实用新型的基板遮蔽结构I是可以应用在一沉积设备5上，其中沉积设备5包括一腔体51、一背板52、一气体分配板53、一气体源54、一电源55、一遮蔽框支撑件56、一基板支撑件57及一升降机58，背板52配置于腔体51的上方位置，于腔体51内形成有一处理区511，处理区511内可供一基板6置设。
[0071 ]气体分配板53被固定在背板52下方，于气体分配板53设有多数开孔531，以允许处理气体从中递送。气体源54可将气体递送至形成于气体分配板53和背板52之间的充气室，以平均地分配处理气体，从而透过气体分配板53均匀地递送处理气体。电源55可被电性耦接至气体分配板53，而由流经开孔531的处理气体形成电浆。电源55可为用于PECVD腔室的电源的任何类型。遮蔽框支撑件56绕着基板支撑件57形成。
[0072]当基板支撑件57位在一较低的位置，基板遮蔽结构I是由遮蔽框支撑件56所支撑。基板支撑件57配置在腔体51中并由升降机58致动。在一较高的处理位置，基板6配置于基板支撑件57上，如此使得基板6形成在处理区511中。当基板遮蔽结构I停放在基板支撑件57上时，各唇片21、21’的第一表面211压接于基板6之一部分的上方并与基板6接触。基板6透过形成在腔体51的一开口 512进入和移出处理区511，开口 512为由一狭缝阀门机构(未示出)选择性地封住。
[0073]请参阅图7所示，本实用新型的基板遮蔽结构除了可为上述实施例外，亦可如本实施例的基板遮蔽结构la，其与上述实施例的差异在于:各唇片21、21’的首末端面分别形成有一斜切边216，各唇片21、21’利用各斜切边216相互抵接，不仅可缩短组装过程中所耗费的时间，且能够有效地降低人力成本。
[0074]综上所述，本实用新型之用于沉积设备的基板遮蔽结构，确可达到预期之使用目的，而解决现有之缺失，又因极具新颖性及进步性，完全符合新型专利申请要件，依专利法提出申请，敬请详查并赐准本案专利，以保障创作人之权利。
【主权项】
1.一种用于沉积设备的基板遮蔽结构，其特征在于包括: 一环状框体，包含相互组接的复数框条，每一该框条具有一第一支撑面及形成在该第一支撑面背后方的一第二支撑面，在该第一支撑面和该第二支撑面的一侧形成有一内侧边，在该内侧边设有一容置槽;以及 一唇状部，包含复数唇片，每一该唇片具有一第一表面、形成在该第一表面背后方的一第二表面、分别形成在该第一表面和该第二表面侧边的一第一边缘及一第二边缘，各该唇片分别对应于各该容置槽嵌设，并使各该第一表面的部分区域暴露于各该容置槽外。2.如权利要求1所述的用于沉积设备的基板遮蔽结构，其特征在于上述各唇片是可分呙式地嵌设各该容置槽。3.如权利要求1所述的用于沉积设备的基板遮蔽结构，其特征在于上述内侧边在该容置槽的下方形成有一下内侧边，该内侧边在该容置槽的上方形成有一上内侧边，该下内侧边至该容置槽槽底的距离大于该上内侧边至该容置槽槽底的距离。4.如权利要求1所述的用于沉积设备的基板遮蔽结构，其特征在于上述环状框体为一四边形，包含两两相对的二支纵向框条和二支横向框条。5.如权利要求4所述的用于沉积设备的基板遮蔽结构，其特征在于上述各框条的首末端面分别形成有一阶梯台，各该框条以各该阶梯台相互搭接。6.如权利要求5所述的用于沉积设备的基板遮蔽结构，其特征在于上述各阶梯台开设有复数孔洞，在该第一支撑面对应于每一该孔洞的位置设有连通该孔洞的一螺孔，各该孔洞分别供一插销插设连接，各该螺孔则分别供一螺固组件穿设以固定该插销。7.如权利要求1所述的用于沉积设备的基板遮蔽结构，其特征在于上述各唇片的首末端面分别形成有一直切边，并于各该直切边分别形成有一倾斜面，各该唇片以各该倾斜面相互抵接。8.如权利要求1所述的用于沉积设备的基板遮蔽结构，其特征在于上述各唇片的首末端面分别形成有一斜切边，各该唇片以各该斜切边相互抵接。
【文档编号】C23C14/50GK205501411SQ201620050830
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年1月20日
【发明人】萧俊义, 程家伟
【申请人】红日应用材料有限公司