一种有机材料蒸发用坩埚及蒸镀装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及蒸镀技术领域，公开一种有机材料蒸发用坩埚及一种蒸镀装置，其中，有机材料蒸发用坩埚包括本体结构，本体结构内部形成用于盛放蒸镀材料的蒸发空间；本体结构的内表面包括用于围成蒸发空间的底面和侧面，其中，底面为圆弧面。上述有机材料蒸发用坩埚，其蒸发空间的底部通过呈圆弧面的底面围成，在进行有机材料蒸镀的过程中，随着蒸发空间内有机材料的较少，蒸发空间内剩余的有机材料在蒸发空间底部相对于底面的分布几乎没有变化，即剩余有机材料的分布可以一直保持与热量的分布相匹配，因此，随着蒸发空间内有机材料的减少，剩余的有机材料的受热仍然会较均匀。因此，上述有机材料蒸发用坩埚可以避免有机材料在蒸镀过程中变性。
【专利说明】
一种有机材料蒸发用坩埚及蒸镀装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种有机材料蒸发用坩祸及一种蒸镀装置。
【背景技术】
[0002]OLED(Organic Light Emitting D1de，有机发光二极管)显不装置由于具有自发光、对比度及清晰度高、视角宽、全固化、适用于挠曲性面板、温度特性好、低功耗、响应速度快和制造成本低等一系列优异特性，已经成为新一代平面显示装置的重点发展方向之一。OLED的制备过程中，需要利用蒸镀机将有机材料蒸镀到基板上；目前，针对G2.5及以下世代的蒸镀机，其蒸发源通常为点蒸发源。
[0003]现有的点蒸发源，其蒸发底面均为平面，在进行有机材料蒸镀的过程中，当有机材料减少至无法将蒸发源的底平面完全覆盖时，在有机材料分布较少的底平面边缘区域，有机材料很容易由于受热过高从而产生变性，进而导致最终制备的OLED的性能较差。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型提供了一种有机材料蒸发用坩祸及一种蒸镀装置，用于解决现有技术中有机材料蒸镀过程中容易变性的问题。
[0005]为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案:
[0006]—种有机材料蒸发用坩祸，包括本体结构，所述本体结构内部形成用于盛放蒸镀材料的蒸发空间；
[0007]所述本体结构的内表面包括用于围成所述蒸发空间的底面和侧面，其中，所述底面为圆弧面。
[0008]上述用于蒸镀有机材料的有机材料蒸发用坩祸，其蒸发空间的底部通过呈圆弧面的底面围成，在进行有机材料蒸镀的过程中，随着蒸发空间内有机材料的较少，蒸发空间内剩余的有机材料在蒸发空间的底部相对于底面(圆弧面)的分布几乎没有变化，即剩余有机材料的分布可以一直保持与热量的分布相匹配，因此，随着蒸发空间内有机材料的减少，剩余的有机材料的受热仍然会较均匀。因此，上述有机材料蒸发用坩祸可以避免有机材料在蒸镀过程中变性。
[0009]优选地，所述侧面包括围成所述蒸发空间的出口的圆柱面以及连接于所述底面与所述圆柱面之间的过渡面。
[0010]优选地，所述蒸发空间的出口的轴心线与所述底面的轴心线重合、且所述蒸发空间的出口面积小于所述底面在垂直于所述轴心线的平面上的投影面积。
[0011]优选地，所述过渡面为圆锥面。
[0012 ]优选地，所述蒸发空间出口的长度为所述蒸发空间高度的I /4?I /2。
[0013]优选地，所述底面为半圆弧面。
[0014]优选地，所述底面的半径为I?10cm。
[0015]优选地，所述底面的半径为3?6cm。
[0016]优选地，所述本体结构的材料为钛、氮化硼、高温裂解碳化硼或者氧化铝。
[0017]—种蒸镀装置，包括上述任一技术方案中所述的有机材料蒸发用坩祸。
【附图说明】
[0018]图1为本实用新型实施例提供的一种有机材料蒸发用坩祸的切面结构示意图；
[0019]图2为本实用新型实施例提供的一种有机材料蒸发用坩祸的俯视结构示意图。
【具体实施方式】
[0020]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0021]请参考图1和图2。
[0022]如图1所示，本实用新型实施例提供的一种有机材料蒸发用坩祸，该有机材料蒸发用坩祸包括本体结构I，本体结构I内部形成用于盛放蒸镀材料的蒸发空间2;
[0023]本体结构I的内表面3包括用于围成上述蒸发空间2的底面31和侧面32，其中，底面31为圆弧面。
[0024]上述有机材料蒸发用坩祸，其蒸发空间2的底部通过呈圆弧面的底面31围成，在进行有机材料蒸镀的过程中，随着蒸发空间2内有机材料的较少，蒸发空间2内剩余的有机材料在蒸发空间底部相对于底面31(圆弧面)的分布几乎没有变化，即剩余有机材料的分布可以一直保持与热量的分布相匹配，因此，随着蒸发空间2内有机材料的减少，剩余的有机材料的受热仍然会较均匀。因此，上述有机材料蒸发用坩祸可以避免有机材料在蒸镀过程中变性。
[0025]如图1所示，一种具体的实施例中，本实用新型的有机材料蒸发用坩祸中，本体结构I的外观可以呈圆柱状。
[0026]如图1所示，一种具体的实施例中，本体结构I的内表面3中，侧面32可以包括围成蒸发空间2的出口 21的圆柱面321以及连接于底面31与圆柱面321之间的过渡面；
[0027]如图1和图2所示，在上述实施例的基础上，一种优选的实施例中，蒸发空间2的出口 21的轴心线与底面31的轴心线重合(如图1中所示，重合后的轴心线O);并且，蒸发空间2的出口 21的面积82小于底面31在垂直于轴心线0的平面上的投影面积S2，也可以说，圆柱面321所形成的蒸气出口 21的面积82小于底面31的边缘310所围成的平面(蒸发平面)的面积
Slo
[0028]如图1所示，蒸发空间2的蒸气出口21的面积82小于底面31的边缘310所围成的蒸发平面的面积Si，可以使蒸发空间2内的蒸镀材料蒸气在出口 21处汇集然后再流出，进而，可以使流出的蒸镀材料蒸气具有较好的指向性、且使流出的蒸镀材料蒸气具有较平的等密度分布面S;进而，可以提高蒸镀材料蒸汽的利用率。
[0029]如图1所示，在上述实施例的基础上，一种优选的实施例中，连接于底面31与圆柱面321之间的过渡面可以为圆锥面322。
[0030]如图1所示，在上述两个实施例的基础上，一种具体的实施例中，蒸发空间2的出口21的长度d(即蒸发空间2的出口 21沿轴心线0方向上的尺寸)可以为整个蒸发空间的高度h(即蒸发空间2沿轴心线0方向上的尺寸)的1/4?1/2。
[0031]如图1所示，在上述各个实施例的基础上，一种具体的实施例中，本体结构I的内表面3中，底面31可以为半圆弧面。
[0032]如图1所示，在上述实施例的基础上，一种具体的实施例中，底面31(即半圆弧面)的半径r可以为I?10cm。优选地，底面31(即半圆弧面)的半径r可以为3?6cm;进一步优选地，底面31(即半圆弧面)的半径r可以为3cm。
[0033]在上述实施例的基础上，一种具体的实施例中，本实用新型的有机材料蒸发用坩祸中，本体结构I的材质可以为钛(Ti)、氮化硼(BN)、高温裂解碳化硼(PBN)或者氧化铝(AI2O3)等。
[0034]本实用新型实施例还提供了一种蒸镀装置，该蒸镀装置包括上述任一实施例中的有机材料蒸发用坩祸。改蒸镀装置可以避免有机材料在蒸镀过程中变性，因此，通过该蒸镀装置制备的OLED的性能较好。
[0035]显然，本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，包括本体结构，所述本体结构内部形成用于盛放蒸镀材料的蒸发空间； 所述本体结构的内表面包括用于围成所述蒸发空间的底面和侧面，其中，所述底面为圆弧面。2.根据权利要求1所述的有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，所述侧面包括围成所述蒸发空间的出口的圆柱面以及连接于所述底面与所述圆柱面之间的过渡面。3.根据权利要求2所述的有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，所述蒸发空间的出口的轴心线与所述底面的轴心线重合、且所述蒸发空间的出口面积小于所述底面在垂直于所述轴心线的平面上的投影面积。4.根据权利要求3所述的有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，所述过渡面为圆锥面。5.根据权利要求3所述的有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，所述蒸发空间的出口的长度为所述蒸发空间高度的1/4?1/2。6.根据权利要求1?5任一项所述的有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，所述底面为半圆弧面。7.根据权利要求6所述的有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，所述底面的半径为I?1cm08.根据权利要求7所述的有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，所述底面的半径为3?6cm09.根据权利要求1?5任一项所述的有机材料蒸发用坩祸，其特征在于，所述本体结构的材料为钛、氮化硼、高温裂解氮化硼或者氧化铝。10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括如权利要求1?9任一项所述的有机材料蒸发用坩祸。
【文档编号】C23C14/12GK205529006SQ201620285865
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年4月7日
【发明人】焦志强, 孙力, 尤娟娟, 闫光
【申请人】京东方科技集团股份有限公司