一种能控制电场强度的溅射镀膜装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，包括支撑脚、散热扇和计时装置，所述支撑脚的上方设有镀膜控制台，所述散热扇嵌入安装在镀膜控制台的左侧，且散热扇的右侧设有混合气体罐，所述混合气体罐的上方设有真空泵，所述镀膜控制台上设有气体控制阀，所述气体控制阀的右上方设有磁场显示表，所述镀膜控制台的上方设有微电脑处理装置，所述微电脑处理装置的左侧设有真空镀膜腔体，所述镀膜机体盖的底部设有镀膜靶材。本实用新型一种能控制电场强度的溅射镀膜装置利用微电脑装置实现智能化操作，开机后可以预定时间，可以手动控制磁场强弱和电极；防止机体过热，且可将不同气体输入。
【专利说明】
一种能控制电场强度的溅射镀膜装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及镀膜技术领域，具体为一种能控制电场强度的溅射镀膜装置。
【背景技术】
[0002]磁控派射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposit1n，PVD)的一种。一般的派射法可被用于制备金属、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
[0003]传统的磁控溅射镀膜装置存在无法进行定时，操作不方便，镀膜性能差，无法进行混合气体输入等不足，因此需要一种新型的能控制电场强度的溅射镀膜装置。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，以解决上述【背景技术】中提出的镀膜性能差，操作不方便的问题。
[0005]为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，包括支撑脚、散热扇和计时装置，所述支撑脚的上方设有镀膜控制台，所述散热扇嵌入安装在镀膜控制台的左侧，且散热扇的右侧设有混合气体罐，所述混合气体罐的上方设有真空栗，所述真空栗的上方设有第一单向阀门，且真空栗的右侧设有混合气体输入管，所述镀膜控制台上设有气体控制阀，所述气体控制阀的右上方设有磁场显示表，所述磁场显示表的右侧设有电极显示表，所述电极显示表的下方设有调节转钮，所述计时装置嵌入安装在镀膜控制台的右侧，且计时装置的下方设有报警装置，所述镀膜控制台的右侧设有开关转钮，所述镀膜控制台的上方设有微电脑处理装置，所述微电脑处理装置的左侧设有真空镀膜腔体，所述真空镀膜腔体的上方设有镀膜机体盖，且真空镀膜腔体的内部设有加热片，所述镀膜机体盖的底部设有镀膜靶材，所述散热扇、报警装置和计时装置均与微电脑处理装置电性连接。
[0006]优选的，所述微电脑处理装置上设有液晶显示屏和控制按钮，所述液晶显示屏和控制按钮均与微电脑处理装置电性连接。
[0007]优选的，所述支撑脚共设置有四个，且四个支撑脚均匀安装在镀膜控制台的四个边角。
[0008]优选的，所述所述开关转钮和混合气体罐均为圆柱体结构。
[0009]优选的，所述散热扇为扇形结构。
[0010]与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:本实用新型一种能控制电场强度的溅射镀膜装置结构科学合理，操作安全方便，利用微电脑装置实现智能化操作，开机后可以预定时间，可以手动控制磁场强弱和电极，散热片冷却机体温度，防止机体过热，混合气体罐可以将不同气体输入。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型一种能控制电场强度的溅射镀膜装置的结构示意图；
[0012]图中:1_镀膜机体盖、2-加热片、3-混合气体输入管、4-第一单向阀门、5-真空栗、6-混合气体罐、7-散热扇、8-支撑脚、9-气体控制阀、10-磁场显示表、11-电极显示表、12-调节转钮、13-报警装置、14-开关转钮、15-计时装置、16-微电脑处理装置、161-液晶显示屏、162-控制按钮、17-真空镀膜腔体、18-镀膜靶材、19-镀膜控制台。
【具体实施方式】
[0013]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0014]请参阅图1，本实用新型提供一种能控制电场强度的溅射镀膜装置技术方案:一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，包括支撑脚8、散热扇7和计时装置15，支撑脚8的上方设有镀膜控制台19，散热扇7嵌入安装在镀膜控制台19的左侧，且散热扇7的右侧设有混合气体罐6，混合气体罐6的上方设有真空栗5，真空栗5的上方设有第一单向阀门4，且真空栗5的右侧设有混合气体输入管3，镀膜控制台19上设有气体控制阀9，气体控制阀9的右上方设有磁场显示表10，磁场显示表10的右侧设有电极显示表11，电极显示表11的下方设有调节转钮12，计时装置15嵌入安装在镀膜控制台19的右侧，且计时装置15的下方设有报警装置13，镀膜控制台19的右侧设有开关转钮14，镀膜控制台19的上方设有微电脑处理装置16，微电脑处理装置16的左侧设有真空镀膜腔体17，真空镀膜腔体17的上方设有镀膜机体盖1，且真空镀膜腔体17的内部设有加热片2，镀膜机体盖I的底部设有镀膜靶材18，散热扇7、报警装置13和计时装置15均与微电脑处理装置16电性连接。
[0015]微电脑处理装置16上设有液晶显示屏161和控制按钮162，液晶显示屏161和控制按钮162均与微电脑处理装置16电性连接，支撑脚8共设置有四个，且四个支撑脚8均匀安装在镀膜控制台19的四个边角，开关转钮14和混合气体罐6均为圆柱体结构，散热扇7为扇形结构。
[0016]工作原理:本实用新型安装好过后，扭动开关转钮14开机，通过在微电脑处理装置16上进行定时，通过调节转钮12可以手动调节真空镀膜腔体17内部的磁场强弱，通过气体控制阀9可以控制不同气体进入真空镀膜腔体17，通过第一单向阀门4，真空栗5可将真空镀膜腔体17内部的空气进行真空处理。
[0017]尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
【主权项】
1.一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，包括支撑脚(8)、散热扇(7)和计时装置(15)，其特征在于:所述支撑脚(8)的上方设有镀膜控制台(19)，所述散热扇(7)嵌入安装在镀膜控制台(19 )的左侧，且散热扇(7 )的右侧设有混合气体罐(6)，所述混合气体罐(6)的上方设有真空栗(5)，所述真空栗(5)的上方设有第一单向阀门(4)，且真空栗(5)的右侧设有混合气体输入管(3 )，所述镀膜控制台(19)上设有气体控制阀(9)，所述气体控制阀(9)的右上方设有磁场显示表(10)，所述磁场显示表(10)的右侧设有电极显示表(11)，所述电极显示表(11)的下方设有调节转钮(12)，所述计时装置(15)嵌入安装在镀膜控制台(19)的右侧，且计时装置(15)的下方设有报警装置(13)，所述镀膜控制台(19)的右侧设有开关转钮(14)，所述镀膜控制台(19)的上方设有微电脑处理装置(16)，所述微电脑处理装置(16)的左侧设有真空镀膜腔体(17)，所述真空镀膜腔体(17)的上方设有镀膜机体盖(I)，且真空镀膜腔体(17)的内部设有加热片(2)，所述镀膜机体盖(I)的底部设有镀膜靶材(18)，所述散热扇(7)、报警装置(13)和计时装置(15)均与微电脑处理装置(16)电性连接。2.根据权利要求1所述的一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，其特征在于:所述微电脑处理装置(16)上设有液晶显示屏(161)和控制按钮(162)，所述液晶显示屏(161)和控制按钮(162)均与微电脑处理装置(16)电性连接。3.根据权利要求1所述的一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，其特征在于:所述支撑脚(8)共设置有四个，且四个支撑脚(8)均匀安装在镀膜控制台(19)的四个边角。4.根据权利要求1所述的一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，其特征在于:所述开关转钮(14 )和混合气体罐(6 )均为圆柱体结构。5.根据权利要求1所述的一种能控制电场强度的溅射镀膜装置，其特征在于:所述散热扇(7)为扇形结构。
【文档编号】C23C14/54GK205529012SQ201620069884
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月26日
【发明人】闫都伦, 唐贵民, 王克斌
【申请人】深圳新南亚技术开发有限公司