用于抛光面板的设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种用于抛光面板的设备，所述面板包括对盒设置的第一基板和第二基板；所述设备包括上盘和下盘，所述上盘的盘面与所述下盘的盘面相对，且所述下盘的盘面能够旋转，以对待抛光的所述第二基板进行抛光处理；在所述上盘上设置有能够对所述第二基板进行固定的第二基板固定结构。本实用新型所提供的用于抛光面板的设备，通过在上盘上设置的基板固定结构，可以对下盘要抛光的一面基板进行固定，从而防止面板的两基板在抛光过程中发生相对位移，减少显示不良的发生率。
【专利说明】
用于抛光面板的设备
技术领域
[0001]本实用新型涉及显示器制造设备技术领域，尤其涉及一种用于抛光面板的设备。
【背景技术】
[0002]为了满足市场对手机等显示产品轻量化、小型化和薄型化的需求，在显示屏制造过程中需要对产品进行减薄处理，部分减薄后的产品需要进行抛光处理。
[0003]目前，如图1和图2所示，用于抛光显示面板的设备主要包括上盘I和下盘2，其中下盘2能够旋转，在进行抛光处理时，以对阵列基板3进行抛光为例，将显示面板的彩膜基板4固定在上盘I上，下盘2旋转，来对阵列基板3进行抛光。
[0004]但是，现有技术中，存在以下问题:
[0005]由于传统的面板抛光设备，都是仅对一面基板(彩膜基板)进行了固定，来对另一面基板(阵列基板)进行抛光，在抛光过程中，显示屏的阵列基板和彩膜基板之间的封框胶(Sealant)变形大，阵列基板与彩膜基板之间会发生相对位移，会导致出现周边细碎亮点(Line Zara Issue)等显不不良。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型的目的就在于提供一种用于抛光面板的设备，其可以防止面板抛光过程中两基板之间发生相对位移，从而减少显示不良的发生率。
[0007]本实用新型所提供的技术方案如下:
[0008]—种用于抛光面板的设备，所述面板包括对盒设置的第一基板和第二基板;所述设备包括上盘和下盘，所述上盘的盘面与所述下盘的盘面相对，且所述下盘的盘面能够旋转，以对待抛光的所述第二基板进行抛光处理;在所述上盘上设置有能够对所述第二基板进行固定的第二基板固定结构。
[0009]进一步的，所述第二基板固定结构包括:形成于所述上盘的盘面上，用于容置所述第一基板和所述第二基板的凹槽。
[0010]进一步的，所述凹槽的深度大于所述第一基板的厚度，且小于所述面板的厚度，以使所述第二基板的一部分露在所述凹槽之外。
[0011]进一步的，所述凹槽的至少一侧侧壁可相对于与其相对的另一侧侧壁移动，以使得所述凹槽的大小可调整。
[0012]进一步的，所述用于抛光面板的设备还包括:用于移动所述上盘，以调整所述上盘与所述下盘的相对位置的上盘位置调整单元，所述上盘位置调整单元与所述上盘连接。
[0013]进一步的，所述上盘位置调整单元包括:
[0014]用于在平行于所述下盘的盘面的第一方向上移动所述上盘的第一移动机构；以及用于在垂直于所述下盘的盘面的第二方向上移动所述上盘的第二移动机构。
[0015]进一步的，所述上盘包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分与上盘位置调整单元连接，所述上盘的盘面位于所述第二部分上，所述第一部分和所述第二部分可拆卸地连接在一起。
[0016]进一步的，在所述上盘的盘面上设有用于吸附固定所述第一基板的第一基板固定结构，所述第一基板固定结构包括设置在所述上盘的盘面上的真空吸附结构。
[0017]进一步的，所述真空吸附结构设置在所述凹槽内。
[0018]进一步的，所述真空吸附结构包括一真空吸附垫，所述真空吸附垫上设有多个与抽真空设备连接的真空吸附孔。
[0019]本实用新型的有益效果如下:
[0020]本实用新型所提供的用于抛光面板的设备，通过在上盘上设置的基板固定结构，可以对下盘要抛光的一面基板进行固定，从而防止面板的两基板在抛光过程中发生相对位移，减少显示不良的发生率。
【附图说明】
[0021]图1表示现有技术中用于抛光面板的设备的结构示意图；
[0022]图2表示现有技术中用于抛光面板的设备在进行面板抛光时的示意图；
[0023]图3表示本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备的结构示意图；
[0024]图4表示本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备在进行面板抛光时的示意图。
【具体实施方式】
[0025]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0026]针对现有技术中用于抛光面板的设备在面板抛光过程中会导致两基板发生相对位移而产生显示不良的技术问题，本实用新型提供了一种用于抛光面板的设备，可以防止在抛光过程中面板的两基板发生相对位移，从而减少显示不良的发生率。
[0027]如图所示，本实用新型所提供的用于抛光面板的设备，其中面板包括对盒设置的第一基板10和第二基板20。所述设备包括上盘100和下盘200，所述上盘100的盘面与所述下盘200的盘面相对，在所述上盘100的盘面上设有用于吸附固定所述第一基板10的第一基板固定结构，且所述下盘200的盘面能够旋转，以对待抛光的所述第二基板20进行抛光处理；在所述上盘100上设置有能够对所述第二基板20进行固定的第二基板固定结构。
[0028]本实用新型所提供的用于抛光面板的设备，通过在上盘100上设置第二基板固定结构，可以不仅对靠近上盘100的一面基板(即第一基板10)进行固定，还可以对下盘200要抛光的一面基板(即第二基板20)直接进行固定，可以防止面板的两基板在抛光过程中发生相对位移，减少显示不良的发生率。
[0029]在本实用新型所提供的上述设备中，优选的，如图所示，所述第二基板固定结构包括:形成于所述上盘100的盘面上，用于容置所述第一基板10和所述第二基板20的凹槽300。
[0030]采用上述方案，所述第二基板固定结构可以通过在上盘100的盘面上形成一凹槽300结构来实现，结构简单，在抛光面板时，使得第一基板10朝上，第二基板20朝下，将第一基板10和第二基板20容置并固定于所述凹槽300内，来对第二基板20进行固定，同时也对所述第一基板10进行进一步的固定。
[0031]应当理解的是，在实际应用中，所述第二基板固定结构的具体实现方式可以不仅局限于此，还可以采用其他方式，例如:在所述下盘的盘面上设置能够夹持住所述第二基板的夹持结构等，在此不再列举。
[0032]此外，在本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备中，如图所示，优选的，所述凹槽300的深度大于所述第一基板10的厚度，且小于所述面板的厚度，以使所述第二基板20的一部分露在所述凹槽300之外。采用上述方案，可以保证凹槽300对第二基板20进行固定，且不会影响第二基板20抛光。
[0033]此外，在本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备中，优选的，所述第一基板固定结构包括设置在所述上盘100的盘面上的真空吸附结构，所述真空吸附结构设置在所述凹槽300内。
[0034]采用上述方案，可以通过真空吸附结构来吸附固定住第一基板10，从而使得第一基板10和第二基板20固定在凹槽300内。
[0035]在本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备中，优选的，所述真空吸附结构包括一真空吸附垫，所述真空吸附垫上设有多个与抽真空设备连接的真空吸附孔。
[0036]以上提供了一种真空吸附结构的优选结构，应当理解的是，在实际应用中，所述真空吸附结构的具体可实现方式可以不仅局限于此。
[0037]此外，在本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备中，优选的，如图所示，所述用于抛光面板的设备还包括:用于移动所述上盘100，以调整所述上盘100与所述下盘200的相对位置的上盘位置调整单元101，所述上盘位置调整单元101与所述上盘100连接。
[0038]采用上述方案，当利用所述下盘200抛光面板时，通过设置的所述上盘位置调整单元101可以对所述上盘100的位置进行调整，从而，可以使得被抛光之后的第二基板20抛光均匀。
[0039]优选的，所述上盘位置调整单元101包括:用于在平行于所述下盘200的盘面的第一方向上移动所述上盘100的第一移动机构；以及，用于在垂直于所述下盘200的盘面的第二方向上移动所述上盘100的第二移动机构。具体地，所述第一移动机构和所述第二移动机构可以包括与所述上盘100连接的气缸等。
[0040]此外，在本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备中，优选的，所述凹槽300的至少一侧侧壁能够相对于与其相对的另一侧侧壁移动，以使得所述凹槽300的大小可调整。
[0041 ]上述方案，将所述凹槽300设计为可以调整其凹槽300大小的结构，如此，可以适应于不同尺寸型号的面板。
[0042]需要说明的是，对于所述凹槽300的尺寸大小进行调整的具体实现方式，并不作具体限定，只要将凹槽300至少一侧侧壁设计为可相对于与其相对的另一侧侧壁移动的结构即可。
[0043]此外，在本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备中，优选的，所述上盘100包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分与所述上盘位置调整单元101连接，所述上盘100的盘面位于所述第二部分上，所述第一部分和所述第二部分可拆卸地连接在一起。
[0044]采用上述方案，将所述上盘100设计为可拆卸的两部分，其中第一部分与上盘位置调整单元101连接，第二部分上设置所述凹槽300，且所述第二部分可以从所述第一部分上拆卸下来，当需要对不同尺寸型号的面板进行抛光时，可以仅将所述第二部分拆卸下来，更换具有匹配大小的凹槽300的第二部分，如此，即可使得本实用新型实施例所提供的用于抛光面板的设备可以适应于不同尺寸型号的面板。
[0045]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种用于抛光面板的设备，所述面板包括对盒设置的第一基板和第二基板;所述设备包括上盘和下盘，所述上盘的盘面与所述下盘的盘面相对，且所述下盘的盘面能够旋转，以对待抛光的所述第二基板进行抛光处理;其特征在于，在所述上盘上设置有能够对所述第二基板进行固定的第二基板固定结构。2.根据权利要求1所述的用于抛光面板的设备，其特征在于， 所述第二基板固定结构包括:形成于所述上盘的盘面上，用于容置所述第一基板和所述第二基板的凹槽。3.根据权利要求2所述的用于抛光面板的设备，其特征在于， 所述凹槽的深度大于所述第一基板的厚度，且小于所述面板的厚度，以使所述第二基板的一部分露在所述凹槽之外。4.根据权利要求2所述的用于抛光面板的设备，其特征在于， 所述凹槽的至少一侧侧壁可相对于与其相对的另一侧侧壁移动，以使得所述凹槽的大小可调整。5.根据权利要求2所述的用于抛光面板的设备，其特征在于， 所述用于抛光面板的设备还包括:用于移动所述上盘，以调整所述上盘与所述下盘的相对位置的上盘位置调整单元，所述上盘位置调整单元与所述上盘连接。6.根据权利要求5所述的用于抛光面板的设备，其特征在于， 所述上盘位置调整单元包括: 用于在平行于所述下盘的盘面的第一方向上移动所述上盘的第一移动机构；以及用于在垂直于所述下盘的盘面的第二方向上移动所述上盘的第二移动机构。7.根据权利要求5所述的用于抛光面板的设备，其特征在于， 所述上盘包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分与上盘位置调整单元连接，所述上盘的盘面位于所述第二部分上，所述第一部分和所述第二部分可拆卸地连接在一起。8.根据权利要求2所述的用于抛光面板的设备，其特征在于，所述设备还包括:设在所述上盘的盘面上的用于吸附固定所述第一基板的第一基板固定结构，所述第一基板固定结构包括设置在所述上盘的盘面上的真空吸附结构。9.根据权利要求8所述的用于抛光面板的设备，其特征在于， 所述真空吸附结构设置在所述凹槽内。10.根据权利要求8所述的用于抛光面板的设备，其特征在于， 所述真空吸附结构包括一真空吸附垫，所述真空吸附垫上设有多个与抽真空设备连接的真空吸附孔。
【文档编号】B24B29/02GK205630270SQ201620539523
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年5月31日
【发明人】李亚君, 张志海
【申请人】合肥京东方光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司