一种化学抛光清洗机的供液系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种化学抛光清洗机的供液系统，包括储液槽、氮气管路、化学溶液进口管、化学溶液出口管和控制系统，所述储液槽的上端连接有所述氮气管路，所述氮气管路上设有相应的氮气阀门，所述储液槽的下端连接有所述化学溶液进口管和所述化学溶液出口管，化学溶液进口管和化学溶液出口管上分别设有相应的化学溶液进口阀和化学溶液出口阀，所述化学溶液出口管未连接储液槽的一端连接有一混合管路，所述混合管路还连接有一化学溶液浓度调整机构，所述化学溶液浓度调整机构包含连接到混合管路上的去离子水管，所述去离子水管上设置有一去离子水气动阀。该化学抛光清洗机的供液系统能够根据需要对化学抛光用化学试剂的浓度进行调低。
【专利说明】
一种化学抛光清洗机的供液系统
技术领域
[0001]本实用新型涉及化学抛光清洗机的配套设备技术领域，具体是指一种化学抛光清洗机的供液系统。
【背景技术】
[0002]化学抛光是靠化学试剂对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光清洗机的是半导体晶圆生产的重要设备，现有的化学抛光清洗机供液系统主要由一根管路，几个气动阀及I个浮子流量计组成，这种结构不能实现对化学抛光用化学试剂的浓度调节。厂务端供应多少浓度的化学试剂，就只能用多大浓度的化学试剂。而一般厂务端供应的化学试剂的浓度都要相对较高，由于现有的化学抛光清洗机供液系统无法根据实际的现场生产需要，对化学抛光用化学试剂的浓度进行调低，导致化学抛光加工存在较大的局限性。
[0003]因此，设计一款能够根据需要对化学抛光用化学试剂的浓度进行调低的化学抛光清洗机供液系统是本实用新型的研究目的。
【实用新型内容】
[0004]针对上述现有技术存在的不足之处，本实用新型在于提供一种化学抛光清洗机的供液系统，该化学抛光清洗机的供液系统能够根据需要对化学抛光用化学试剂的浓度进行调低。
[0005]本实用新型的技术方案如下:
[0006]—种化学抛光清洗机的供液系统，包括储液槽、氮气管路、化学溶液进口管、化学溶液出口管和控制系统，所述储液槽的上端连接有所述氮气管路，所述氮气管路上设有相应的氮气阀门，所述储液槽的下端连接有所述化学溶液进口管和所述化学溶液出口管，所述化学溶液进口管和所述化学溶液出口管上分别设有相应的化学溶液进口阀和化学溶液出口阀，所述化学溶液出口管未连接所述储液槽的一端连接有一混合管路，所述化学溶液出口管在所述化学溶液出口阀的出液端一侧设置有一化学溶液流量计，所述混合管路还连接有一化学溶液浓度调整机构，所述化学溶液浓度调整机构包含连接到所述混合管路上的去离子水管，所述去离子水管上设置有一去离子水气动阀，所述去离子水管在所述去离子水气动阀的出液端一侧设置有一去离子水流量计，所述氮气阀门、化学溶液进口阀、化学溶液出口阀、去离子水气动阀、化学溶液流量计和去离子水流量计均连接到所述控制系统。
[0007]实施本实用新型的技术方案，具有以下有益效果:
[0008]本实用新型的储液槽的上端连接有氮气管路，氮气管路上设有相应的氮气阀门，储液槽的下端连接有化学溶液进口管和化学溶液出口管，化学溶液进口管和化学溶液出口管上分别设有相应的化学溶液进口阀和化学溶液出口阀，通过氮气为本实用新型提供压力，确保化学试剂进液的流量具有较高的稳定性；
[0009]本实用新型的混合管路还连接有一化学溶液浓度调整机构，化学溶液浓度调整机构包含连接到混合管路上的去离子水管，去离子水管上设置有一去离子水气动阀，当厂务供应的化学试剂浓度较高时，可以通过化学溶液浓度调整机构加入水将相应的化学试剂的浓度降低;通过化学溶液流量计和去离子水流量计进行流量监测，并将监测结果的信号输入控制系统，控制系统再根据现场生产需要的浓度，控制氮气阀门、化学溶液进口阀、化学溶液出口阀和去离子水气动阀的开启程度，对化学试剂和水的流量进行控制，将化学试剂的浓度调整至现场生产所需的最佳比例。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0011]为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图，对本实用新型作进一步详细说明。
[0012]参考图1，一种化学抛光清洗机的供液系统，包括储液槽1、氮气管路2、化学溶液进口管3、化学溶液出口管4和控制系统5，所述储液槽I的上端连接有所述氮气管路2，所述氮气管路2上设有相应的氮气阀门21，所述储液槽I的下端连接有所述化学溶液进口管3和所述化学溶液出口管4，所述化学溶液进口管3和所述化学溶液出口管4上分别设有相应的化学溶液进口阀31和化学溶液出口阀41，所述化学溶液出口管4未连接所述储液槽I的一端连接有一混合管路6，所述化学溶液出口管4在所述化学溶液出口阀41的出液端一侧设置有一化学溶液流量计7，所述混合管路6还连接有一化学溶液浓度调整机构，所述化学溶液浓度调整机构包含连接到所述混合管路6上的去离子水管8，所述去离子水管8上设置有一去离子水气动阀81，所述去离子水管8在所述去离子水气动阀81的出液端一侧设置有一去离子水流量计9，所述氮气阀门21、化学溶液进口阀31、化学溶液出口阀41、去离子水气动阀81、化学溶液流量计7和去离子水流量计9均连接到所述控制系统5。
[0013]当供应的化学试剂浓度较高时，可以通过化学溶液浓度调整机构加入水将相应的化学试剂的浓度降低;通过化学溶液流量计7和去离子水流量计9进行流量监测，并将监测结果的信号输入控制系统5，控制系统5再根据现场生产需要的浓度，控制所述氮气阀门21、化学溶液进口阀31、化学溶液出口阀41、去离子水气动阀81的开启程度，对化学试剂和水的流量进行控制，实现现场生产所需的最佳比例。
[0014]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种化学抛光清洗机的供液系统，包括储液槽、氮气管路、化学溶液进口管、化学溶液出口管和控制系统，所述储液槽的上端连接有所述氮气管路，所述氮气管路上设有相应的氮气阀门，所述储液槽的下端连接有所述化学溶液进口管和所述化学溶液出口管，其特征在于:所述化学溶液进口管和所述化学溶液出口管上分别设有相应的化学溶液进口阀和化学溶液出口阀，所述化学溶液出口管未连接所述储液槽的一端连接有一混合管路，所述化学溶液出口管在所述化学溶液出口阀的出液端一侧设置有一化学溶液流量计，所述混合管路还连接有一化学溶液浓度调整机构，所述化学溶液浓度调整机构包含连接到所述混合管路上的去离子水管，所述去离子水管上设置有一去离子水气动阀，所述去离子水管在所述去离子水气动阀的出液端一侧设置有一去离子水流量计，所述氮气阀门、化学溶液进口阀、化学溶液出口阀、去离子水气动阀、化学溶液流量计和去离子水流量计均连接到所述控制系统。
【文档编号】B24B57/02GK205668202SQ201620733014
【公开日】2016年11月2日
【申请日】2016年7月12日
【发明人】韦荣, 李春, 庞金明
【申请人】吉姆西半导体科技（无锡）有限公司