清洗装置以及化学机械研磨装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种清洗装置以及化学机械研磨装置，清洗装置用以清理一承载面，承载面为晶圆研磨过程中用以承载待研磨和/或已研磨的晶圆，清洗装置包括清洁头以及连接清洁头的支撑调整单元，清洁头在支撑调整单元的驱动下接触承载面，并在支撑调整单元的驱动下清洁承载面。在晶圆研磨过程中，使用本实用新型的清洗装置后，由于清洁头可在支撑调整单元的驱动下运动并清洁用以承载待研磨或已研磨的晶圆的承载面，这样，当晶圆放置于该承载面上，晶圆不会被其划伤；若该承载面上设置有保护膜，清洗装置也可对该保护膜进行清洁，从而确保保护膜的洁净度以及均匀度，进而可以延长保护膜的使用周期，降低生产成本。
【专利说明】
清洗装置以及化学机械研磨装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种化学机械研磨装置，特别涉及一种用于清洗晶圆研磨过程中用以承载待研磨和已研磨的晶圆的承载面的清洗装置。
【背景技术】
[0002]在晶圆制造过程中，晶圆会经过研磨抛光处理，以使其表面平坦化。目前，晶圆的研磨抛光是通过化学机械研磨(CMP，Chemical Mechanical Polishing)装置完成的。如图1所示，现有的CMP装置10包括至少一个用于吸附晶圆的研磨头11，研磨头11研磨过程中相对于研磨垫13转动以研磨抛光晶圆。在研磨过程中，现有的CMP装置通过机械手将待研磨的晶圆传送至研磨头11，并自研磨头11上将已研磨的晶圆取下。
[0003]研磨之前或之后，晶圆通常会存放于一个中转台15上;存放之前，该中转台15的承载面上会粘贴一张保护膜，进而将待研磨或已研磨的晶圆放置于该保护膜上。然后，在现有的化学机械研磨过程中，晶圆发生比例最高的一种表面缺陷就是划伤。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种清洗装置以及化学机械研磨装置，以解决现有晶圆研磨过程中用以存放待研磨或已研磨的晶圆的承载面容易刮伤晶圆的问题。
[0005]为实现上述目的以及其它相关目的，本实用新型提供了一种清洗装置，用以清理一承载面，所述承载面为晶圆研磨过程中用以承载待研磨和/或已研磨的晶圆;所述清洗装置包括清洁头以及连接所述清洁头的支撑调整单元;其中，所述清洁头在所述支撑调整单元的驱动下接触所述承载面，并在所述支撑调整单元的驱动下清洁所述承载面。
[0006]优选地，所述支撑调整单元包括支撑机构以及连接所述支撑机构的驱动机构;所述支撑机构连接所述清洁头，并在所述驱动机构的驱动下带动所述清洁头运动。
[0007]优选地，所述清洁头在所述支撑调整单元的驱动下进行竖直方向以及水平方向的运动;所述竖直方向为垂直于所述承载面的方向，所述水平方向为平行于所述承载面的方向。
[0008]优选地，所述水平方向的运动包括所述清洁头在水平面内的公转;所述水平面平行于所述承载面。
[0009]优选地，所述驱动机构包括一第一驱动电机，所述支撑机构包括连接臂以及沿所述承载面的垂直方向设置的第一转轴;所述连接臂的一端连接所述第一转轴，所述连接臂的另一端连接所述清洁头;所述第一转轴连接所述第一驱动电机，并在所述第一驱动电机的驱动下转动；随着所述第一转轴的转动，所述连接臂带动所述清洁头绕所述第一转轴转动。
[0010]优选地，所述驱动机构包括流体压缸、转接板以及连接轴，所述支撑机构包括连接臂以及沿所述承载面的垂直方向设置的第一转轴;所述连接臂的一端连接所述第一转轴，所述连接臂的另一端连接所述清洁头;所述流体压缸包括活塞以及活塞杆，所述活塞杆连接所述连接轴，所述连接轴连接所述转接板，所述转接板固设于所述第一转轴上;所述流体压缸通过所述活塞、活塞杆、连接轴以及转接板驱动所述第一转轴转动;随着所述第一转轴的转动，所述连接臂带动所述清洁头绕所述第一转轴转动。
[0011 ]优选地，所述水平方向的运动包括所述清洁头在水平面内的直线移动;所述水平面平行于所述承载面。
[0012]优选地，所述驱动机构包括至少一根直线导轨，所述直线导轨连接有一第二驱动电机，并在所述第二驱动电机的驱动下直线移动;所述支撑机构设置于所述直线导轨上，随着所述直线导轨的移动，所述支撑机构带动所述清洁头移动。
[0013]优选地，所述水平方向的运动包括所述清洁头在水平面内的自转;所述水平面平行于所述承载面。
[0014]优选地，所述驱动机构包括一第三驱动电机，所述支撑机构包括与所述承载面垂直的第二转轴;所述第二转轴的一端固连所述清洁头，所述第二转轴的另一端连接所述第三驱动电机，并在所述第三驱动电机的驱动下转动，以带动所述清洁头自转。
[0015]优选地，所述竖直方向的运动包括所述清洁头沿竖直方向的直线移动。
[0016]优选地，所述驱动机构包括流体压缸以及承载台；所述流体压缸包括活塞以及活塞杆，所述活塞杆连接所述承载台，所述支撑机构连接所述承载台，所述流体压缸通过所述活塞、活塞杆以及承载台驱动所述支撑机构沿竖直方向移动，并带动所述清洁头移动。
[0017]优选地，所述清洗装置还包括与所述承载台活动连接的支撑杆。
[0018]优选地，所述竖直方向的运动包括所述清洁头沿竖直平面内的自转，所述竖直平面垂直于所述承载面。
[0019]优选地，所述驱动机构包括一第三驱动电机，所述支撑机构包括与所述承载面平行的第二转轴;所述清洁头套设在所述第二转轴上，所述第二转轴连接所述第三驱动电机，并在所述第三驱动电机的驱动下转动，以带动所述清洁头自转。
[0020]优选地，所述清洗装置还通过试剂清洁所述承载面。
[0021]优选地，所述清洁头包括基座以及设置于所述基座一侧的刷头;所述基座连接所述支撑调整单元，并在所述支撑调整单元的驱动下运动，且通过所述刷头接触并清洁所述承载面。
[0022]优选地，所述刷头包括一排或多排刷毛。
[0023]优选地，所述刷头的数量为多个，多个所述刷头间隔分布，且每个所述刷头为一凸点结构。
[0024]为实现上述目的以及其它相关目的，本实用新型提供了一种化学机械研磨装置，包括用于放置待研磨和/或已研磨的晶圆的承载台，所述承载台的承载面上设置有一保护膜;所述化学机械研磨装置还包括如上任意一项所述的清洗装置;所述清洗装置设置于所述承载台的一侧，并通过其清洁头清洁所述保护膜。
[0025]综上所述，在晶圆研磨过程中，使用本实用新型提供的清洗装置后，由于清洗装置上的清洁头可在支撑调整单元的驱动下运动并清洁用以承载待研磨或已研磨的晶圆的承载面，这样，当待研磨或已研磨的晶圆放置于该承载面上，晶圆不会被该承载面划伤，降低了晶圆表面缺陷的发生率，提升了晶圆的良率。进一步，本实用新型提供的清洗装置也可对设置于承载面的保护膜进行清洁，从而确保保护膜的洁净度以及均匀度，进而可以延长保护膜的使用周期，降低生产成本。
【附图说明】
[0026]图1为现有的化学机械研磨装置的结构示意图；
[0027]图2是本实用新型实施例一的清洗装置的结构示意图；
[0028]图3是本实用新型实施例一的清洗装置之清洁头于承载面的上方预清洁的结构示意图；
[0029]图4是本实用新型实施例一的清洗装置之另一清洁头于承载面的上方预清洁的结构示意图；
[0030]图5是本实用新型实施例二的清洗装置的结构示意图。
[0031]本实用新型实施例中的附图标记说明如下:
[0032]100、300_ 清洗装置；110、310_ 清洁头；111-基座；113、313_ 刷头；130、330_ 支撑调整单元；131、331_第一转轴；133、333_连接臂；135-第一流体压缸；137-转接板；139-连接轴；141-第一活塞杆;143-第二转轴；145-第二流体压缸；147-承载台；149第二活塞杆；151-支撑杆;200-承载台；210-承载面;311-套筒。
【具体实施方式】
[0033]发明人对现有技术研究发现，大多数情况下，图1中的中转台15上的保护膜存在杂质或该保护膜不均匀是造成晶圆表面划伤的最主要原因。为解决现有晶圆研磨过程中用以存放待研磨或已研磨的晶圆的承载面容易刮伤晶圆的问题，本实用新型提出了一种清洗装置以及化学机械研磨装置。
[0034]为使本实用新型的优点和特征更加清楚，以下结合附图2?5对本实用新型提出的清洗装置以及化学机械研磨装置作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
[0035]〈实施例一〉
[0036]本实施例提供了一种清洗装置100，该清洗装置100主要用以清理一承载面210，该承载面210为晶圆研磨过程中用以承载待研磨或已研磨的晶圆。该承载面210例如为一承载台200的上表面。
[0037]图2是本实用新型实施例一的清洗装置的结构示意图。如图1所示，该清洗装置100包括清洁头110以及支撑调整单元130;所述清洁头110设置于支撑调整单元130上，并可在支撑调整单元130的驱动下运动。所述清洁头110优选在支撑调整单元130的驱动下进行竖直方向以及水平方向的运动，例如竖直方向的移动、水平方向的移动以及水平方向的转动等。所述竖直方向为垂直于承载面210的方向，所述水平方向为平行于承载面210的方向。
[0038]所述清洗装置100在本实施例中安装于承载台200的一侧，例如左侧、右侧等，具体本实用新型并不限制。使用该清洗装置100时，首先，通过支撑调整单元130驱动清洁头110运动以调整清洁头110的位置，并最终使清洁头110接触承载面210;接触承载面210后，所述清洁头110进一步在支撑调整单元130的驱动下运动，以通过运动清洁承载面210。随后，清洁完成后，所述清洁头110在支撑调整单元130的驱动下远离承载面210，便可将待研磨或已研磨的晶圆放置于承载面210上。
[0039]本实施例中，所述支撑调整单元130包括支撑机构以及连接所述支撑机构的驱动机构;所述支撑机构连接清洁头110，并在所述驱动机构的驱动下带动清洁头110运动。
[0040]清洁所述承载面210时，本实施例的清洁头110在支撑调整单元130的驱动下做水平方向的运动，以通过水平方向的运动清洁所述承载面210。
[0041]在一个实施例中，所述水平方向的运动包括清洁头110在水平面(该水平面平行于承载面210，下同)内的公转，此时，所述支撑机构包括沿承载面210的垂直方向设置的第一转轴131，所述第一转轴131在所述驱动机构的驱动下转动，并带动清洁头110绕所述第一转轴131转动，以实现水平面内的公转。
[0042]例如图2所示，所述支撑机构还包括连接臂133，所述驱动机构包括一个第一驱动电机(未图示)；其中，所述连接臂133的一端连接清洁头110，所述连接臂133的另一端固连第一转轴131，所述第一转轴131又连接所述第一驱动电机，所述第一驱动电机直接驱动第一转轴131转动，由于所述连接臂133固设在第一转轴131上，因而，所述连接臂133同步转动并驱动其远端的清洁头110绕第一转轴131转动。进一步，所述第一转轴131上可固设一个转筒(未图示)，所述转筒随着第一转轴131同步转动，而所述连接臂133的另一端固连所述转筒，同样可实现清洁头110绕第一转轴131的转动。
[0043]在其他实施例中，所述第一驱动电机由一个第一流体压缸装置代替，具体的，如图2所示。图2示出的第一流体压缸装置包括第一流体压缸135、转接板137以及连接轴139;所述第一流体压缸135包括第一活塞以及第一活塞杆141，所述第一活塞杆141连接一连接轴139，而所述连接轴139连接转接板137，所述转接板137固设于第一转轴131上;所述第一流体压缸135通过所述第一活塞、第一活塞杆141、连接轴139以及转接板137驱动第一转轴131转动，随着所述第一转轴131的转动，所述连接臂133带动清洁头110绕第一转轴131转动。所述连接轴139可通过螺母、螺栓与转接板137固连。所述转接板137可通过焊接、热处理等方式与第一转轴131固连。
[0044]除了清洁头110可在水平面内进行公转外，所述水平方向的运动还可包括清洁头110在水平面内的直线移动，例如相对于承载面110的前后方向、左右方向进行移动。为了实现直线移动，所述支撑调整单元130可通过丝杆、直线导轨等方式(未图示)驱动清洁头110进行水平方向的直线移动，具体本实用新型并不限制。例如所述驱动机构还包括X方向以及Y方向的直线导轨(本申请中，定义所述X方向是平行于承载面210的左右方向，所述Y方向是平行于承载面210的前后方向)，每根直线导轨可连接一第二驱动电机，并在对应第二驱动电机的驱动下直线移动。
[0045]具体的，本实施例的支撑机构(例如本实施例的第一转轴131)设置于上述直线导轨上，随着这些直线导轨的移动，所述支撑机构带动清洁头110在水平面内移动。其中:所述X方向的直线导轨通过第一转轴131、连接臂133直接驱动清洁头110做X方向的直线移动，所述Y方向的直线导轨通过第一转轴131、连接臂133直接驱动清洁头110做Y方向的直线移动。
[0046]优选实施方式中，所述水平方向的运动还包括清洁头110在水平面内的自转。例如图2所示，除了连接臂133以及第一转轴131外，所述支撑机构还包括沿承载面210的垂直方向设置的第二转轴143，所述驱动机构还包括一个第三驱动电机;所述第二转轴143的一端固连清洁头110，所述第二转轴143的另一端连接所述第三驱动电机。同时所述第二转轴143活动连接一连接臂133，如通过轴承与连接臂133转动连接。这样，所述第三驱动电机可直接驱动清洁头110自转，以通过自转运动清洁承载面210。当然，自转运动的同时，所述清洁头110还可以进行水平面内的直线移动或绕第一转轴131的转动。进一步，所述第二转轴143上可固设一个转筒(未图示)，即所述转筒随着第二转轴143同步转动，而所述连接臂133的一端固连该转筒，同样可实现清洁头110的自转。
[0047]所述连接臂133在本实施例中优选为中空结构，以便于将一些控制信号线、电源线等设置于连接臂133中，如此，既美观又不影响操作控制。
[0048]所述清洗装置100在本实施例中，还采用试剂对承载面210进行清洗。该试剂会直接冲刷在承载面210上。该试剂为化学清洗液，该化学清洗液为常温的去离子水(DIW)、热去离子水(HDIW)、1号标准清洗溶液(SC-1)、硫酸(H2S04)或者一定浓度的臭氧水(03W)等，具体本实用新型并不限定。本实施例的清洗装置100可通过一外部机构向所述承载面210喷洒试剂，也可以通过与外部供液设备连接的试剂管路向所述承载面210喷洒试剂。
[0049]继续参阅图2，本实施例的驱动机构还包括活动连接所述支撑机构的可升降组件；所述可升降组件直接驱动支撑机构做竖直方向的直线移动，以带动清洁头110沿竖直方向直线移动。例如图2示出的实施例中，所述第一转轴131活动连接所述可升降组件，所述可升降组件直接驱动第一转轴131沿竖直方向直线移动。
[0050]所述可升降组件在本实施例中可选为第二流体压缸装置，以通过流体压力驱动进行竖直移动。所述第二流体压缸装置包括第二流体压缸145以及承载台147，所述第二流体压缸145包括第二活塞以及第二活塞杆149，所述第二活塞杆149连接承载台147，所述第一转轴131的一端转动连接(为了实现第一转轴131的转动，在此将第一转轴131设置为转动连接)承载台147，所述第二流体压缸145通过所述第二活塞、第二活塞杆149以及承载台147驱动第一转轴131沿竖直方向移动，并带动清洁头110直线移动。
[0051]所述清洗装置100还包括支撑杆151，所述支撑杆151的一端活动连接承载台147，所述支撑杆151的另一端可与外部固定架固连。具体地说，所述支撑杆151的一端设置有弹簧结构，该弹簧结构的一端固连支撑杆151，该弹簧结构的另一端固连承载台147。
[0052]在另一实施例中，所述支撑杆151滑动连接承载台147，这样既可限定承载台147的运动方向，又可在结构上进行支撑。例如:所述支撑杆151上设置有与支撑杆151滑动连接的滑块，所述承载台147固设于该滑块上，那么，所述承载台147做上下运动时，可带动该滑块做上下运动。
[0053]除了流体压力驱动外，所述可升降组件还可为滚珠丝杠装置，以通过丝杠的旋转运动驱动进行竖直移动。例如所述第一转轴131活动连接滚珠丝杠装置的升降架，所述升降架在丝杠的驱动下上下运动。
[0054]当然，能够实现升降运动的机构有很多，上述实施例只是对其中一些方式进行了举例说明，本实用新型包括但不局限于上述这些方式。
[0055]综上，上述第一流体压缸135、第二流体压缸145为液压缸或气压缸，优选为气压缸，工作平稳，响应快。
[0056]参阅图3，其是本实用新型实施例一的清洗装置之清洁头于承载面上方预清洁的示意图。所述清洁头110包括基座111以及设置于基座111 一侧的刷头113;所述基座111连接支撑调整单元130，以在支撑调整单元130的驱动下带动刷头113运动。如图2所示，所述基座111通过第二转轴143与连接臂133活动连接;清洁承载面210时，所述刷头113直接接触承载面210并对承载面210进行清洁。
[0057]所述基座111的形状可为长条状、正方体状、圆柱状、圆台状等规则的结构形状，加工方便。图2?4不出的是长条状的基座111。
[0058]以长条状的基座111来说，所述刷头113可以是沿基座111的长度方向布置的多个刷头113(示出于图3)，也可以是沿基座111的长度方向布置的一排或多排刷毛(示出于图4)。图4是本实用新型实施例一的清洗装置之另一清洁头于承载面上方预清洗的示意图。
[0059]在多个刷头113的结构中:每个刷头113包括一束刷毛，该一束刷毛直接固定在基座111上;或者，每个刷头113直接是圆柱体、圆台、棱台、棱柱或椭圆柱等凸点结构，以充当刷毛并对承载面210进行刷洗处理。
[0060]上述刷毛可选用尼龙材质制成，其可通过自身的弹力固定于基座111上。具体地说，每个毛刷与基座111连接的一端可套一个橡胶，同时所述基座111面向承载面210的表面上相应位置处设置一个开孔，进而每个毛刷套有橡胶的端部可设置于所述开孔内，并借助所述橡胶的弹性变形使每个毛刷紧紧固定在基座111上。
[0061]优选方案中，所述基座111的长度大于或等于承载面210的最大宽度。例如承载面210为一圆形，则基座111的长度大于或等于承载面210的直径;若承载面210为一长方形，则基座111的长度大于或等于承载面210的长度;若承载面210为一正方形，则基座111的长度大于或等于承载面210的宽度;若承载面210为一不规则的形状，则基座111的长度大于或等于承载面210上最远两点间的直线距离即可;这样的设置，可便于将刷头113布置于基座111的边沿附近，以使刷头113刷洗过程中可以全面刷洗承载面210(包括承载面210的边缘)。例如，当所述基座111位于承载台200的正上方(即基座111的中心轴线与承载台200的中心轴线重合)时，所述基座111沿其长度方向的每个端面与承载面210对应边缘之间的直线距离在5.0?8.0mm之间。具体而言，所述承载面210为一圆形(与晶圆的形状相匹配)，其直径在200?205mm范围之间。
[0062]参阅图2?4，本实施例的清洗装置100的使用原理如下:
[0063]当所述清洁头110接触承载面210后，所述支撑调整单元130可驱动清洁头110做水平方向(即平行于承载面210的方向)的运动，如相对于承载面210的前后方向、左右方向的直线移动，以及绕第一转轴131的转动，或者绕第二转轴143的自转，这些运动可同时进行也可单独进行，本申请并不限定，只要能够做到有效清洗承载面210的目的便可。
[0064]〈实施例二〉
[0065]与实施例一的区别在于:本实施例的清洁头310不是在水平面内自转，而是在竖直平面(所述竖直平面垂直于承载面210，下同)内自转，例如绕X方向(本申请中，X方向为平行于承载面210的左右方向)转动。图5是本实用新型是例二的清洗装置的结构示意图。
[0066]如图5所示，所述清洗装置300包括清洁头310以及支撑调整单元330;所述支撑调整单元330连接清洁头310，并可驱动清洁头310运动。本实施例的清洁头310可在支撑调整单元330的驱动下进行竖直方向以及水平方向的运动。所述竖直方向的运动包括竖直方向的移动以及在竖直平面内的转动。所述水平方向的运动包括水平方向的移动以及水平方向的转动。
[0067]本实施例的竖直方向的移动可通过实施例一所述的方式实现，具体地说，本实施例的第一转轴331连接可升降组件，所述可升降组件用以驱动第一转轴331竖直运动。所述可升降组件的【具体实施方式】如同实施例一所述，且本实施例中未提及的结构件采用与实施例一相同的标示。
[0068]与实施例一不同的是，本实施例的支撑机构包括第一转轴331，并还包括连接臂333或第二转轴143中其中之一。在此，所述连接臂333用以充当清洁头310的自转轴。当然，也可取消连接臂333，而是采用实施例一中的第二转轴143充当清洁头310的自转轴。
[0069]以连接臂333作为清洁头310的自转轴来说，在此，所述连接臂333与承载面210平行;所述连接臂333的一端活动连接第一转轴331并还连接第三驱动电机，所述第三驱动电机直接驱动连接臂333转动。同时所述清洁头310套设在连接臂333上，随着连接臂333的转动，所述清洁头310同步滚动，并以滚动方式对承载面210进行刷洗处理。
[0070]本实施例清洁头310在水平面内的直线移动亦可如实施例一所述的方式实现，如通过丝杠、直线导轨等方式驱动第一转轴331运动，进而通过连接臂333带动清洁头310相对于承载面210移动。清洁头310在水平面内的转动主要是清洁头310绕第一转轴331的公转运动，具体的实现方式也可参阅实施例一，但区别的是:本实施例的连接臂333的一端活动连接第一转轴331，而非实施例一中的固连。
[0071]继续参阅图5，所述清洁头310包括套筒311以及设置于套筒311外周表面上的若干刷头313;每个刷头313是一个凸点结构，以充当刷毛。清洁承载面210时，首先将清洁头310调整位于承载面210的上方，之后，所述连接臂333在第二驱动电机的驱动下带动套筒311旋转，旋转过程中，所述刷头313会压紧承载面210并与承载面210形成接触摩擦从而实现清洗。
[0072]〈实施例三〉
[0073]本实施例提供了一种化学机械研磨装置，其包括上述清洗装置100、300以及用于放置待研磨或已研磨的晶圆的承载台200，所述承载台200的承载面210上设置有一保护膜，而待研磨或已研磨的晶圆直接放置于该保护膜上，此时，所述清洗装置100设置于承载台200的一侧，并通过其清洁头110或310接触并清洁该保护膜。由于化学机械研磨装置采用了上述实施例的清洗装置100或300，所以，所述化学机械研磨装置由清洗装置100或300带来的有益效果对应参考实施例一或实施例二。
[0074]综上所述，在晶圆研磨过程中，使用本实用新型提供的清洗装置后，由于清洗装置上的清洁头可在支撑调整单元的驱动下运动并清洁用以承载待研磨或已研磨的晶圆的承载面这样，当待研磨或已研磨的晶圆放置于该承载面上，所述晶圆不会被承载面划伤，降低了晶圆表面缺陷的发生率，提升了晶圆的良率。进一步，本实用新型实施例提供的清洗装置也可对设置于承载面的保护膜进行清洁，从而确保保护膜的洁净度以及均匀度，进而可以延长保护膜的使用周期，降低生产成本。
[0075]此外，当本领域技术人员面对晶圆承载面刮伤晶圆问题时，本实用新型也具有很好的参考和借鉴作用。
[0076]本实用新型的较佳实施例如上所述，但并不限于上述实施例公开的范围，例如，实施例一的清洁头110只绕第一转轴131转动，或只绕第二转轴143转动，或只在水平面内进行直线移动，也可同时选择这三种运动方式中的两种或两种以上组合清洁所述承载面210;例如，实施例二的清洁头310只绕第一转轴331转动，或只绕连接臂333转动，或只在水平面内直线移动，也可同时选择该三种运动方式中的两种或两种以上组合清洁承载面210。
[0077]上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。
【主权项】
1.一种清洗装置，用以清理一承载面，所述承载面为晶圆研磨过程中用以承载待研磨和/或已研磨的晶圆，其特征在于，所述清洗装置包括清洁头以及连接所述清洁头的支撑调整单元;其中，所述清洁头在所述支撑调整单元的驱动下接触所述承载面，并在所述支撑调整单元的驱动下清洁所述承载面。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述支撑调整单元包括支撑机构以及连接所述支撑机构的驱动机构;所述支撑机构连接所述清洁头，并在所述驱动机构的驱动下带动所述清洁头运动。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述清洁头在所述支撑调整单元的驱动下进行竖直方向以及水平方向的运动;所述竖直方向为垂直于所述承载面的方向，所述水平方向为平行于所述承载面的方向。4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述水平方向的运动包括所述清洁头在水平面内的公转;所述水平面平行于所述承载面。5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述驱动机构包括一第一驱动电机，所述支撑机构包括连接臂以及沿所述承载面的垂直方向设置的第一转轴;所述连接臂的一端连接所述第一转轴，所述连接臂的另一端连接所述清洁头;所述第一转轴连接所述第一驱动电机，并在所述第一驱动电机的驱动下转动;随着所述第一转轴的转动，所述连接臂带动所述清洁头绕所述第一转轴转动。6.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述驱动机构包括流体压缸、转接板以及连接轴，所述支撑机构包括连接臂以及沿所述承载面的垂直方向设置的第一转轴;所述连接臂的一端连接所述第一转轴，所述连接臂的另一端连接所述清洁头;所述流体压缸包括活塞以及活塞杆，所述活塞杆连接所述连接轴，所述连接轴连接所述转接板，所述转接板固设于所述第一转轴上;所述流体压缸通过所述活塞、活塞杆、连接轴以及转接板驱动所述第一转轴转动；随着所述第一转轴的转动，所述连接臂带动所述清洁头绕所述第一转轴转动。7.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述水平方向的运动包括所述清洁头在水平面内的直线移动;所述水平面平行于所述承载面。8.根据权利要求7所述的清洗装置，其特征在于，所述驱动机构包括至少一根直线导轨，所述直线导轨连接有一第二驱动电机，并在所述第二驱动电机的驱动下直线移动;所述支撑机构设置于所述直线导轨上，随着所述直线导轨的移动，所述支撑机构带动所述清洁头移动。9.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述水平方向的运动包括所述清洁头在水平面内的自转;所述水平面平行于所述承载面。10.根据权利要求9所述的清洗装置，其特征在于，所述驱动机构包括一第三驱动电机，所述支撑机构包括沿所述承载面的垂直方向设置的第二转轴;所述第二转轴的一端固连所述清洁头，所述第二转轴的另一端连接所述第三驱动电机，并在所述第三驱动电机的驱动下转动，以带动所述清洁头自转。11.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述竖直方向的运动包括所述清洁头沿竖直方向的直线移动。12.根据权利要求11所述的清洗装置，其特征在于，所述驱动机构包括流体压缸以及承载台;所述流体压缸包括活塞以及活塞杆，所述活塞杆连接所述承载台，所述支撑机构连接所述承载台，所述流体压缸通过所述活塞、活塞杆以及承载台驱动所述支撑机构沿竖直方向移动，并带动所述清洁头移动。13.根据权利要求12所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括与所述承载台活动连接的支撑杆。14.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述竖直方向的运动包括所述清洁头沿竖直平面内的自转，所述竖直平面垂直于所述承载面。15.根据权利要求14所述的清洗装置，其特征在于，所述驱动机构包括一第三驱动电机，所述支撑机构包括与所述承载面平行的第二转轴;所述清洁头套设在所述第二转轴上，所述第二转轴连接所述第三驱动电机，并在所述第三驱动电机的驱动下转动，以带动所述清洁头自转。16.根据权利要求1-15中任意一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还通过试剂清洁所述承载面。17.根据权利要求1-15中任意一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洁头包括基座以及设置于所述基座一侧的刷头;所述基座连接所述支撑调整单元，并在所述支撑调整单元的驱动下运动，且通过所述刷头接触并清洁所述承载面。18.根据权利要求17所述的清洗装置，其特征在于，所述刷头包括一排或多排刷毛。19.根据权利要求17所述的清洗装置，其特征在于，所述刷头的数量为多个，多个所述刷头间隔分布，且每个所述刷头为一凸点结构。20.—种化学机械研磨装置，包括用于放置待研磨和/或已研磨的晶圆的承载台，所述承载台的承载面上设置有一保护膜，其特征在于，所述化学机械研磨装置还包括如权利要求1-19中任意一项所述的清洗装置，通过所述清洁头清洁所述保护膜。
【文档编号】B08B3/08GK205674013SQ201620517398
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年5月31日 公开号201620517398.0, CN 201620517398, CN 205674013 U, CN 205674013U, CN-U-205674013, CN201620517398, CN201620517398.0, CN205674013 U, CN205674013U
【发明人】孙延松, 唐强, 张溢钢, 马智勇, 林保璋
【申请人】中芯国际集成电路制造（天津）有限公司, 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司