无水偏硅酸钠的制备方法
【专利摘要】一种无水偏硅酸钠的制备方法，将预处理过的石英砂与浓度为30－35%的液碱按重量比2.5-3.5:1比例投入混合釜，然后在100-150°C温度范围下反应；将反应后的清液进行调模、析出结晶，固液分离后采用连续雾化造粒干燥工艺得到五水偏硅酸钠，对制备的五水偏硅酸钠放入旋转干燥床使用热空气加热去除偏硅酸钠中水份，得到无水偏硅酸钠；固液分离采用自动活塞离心机进行，并对滤板缝隙进行调整。其优点是直接利用离子膜电解出来的浓度为30－35%的烧碱直接与石英砂进行反应，免除原生产工艺中蒸发浓缩过程，减少蒸气的消耗，缩短生产时间，节约能源，成本低。
【专利说明】无水偏硅酸钠的制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及化工【技术领域】，特别涉及一种无水偏硅酸钠的制备方法。
【背景技术】
[0002]在采用石英砂与烧碱作为原料生产偏硅酸钠的常规方法中，通常烧碱的溶液浓度为38%以上，这时，必须对电解出来的32%左右的烧碱进行蒸发浓缩才能使用，需蒸发浓缩过程，延长了生产时间，还造成造成能源的浪费，成本高。
【发明内容】
[0003]本发明的目的就是提供一种直接利用离子膜电解出来的浓度为30 - 35%的烧碱直接与石英砂进行反应，减小蒸气消耗，降低生产成本的无水偏硅酸钠的制备方法。
[0004]本发明的解决方案是这样的:
一种无水偏硅酸钠的制备方法，其特征在于:包括步骤:
(1)、将预处理过的石英砂与浓度为30- 35%的液碱按重量比2.5-3.5:1比例投入混合釜，然后在1 00-150° C温度范围下反应；
Si02与NaOH的配料方程:
mSi02 + 2Na0H = Na20.mSiO + H20
m 为模数，m = Si02/ Na20X 1.032
配料依据:m = 2.4，以此计算二氧化娃和烧碱投放比例
(2)、将反应后的清液进行调模、析出结晶，清液调整模数为0.5-1，待溶液温度在40-55°C左右，开始添加晶种；当罐内物料浓缩至密度1.7 (建议给出范围)时，停止通汽浓缩，准备放料，固液分离后采用连续雾化造粒干燥工艺得到五水偏硅酸钠；
(3)、对制备的五水偏硅酸钠放入旋转干燥床使用热空气加热去除偏硅酸钠中水份，得到无水偏硅酸钠。
[0005]更具体的技术方案还包括:在所述连续雾化造粒干燥工艺中，控制温度为80-90。。。
[0006]进一步的:所述的固液分离采用自动活塞离心机进行，并对滤板缝隙进行调整。
[0007]进一步的:所述自动离心机与压滤机的母液通过输送管道送回反应釜的预搅拌罐去与石英砂混合，再加入反应釜去。
[0008]进一步的:所述旋转干燥床使用热空气进行加热的温度为80-90°C。
[0009]本发明的优点是直接利用尚子膜电解出来的浓度为30 — 35%的烧碱直接与石英砂进行反应，免除原生产工艺中蒸发浓缩过程，减少蒸气的消耗，缩短生产时间，节约能源，成本低。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]附图1是本发明的流程框图。【具体实施方式】
[0011]如图1所示，本发明包括步骤:
(I )、将预处理过的石英砂490kg与浓度为30 - 35%的液碱284kg比例投入混合釜，通往0.89t的蒸汽在100-150° C温度范围下反应；
Si02与NaOH的配料方程:
mSi02 + 2Na0H = Na20.mSiO + H20
m 为模数，m = Si02/ Na20X 1.032
配料依据:m = 2.4，以此计算二氧化娃和烧碱投放比例。
[0012](2)、将反应后的清液进行调模、析出结晶，清液调整模数为0.5-1，待溶液温度在40-55°C左右，开始添加晶种；当罐内物料浓缩至密度1.7 (建议给出范围)时，停止通汽浓缩，准备放料，固液分离后采用连续雾化造粒干燥工艺得到五水偏硅酸钠。
[0013](3)、对制备的五水偏硅酸钠放入旋转干燥床使用热空气加热去除偏硅酸钠中水份，得到无水偏硅酸钠。
[0014](4)、在 所述连续雾化造粒干燥工艺中，控制温度为80_90°C。
[0015](5)、所述的固液分离采用自动活塞离心机进行，并对滤板缝隙进行调整。
[0016](6)、母液循环使用，即自动离心机与压滤机的母液可以回收，回到反应釜的预搅拌罐去与石英砂混合,再加入反应釜去。
【权利要求】
1.一种无水偏硅酸钠的制备方法，其特征在于:包括步骤: (1)、将预处理过的石英砂与浓度为30- 35%的液碱按重量比2.5-3.5:1比例投入混合釜，然后在100-150° C温度范围下反应； (2)、将反应后的清液进行调模、析出结晶，清液调整模数为0.5-1，待溶液温度在40-55°C左右，开始添加晶种；当罐内物料浓缩至密度1.7 (建议给出范围)时，停止通汽浓缩，准备放料，固液分离后采用连续雾化造粒干燥工艺得到五水偏硅酸钠； (3)、对制备的五水偏硅酸钠放入旋转干燥床使用热空气加热去除偏硅酸钠中水份，得到无水偏硅酸钠。
2.根据权利要求1所述的无水偏硅酸钠的制备方法，其特征在于:在所述连续雾化造粒干燥工艺中，控制温度为80-90°C。
3.根据权利要求2所述的无水偏硅酸钠的制备方法，其特征在于:所述的固液分离采用自动活塞离心机进行，并对滤板缝隙进行调整。
4.根据权利要求3所述的无水偏硅酸钠的制备方法，其特征在于:所述自动离心机与压滤机的母液通过输送管道送回反应釜的预搅拌罐去与石英砂混合，再加入反应釜去。
5.根据权利要求1所述的无水偏硅酸钠的制备方法，其特征在于:所述旋转干燥床使用热空气进行加热的温度为80-90°C`。
【文档编号】C01B33/32GK103754890SQ201310691724
【公开日】2014年4月30日 申请日期:2013年12月17日 优先权日:2013年12月17日
【发明者】俞文琴 申请人:柳州东风化工股份有限公司