本发明涉及玻璃制造技术领域，具体是一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板。
背景技术：
紫外线通常指200～400nm波长范围的光线，太阳光中大部分的光线都会被臭氧层所吸收，能够到达地面的光线通常为320nm～400nm的长波紫外线，一定的紫外线对人体是有益的，但是大量的紫外辐射特别是短波长的紫外线对人体有较大损害，尤其是皮肤和眼睛，因此在写字楼、图书馆、博物馆等高档建筑及部分特种灯具上必须最大限度的屏蔽紫外线的辐射。
由于玻璃在高层建筑使用的越来越多，人们对力学等性能的要求越来越高，所以在满足屏蔽紫外线的需求下，还需要使玻璃本体的结构越来越紧密，从而提高了玻璃熔化温度，增加了工业化制备难度。
《一种防辐射玻璃盖板及其制作方法》（公开号CN106113807A）公开了一种防辐射玻璃盖板，包括内侧的高硼硅玻璃层，高硼硅玻璃层外侧设有一层微晶玻璃层，高硼硅玻璃层外侧设置一层防辐射玻璃层，所述防辐射玻璃盖板表面涂有聚丙烯塑料层，其采用多层玻璃的叠加模式，结构和工艺都较复杂。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板，该玻璃基板不仅防辐射，而且具有较高的弹性模量、耐划伤，能够在复杂环境长期使用，并且由于熔化温度低，能够降低生产难度、满足规模制造的需求。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板，包括按重量百分比的以下原料：45.1～55%的SiO2、10.6～15.6%的P2O5、13.4～22.4%的Al2O3、0.1～1%的ZrO2、10.1～15.1%的Na2O、1～5%的K2O、0.1～1%的CaO、1.3～5%的MgO以及0.4～5%的助剂，所述助剂为NaNO3、NaF、CeO2与SnO2的混合物。
本发明的有益效果是：
SiO2 与P2O5作为网络形成体氧化物，构建玻璃网络构架，P2O5能够提高玻璃基板在紫外区域的透过率；
Al2O3与ZrO2作为网络中间体氧化物，Al2O3能够增加玻璃基板的热稳定性和化学稳定性，从而降低大量氧化磷的加入，减少对玻璃稳定性带来的负面影响；ZrO2能够增加玻璃基板的弹性以及化学稳定性；
Na2O、K2O、CaO与MgO作为网络外体氧化物，Na2O能够降低玻璃高温黏度；K2O能够降低玻璃熔化温度、CaO能够提高玻璃基板的弹性和化学稳定性；MgO能够改善玻璃成型性能、降低制备难度，同时也能够提高玻璃弹性；
助剂能够在玻璃基板的制造中起到澄清、脱色与助熔的作用；
按本发明原料配比所制得的玻璃基板应变点≥550℃，弹性模量＞65GPa，熔化温度（10PaS）＜1570℃，紫外透过率（351nm）＜45%。
具体实施方式
本发明提供一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板，包括按重量百分比的以下原料：45.1～55%的SiO2、10.6～15.6%的P2O5、13.4～22.4%的Al2O3、0.1～1%的ZrO2、10.1～15.1%的Na2O、1～5%的K2O、0.1～1%的CaO、1.3～5%的MgO以及0.4～5%的助剂，所述助剂为NaNO3、NaF、CeO2与SnO2的混合物。
为了便于更清楚的理解本发明，下面以表格形式列出十六个实施例：
上表中每个实施例均按以下工艺制得玻璃基板：
原料配比完成后放入熔炉中，以3℃/min的速度升温至1600℃，然后保温两个小时，之后将熔制好的玻璃液倾倒于模具中成型，再以2℃/min的降温速度在退火炉中退火，退火温度600℃，直至冷却至室温，最后将玻璃样品取出切割、抛光得到所需玻璃基板；制造玻璃基板也可采用其它常规的玻璃基板工艺完成。
将各个实施例分别得到的玻璃基板进行测试，得到下表：
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。