本发明涉及用于TFT玻璃基板蚀刻预处理的组合物。
背景技术：
市场需求的TFT显示屏越来越朝超薄方向发展，在制作超薄TFT显示屏使需要的玻璃基板厚度更薄，需要对现有规格玻璃基板进行薄化处理，现有技术中多采用含有氢氟酸的蚀刻液进行薄化处理，在薄化处理后玻璃基板表明往往会出现局部过蚀产生的凹坑，需要再对基板表明进行长时间的抛光处理，严重影响了生产效率，提高了加工成本。为了减少薄化处理出现的凹坑，除了在以氢氟酸为基础的蚀刻液中加入助剂外，还可以采用在薄化处理前对TFT液晶屏的玻璃基板(简称TFT玻璃)进行预处理的方法，现有技术中的预处理液多采用浓硫酸为基础配制的混合酸液，在提供一种新的TFT玻璃薄化工艺预处理液，在提高处理效果的基础上降低污染排放，成为现有技术中亟待解决的问题。
技术实现要素：
为解决前述技术问题，本发明提供了一种TFT玻璃基板薄化工艺预处理液，通过优化预处理液的处方和处理工艺，成功的实现了避免了浓硫酸等造成严重污染且难于处理的原材料的使用。
本发明提供了一种TFT玻璃基板薄化工艺预处理液，其特征在于所述预处理液由以下成分组成：质量百分比含量10～20％的盐酸(HCl)，质量百分比含量2％～5％的氢氟酸(HF)，质量百分比含量5～10％的聚乙烯醇(PVA)，质量百分比含量0.5～1％的聚二甲基硅氧烷，质量百分含量1-2％的羟丙基-β-环糊精及余量的水。
在研究中我们发现，当采用本发明提供的一种TFT玻璃基板薄化工艺预处理液对TFT玻璃基板按照本发明提供的工艺进行预处理后，可以显著降低薄化工艺后基板表面的凹坑，大大减少再研磨工序的时间，且通过优化预处理液的配方可以使得预处理后的玻璃基板的CF面和TFT面均具有较好的薄化效果。从而可以整体上降低后续研磨工序的时间，提高生产效率。同时本发明提供的预处理液在保证了预处理效果的同时，避免了现有技术中采用浓硫酸为主要成分的预处理液在使用时的不安全性和废液难于处理的问题，减少了这个TFT面板生产工艺的污染排放和污染物处理成本。
具体实施方式
本发明提供的一种TFT玻璃基板薄化工艺预处理液，以如下方法配制，
1)将处方量盐酸与氢氟酸混合，并加入适量水稀释
2)将处方量的羟丙基-β-环糊精溶于适量水中至完全溶解，然后加入；
3)将处方量PVA溶于适量水中至完全溶解
4)将步骤2)、3)得到的溶液混合，然后将步骤1)得到的混合液缓慢加入，加入处方量聚二甲基硅氧烷，补足处方量的水并搅拌至成为均一溶液。
实施例1～4的配方见下表(质量百分比wt％)
对实施例1～4得到的预处理液进行薄化预处理的方法如下
取用原材料为板硝子AN100相同厂家同批次的TFT玻璃面板进行，其厚度为1.000mm，尺寸为730mm×920mm。所采用的蚀刻及抛光设备分别为东莞鸿村蚀刻机和湖南永创抛光机。
预处理方法为
1)配制一种TFT玻璃基板薄化工艺预处理液1000L(以下简称预处理液)
2)将预处理液打入蚀刻机酸槽中，把5片TFT基板(编号为I～V)浸泡在混合液中，去除玻璃表面双层60微米；
3)：用清水洗净玻璃表面，在表面湿润的条件下再进入氢氟酸蚀刻液中，浓度为9mol/L，温度控制在30℃条件，薄化至0.5mm厚度。
领取5片TFT基板(编号i～v)清水清洗后直接进入氢氟酸蚀刻液中浓度为9mol/L，温度控制在30℃条件，薄化至0.5mm厚度，并作为对照组
在同一台永创抛光机1300-3#上，压力60g/cm2，下盘转速50，上盘转速40，研磨垫为环球LP-66型号，抛光粉为德乐士101型号，吸附垫为FUJIBO BPE211型号，实验组每研磨2分钟检验一次表面效果，对照组每研磨5分钟检验一次表面效果，记录研磨后检验没有凹坑的累计研磨时间如表1所示
实验结果表明，采用本发明提供的预处理液进行预处理后的玻璃基板在进行薄化工艺处理后可以显著减少面板上的凹坑。