本发明属于厨具及陶瓷材料领域，具体是指一种用于生产厨房用研磨器用的陶瓷磨头材料组成。
背景技术：
现将颗粒类调味品进行粉碎的方式基本上有三种：一种是以传统的捣碎等方式进行研磨；一种是将调味品进行大量粉碎后随时取用；再一种是根据需要量随时研磨。这三种方式中，传统方式研磨费时费力，而且捣碎的设备较大，使用不方便。将调味品进行大量粉碎后可以随时取用的方式，从使用上较简单，但这一方式的缺点是，当调味品被粉碎后，破坏了原调味品的防护系统，致使氧化反应加快，容易使调味品降低或失去其功效。为了改变上述两种调味品粉碎方式的缺点，现在随用随磨的一种手动研磨器被广泛使用。而且这一装置的体积小，使用方便，能够直接放置于餐桌上，根据个人的口味而自行研磨调味品。
现使用的手动研磨器基本上包括以下几个部分，壳体，用于容纳颗粒类调味品，安装于壳体上的研磨器，研磨器一般包括有内磨削头、外磨削头及盖体等。根据使用的方式不同，可以分为内磨削头转动型和外磨削头转动型研磨器。在研磨器也有根据需要对研磨器粉碎调味品的颗粒粒度进行调节的装置，以及用于卫生的盖体等结构。可以说，现所有的这类手动研磨器不仅实现了随用随磨的功能，而且增加了饮食的乐趣。
现用于制造研磨器磨头的材料有金属或高强度塑料，也有技术考虑使用石材，但是石材的强度并不高而且易裂无法真正投入使用。金属磨头的强度尚可，但是耐化学腐蚀性差，若有一段时间不使用就会有锈蚀现象。高强度塑料也可以作为磨头使用，但是其耐磨性差，使用一段时间后，磨头间的间隙增加，使得更换磨头的频率较高。
针对这一问题，现有技术提出使用陶瓷作为磨头材料，但因为陶瓷的延展性差，必须在模具过程中完成组装或在进行初烧后进行组装，而要在组装过程中保证在最后烧结完成后能够保持相对转动，又能够保证间隙不大，其制造难度过大而且成本高，很难得到推广。因此，现使用的陶瓷磨头均是单面的，即只有外研磨头或内研磨头为陶瓷制造，另一面为金属或高强度塑料。
为此，申请人提出一种研磨器用的陶瓷磨头材料技术方案，在本技术方案中，研磨器的研磨头的内外均采用陶瓷材料，并且通过内研磨头的材料组成与外研磨头的材料组成的区别来克服因为陶瓷的延展性差，研磨头的内外均使用陶瓷材料的制造难度大的问题。
在本技术方案中，外研磨头的材料组成按重量百分比为，80％-90％的氧化铝、5％-15％的氧化镁及3-10％的氧化硅；内研磨头的材料组成按重量百分比为，25％-45％的氧化铝、45％-55％的氧化锆、5％-15％的氧化镁及3％-10％的氧化硅。利用氧化锆陶瓷在由单斜相向四方相转变的过程中会发生体积变化，而在冷却时又会向相反方向发生体积变化的现象，而氧化铝在温度变化过程中，体积的变化可以忽略，并且在组装后其体积的变化符合最后的间隙要求。
但是这一技术中，大量使用氧化锆组分，氧化锆的成本较高,导致最终产品的成本较高。
技术实现要素：
本发明的目的是提供一种研磨头用陶瓷材料，通过本材料能够克服现有的陶瓷材料的缺陷，实现外研磨头材料和内研磨材料均使用陶瓷制造，并降低生产成本。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种研磨头用陶瓷材料，包括有外研磨头材料和内研磨头材料；所述外研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝80％-90％、氧化镁5％-15％、氧化硅3％-10％及二氧化钛3％-5％；所述内研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝50％-60％、纯度≥94％的氧化锆20％-30％、氧化镁5％-15％、氧化硅3％-10％及二氧化钛12％-20％。
优选的，所述内研磨头中的所述二氧化钛用量为所述外研磨头中的所述二氧化钛用量的3-5倍。
优选的，所述外研磨头中的所述氧化镁与所述氧化硅的用量之和与所述内研磨头中的所述氧化镁与所述氧化硅的用量之和相等。
优选的，所述外研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝82.5％、氧化镁8％、氧化硅6％及二氧化钛3.5％；所述内研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝52％、纯度≥94％的氧化锆20％、氧化镁7％、氧化硅7％及二氧化钛14％。
进一步的，还包括有抑制剂，所述的抑制剂为饱和氢氧化钙溶液。
所述外研磨头的成模压力为420MPa-450MPa，内研磨头的成模压力为420MPa-450MPa；且内研磨头的成模压力大于外研磨头的成模压力。
本发明的有益效果是：
通过本技术方案，能够实现研磨器磨头的内研磨头和外研磨头同时加工共同烧制，并且利用氧化锆陶瓷在由单斜相向四方相转变的过程中会发生体积变化，而在冷却时又会向相反方向发生体积变化的现象，而氧化铝在温度变化过程中，体积的变化可以忽略，并且在组装后其体积的变化符合最后的间隙要求。
同时，本申请通过在内研磨头及外研磨头中加入二氧化钛组分，并且通过内研磨头中二氧化钛的用量为外研磨头中的二氧化钛的用量的3-5倍，在保证烧制后内研磨头与外研磨头的间隙符合磨头要求外，还使得氧化锆的用量减少一半左右。
通过在内研磨头与外研磨头中的二氧化钛的使用，使得烧制后的内研磨头和外研磨头的表面更细腻，同时二氧化钛的成本仅为氧化锆的四分之一。
具体实施方式
以下通过实施例来详细说明本发明的技术方案，应当理解的是，以下的实施例仅是示例性的，仅能用来解释和说明本发明的技术方案，而不能解释为是对本发明技术方案的限制。
因为磨头包括两部分，通过两部分磨片的相互配合才能实现磨碎。在本发明中所说明的外研磨头是指在研磨器的磨头外部的磨片；内研磨头是指在研磨器的磨头内部的磨片。在本申请中，所说的内部和外部是相对概念。
一种研磨头用陶瓷材料，包括有外研磨头材料和内研磨头材料；所述外研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝80％-90％、氧化镁5％-15％、氧化硅3％-10％及二氧化钛3％-5％；所述内研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝50％-60％、纯度≥94％的氧化锆20％-30％、氧化镁5％-15％、氧化硅3％-10％及二氧化钛12％-20％。
在本申请中，内研磨材料中使用以氧化锆为主的陶瓷材料主要是根据氧化锆的物化特性，其包括有三种晶系，单斜相系、四方相系和立方晶系，而在1000℃以上时，氧化锆会由单斜相系转变为四方相系，在这一过程中，体积会发生较大的变化，即体积增加，而在冷却时，氧化锆又会向相反方向变化，即由四方相系向单斜相系转变，而这时体积会缩小，但是当氧化锆的含量过高时会导致体积变化过大而发生开裂，因此，现技术使用的氧化锆以不超过重量比为50为主。而本申请根据研究及实验，发现通过本技术制得的内研磨头的开裂率可以不计。
在本申请中，内研磨头中的所述二氧化钛用量为所述外研磨头中的所述二氧化钛用量的3-5倍，优选为4倍。
在本申请中，所述外研磨头中的所述氧化镁与所述氧化硅的用量之和与所述内研磨头中的所述氧化镁与所述氧化硅的用量之和相等，在此并不要求氧化镁的用量在内研磨头中与外研磨头中用量相等，或者氧化硅在内研磨头中与外研磨头中的用量相等。本申请中，通氧化镁和氧化硅在内研磨头中和外研磨头中的用量相等，来平衡内研磨头和外研磨头在烧制过程中的变形量，使得内研磨头和外研磨头之间的变形量通过二氧化钛与氧化锆来调整，这样在保证间隙的同时，提高合格品率。
还包括有抑制剂，所述的抑制剂为饱和氢氧化钙溶液。抑制剂的使用主要是用来抑制氧化铝在高温炼制过程中的组织过度生长。
所述外研磨头的成模压力为420MPa-450MPa，内研磨头的成模压力为420MPa-450MPa。在本申请中，虽然内研磨头的材料组成中含有氧化锆，通过本申请的技术方案进行反复的分析及验证，因为二氧化钛的加入，不需要通过增加模压来防止内研磨头的开裂，因此通过降低内研磨头的模压，也能够有效的减小能耗。
以下通过具体实施例来进行详细说明：
实施例1
在本实施例中，外研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝82.5％、氧化镁8％、氧化硅6％及二氧化钛3.5％；所述内研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝52％、纯度≥94％的氧化锆20％、氧化镁7％、氧化硅8％及二氧化钛14％。采用的成模压力为外研磨头的成模压力为430MPa，内研磨头的成模压力为450MPa；初烧温度为外研磨头为700℃-800℃，内研磨头为550℃-600℃；然后分两阶段进行最后烧制，在此处的两阶段是指温度上升过程分两个阶段进行，最终炼制温度为1675℃-1685℃；炼制使用氢气炉。本实施例为最优技术方案。
实施例2
在本实施例及以后的各实施例中，有变化的仅为各材料的组成及成模压力，其余部分与实施例1相同。
外研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝80％、氧化镁12％、氧化硅5％及二氧化钛3％；所述内研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝50％、纯度≥94％的氧化锆25％、氧化镁5％、氧化硅5％及二氧化钛15％。采用的成模压力为外研磨头的成模压力为410MPa，内研磨头的成模压力为430MPa。
实施例3
外研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝85％、氧化镁6％、氧化硅5％及二氧化钛4％；所述内研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝55％、纯度≥94％的氧化锆27％、氧化镁3％、氧化硅3％及12％。采用的成模压力为外研磨头的成模压力为420MPa，内研磨头的成模压力为440MPa。
实施例4
外研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝86％、氧化镁3％、氧化硅6％及二氧化钛5％；所述内研磨头材料按重量百分比组成为，纯度≥99％的氧化铝51％、纯度≥94％的氧化锆20％、氧化镁3％及氧化硅6％及二氧化钛20％。采用的成模压力为外研磨头的成模压力为420MPa，内研磨头的成模压力为450MPa。
以上所述仅是对本发明技术方案的具体描述，当然本领域的技术人员可以根据本技术方案进行改进，这些改进应当被认为是本发明的保护范围内。