1.一种双层真空器皿多孔真空处理结构，包括外壳(1)和内胆(2)，所述外壳(1)的外壁与内胆(2)的内壁之间围合形成真空腔(3)，其特征在于：所述外壳(1)底部设置有朝向真空腔(3)内部凹陷的排气槽(4)，所述排气槽(4)上设置有至少两个与真空腔(3)相贯通的真空排气孔(5)。
2.根据权利要求1所述的双层真空器皿多孔真空处理结构，其特征在于：所述排气槽(4)为半球形凹槽，所述排气槽(4)的中心位置处设置有一个真空排气孔(5)，所述排气槽(4)沿其圆周方向均匀间隔设置有2～4个真空排气孔(5)。
3.根据权利要求1或2所述的双层真空器皿多孔真空处理结构，其特征在于：所述真空排气孔(5)为圆形孔，其直径为0.5～1.2mm。
4.根据权利要求1或2所述的双层真空器皿多孔真空处理结构，其特征在于：所述真空排气孔(5)为腰形孔、正方形孔、长方形孔或者三角形孔。
5.根据权利要求1所述的双层真空器皿多孔真空处理结构，其特征在于：所述外壳(1)和内胆(2)均为不锈钢件。