本实用新型属于平板玻璃制造领域，具体涉及一种减少金属氧化物污染玻璃熔液的装置。
背景技术：
在用于TFT-LDD玻璃基板生产制造中，铂金通道内的搅拌槽的主要功能，是将玻璃熔液搅拌均匀。搅拌槽顶部的搅拌棒口是铂金通道与外界环境直接接触的区域，此处的保温状态对熔制高质量的玻璃熔液至关重要。由于搅拌槽以及铂金通道均为铂金制成，且处于高温环境中，容易形成易挥发的氧化物进入玻璃熔液中和相对低温区域。易挥发的氧化物通常会在温度相对较低处析出结晶。所以，结构科学合理的搅拌槽上层是保温装置既要满足对搅拌槽的保温需要，同时还应尽可能的阻隔易挥发的氧化物再次进入玻璃熔液中，影响平板玻璃的制备质量。
目前，本领域通常采用下述技术解决减少易挥发的氧化物再次进入玻璃熔液中的问题。一是在玻璃熔液液面之上的搅拌棒上设一阻隔板，使堆积在其上部的大部分氧化物落在该板上，这种技术可以在一定时期内大幅度减少氧化物污染玻璃熔液。但是当氧化物收集过多时将会坠落。然而，经常更换阻隔板是很困难的，因为只有拆除保温材料和搅拌棒才能更换它，费时费工，影响产品制备速度。二是给搅拌槽内以及铂金通道内添加相关气体，减少氧化物形成。但是该技术存在两个缺陷；不仅要增加添加装置，而且确定添加量相对复杂。三是上下结构相同的保温装置技术，该技术虽有较好的保温效果，但是，由于这种保温装置的内壁为上下垂直状，几乎不能收集和暂存氧化物。总而言之，现有技术方案均存在加热器没有与外部环境对流区建立温度缓冲区，导致一些挥发的氧化物重新在冷热交换处的加热器砖内壁上再次结晶，并经过一定时间的累积后，不断的落入搅拌槽内部玻璃液中形成缺陷
本领域需要一种既能高效保温，又能减少氧化物污染玻璃熔液，又具备高效保温的装置。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺陷，提供一种既能高效保温，又能减少金属氧化物污染玻璃熔液的装置。
为了达到上述目的，本实用新型的技术方案这样；
一种减少金属氧化物污染玻璃熔液的装置，包括搅拌槽和垂直设于搅拌槽中心位置的搅拌棒，在所述搅拌棒对应两侧设有一对结构相同的加热器砖，在所述搅拌棒上半部位设有一圆形接落盘；
所述加热器砖呈扁环形状，其上部内下方呈锥形坡面，所述加热器砖包围所述搅拌棒相对设置构成独立的加热空腔；
所述加热器砖的上部内下方为30度到70度的锥形坡面；
所述加热器砖与搅拌棒之间的间距小于搅拌棒直径的20％；
所述加热器砖上部突出部分的端部厚度范围为1mm-30mm；
在所述加热器砖的内表面设有加热丝槽；
所述接落盘材料为铂金或铂铑合金材料。
由于本实用新型采用了非规则结构加热器砖和铂金接落盘的技术方案，达到了既能高效保温，又能减少金属氧化物污染玻璃熔液的目的，完全克服了现有技术保温与减少污染玻璃熔液不能兼顾的缺陷。
附图说明
图1为规则结构加热砖示意图；
图2为本实用新型示意图；
其中：
1为加热砖；2为搅拌棒；3为温度过渡区；4为原加热丝槽；5为内部热区域；6为玻璃液；7为接落盘；8为加热器砖；9为坡面结构；10为搅拌槽；11为加热砖的过渡区域；12为新加热丝槽。
具体实施方式
下面结合附图详细描述本实用新型的结构。
参照图2，一种减少金属氧化物污染玻璃熔液的装置，包括用于搅拌玻璃熔液6的搅拌槽10和垂直设于搅拌槽10中心位置的搅拌棒2，在所述搅拌棒6对应两侧设有一对结构相同的加热器砖8，在所述搅拌棒2上半部位设有一圆形接落盘7。所述加热器砖8呈扁环形状，其上部内下方呈锥形坡面9，所述加热器砖8包围所述搅拌棒2相对设置构成独立的加热腔。所述加热器砖8的上部内下方为30度到70度的锥形坡面9。所述加热器砖8与搅拌棒2之间的间距小于搅拌棒2直径的20％。所述加热器砖8上部突出部分的端部厚度范围为0.1mm-30mm。在所述加热器砖8的内内表面设有新加热丝槽。所述接落盘7材料为铂金或铂铑合金材料。
下面结合附图描述本实用新型的工作过程。
参照图1，这种结构的加热砖1主要问题是其内部热区域5与外部环境形成的温度过渡区3是冷却结晶的主要区域，由于加热砖1的厚度为50mm左右，这就给结晶物提供了足够的附着点，当结晶物累积到一定程度时，就会掉落进玻璃液6中。
参照图1，本实用新型结构是在现有技术的加热砖1的之上设置了一种新型结构的加热器砖8，该结构包括锥形的坡面结构9，构成的相对独立的加热腔，以及相匹配的搅拌棒上的接落盘7。这种结构将现有技术的温度过渡区3上移，并且减小温度过渡区3的厚度，加热器砖8的过渡区域11的厚度应小于15mm，并且越小越好，最佳效果此处厚度为0mm，这样可以保证加热腔一直延伸到最大限度，保证最少的结晶物附着，并通过搅拌棒3上新增加的接落盘7来阻止结晶物直接落入玻璃液中，影响诚品玻璃的品质。