釉浆循环使用装置的制作方法

本实用新型涉及一种釉浆循环使用装置。

背景技术：

目前，行业内釉坯机釉桶的釉面高度只能依靠工人手动用桶往釉桶里加釉来维持，依靠人眼来目测釉面高度是肯定不准确的，而且工人不一定及时给釉桶加釉，所以产品的釉面高度是无法保持一致的。

另外，在上釉过程中，釉是比较容易沉淀的，因此釉桶里的釉是需要不定时搅拌的，目前也只能依靠工人手动进行搅拌。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种釉浆循环使用装置，它不仅能够使釉浆循环使用，并且能够保持上釉桶中的釉面高度不变。

本实用新型解决上述技术问题采取的技术方案是：一种釉浆循环使用装置，它包括：

上釉桶，所述上釉桶设置有上釉腔，所述上釉桶上设置有与上釉腔相连通并距离上釉腔的底壁具有一定高度的釉浆溢出槽；

储釉桶，所述储釉桶设置有储釉腔，所述上釉桶内从釉浆溢出槽溢出的釉浆回流至储釉桶中；

抽釉装置，所述抽釉装置用于将储釉腔内的釉料抽回上釉腔中。

进一步为了使上釉桶内的釉浆能够顺利的回流至储釉桶内，所述储釉桶的回流釉浆口低于所述釉浆溢出槽，所述上釉桶内从釉浆溢出槽溢出的釉浆通过回流釉浆口回流至储釉桶中。

进一步为了便于保证釉浆从上釉桶流回到储釉桶中釉浆是干净细度合格的，所述储釉桶的回流釉浆口处设置有网筛，所述釉浆溢出槽溢出的釉浆先经过网筛再通过回流釉浆口回流至储釉桶中。

进一步，所述储釉桶上设置有支撑组件，所述网筛安装在支撑组件上。

进一步提供了一种抽釉装置的具体结构，所述抽釉装置包括泵和出浆管道，所述泵设置在储釉桶中，所述出浆管道的进口与所述泵的出口相连接，所述出浆管道的出口通入上釉桶中。

进一步为了使储釉桶进入上釉桶中的釉浆能够形成喷射效果，从而避免上釉桶中的釉出现沉淀现象，所述上釉桶在其底部设置有环形喷釉管道，所述环形喷釉管道上设置有喷釉孔，所述出浆管道的出口与所述环形喷釉管道相连通。

采用了上述技术方案后，开始上釉时，先启动储釉桶中的泵，储釉桶中的釉会通过与泵连接的出浆管道被抽送到上釉桶底部的环形喷射管道中然后对上釉桶底部形成喷射现象，使得上釉桶里釉不停的流动，达到自动搅拌的效果，随着上釉桶中的釉不断增多，上釉桶中的釉浆会自动从上釉桶1侧壁的釉浆溢出槽处溢出，并且溢出的釉浆由于上釉桶和储釉桶之间存在高低落差会自动流回到储釉桶中的网筛，启动釉坯机开始对产品进行上釉，上釉桶中使用过的釉浆经过储釉桶中的网筛过筛后会变成干净且细度合格的可上釉浆回到储釉桶待使用，所以利用本实用新型装置就可以达到让釉浆重复循环使用的效果。

附图说明

图1为本实用新型的釉浆循环使用装置的立体图。

具体实施方式

为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明。

如图1所示，一种釉浆循环使用装置，它包括：

上釉桶1，所述上釉桶1设置有上釉腔，所述上釉桶1上设置有与上釉腔相连通并距离上釉腔的底壁具有一定高度的釉浆溢出槽2；

储釉桶6，所述储釉桶6设置有储釉腔，所述上釉桶1内从釉浆溢出槽2溢出的釉浆回流至储釉桶6中；

抽釉装置，所述抽釉装置用于将储釉腔内的釉料抽回上釉腔中。

如图1所示，所述储釉桶6的回流釉浆口低于所述釉浆溢出槽2，所述上釉桶1内从釉浆溢出槽2溢出的釉浆通过回流釉浆口回流至储釉桶6中。

如图1所示，所述储釉桶6的回流釉浆口处设置有网筛5，所述釉浆溢出槽2溢出的釉浆先经过网筛5再通过回流釉浆口回流至储釉桶6中。

如图1所示，所述储釉桶6上设置有支撑组件，所述网筛5安装在支撑组件上。

如图1所示，所述抽釉装置包括泵和出浆管道4，所述泵设置在储釉桶6中，所述出浆管道4的进口与所述泵的出口相连接，所述出浆管道4的出口通入上釉桶1中。

如图1所示，所述上釉桶1在其底部设置有环形喷釉管道3，所述环形喷釉管道3 上设置有喷釉孔，所述出浆管道4的出口与所述环形喷釉管道3相连通。

本实用新型的工作原理如下：

开始上釉时，先启动储釉桶6中的泵，储釉桶中的釉会通过与泵连接的出浆管道4 被抽送到上釉桶1底部的环形喷射管道3中然后对上釉桶1底部形成喷射现象，使得上釉桶1里釉不停的流动，达到自动搅拌的效果，随着上釉桶1中的釉不断增多，上釉桶 1中的釉浆会自动从上釉桶1侧壁的釉浆溢出槽2处溢出，并且溢出的釉浆由于上釉桶 1和储釉桶6之间存在高低落差会自动流回到储釉桶6中的网筛5，启动釉坯机开始对产品进行上釉，上釉桶中使用过的釉浆经过储釉桶6中的网筛5过筛后会变成干净且细度合格的可上釉浆回到储釉桶6待使用，所以利用本实用新型装置就可以达到让釉浆重复循环使用的效果。

以上所述的具体实施例，对本实用新型解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。