具附加金属的含氧化锌层的低辐射涂层的涂层制品的制作方法

文档序号:9221045阅读:249来源:国知局
具附加金属的含氧化锌层的低辐射涂层的涂层制品的制作方法
【专利说明】具附加金属的含氧化锌层的低辐射涂层的涂层制品
[0001] 本发明的示例性实施例涉及一种含有涂层的涂层制品,类似低辐射(Iow-E)涂 层,由基片(例如,玻璃基片)支撑。该涂层包括至少一个介质层,其含有氧化锌,被掺杂有 其他金属。该涂层还可包括一个或多个红外(IR)反射层,含有类似银等的材料,用来至少 反射一些红外辐射。在示例性实施例中,涂层制品可被热处理(例如,热回火、热弯曲、和/ 或热强化)。根据本发明的示例性实施例的涂层制品可用在窗方面,包括用于建筑的单片 窗、用于建筑的绝缘玻璃窗、车窗、和/或任何其他合适的应用。
[0002] 发明背景
[0003] 本领域中已知的窗应用中所使用的涂层制品有类似绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗、 和/或其他等。众所周知,在一些情况下,为了钢化、弯曲或其他等,需要对该涂层制品进行 热处理(例如,热回火、热弯曲、和/或热强化)。涂层制品的热处理通常需要使用至少580 摄氏度的温度,更优选是至少约600摄氏度,且更优选是至少620摄氏度。该高温(例如, 5-10分钟或更多)经常使涂层损坏和/或劣化,或是在无法预知的方式中改变。因此,需要 一种可承受热处理(例如,热回火)的涂层,必要时在预知的方式中,从而不会明显地损坏 涂层。
[0004] 在一些情况下,涂层制品的设计人试图结合所需的可见光透射率、所需的颜色、低 辐射(或辐射率),和低片电阻(RS)。低辐射(Iow-E)和/或低片电阻特征使该涂层制品 可阻挡相当数量的红外辐射,从而减少车辆或建筑物内部不需要的热量。
[0005] 美国专利No. 7, 521,096被纳入此处作为参考,公开一种低辐射涂层,其在银基红 外反射层下面使用氧化锌(ZnO)接触层,并在银(Ag)基IR反射层上方使用附〇0!£接触层, 随后是中央氧化锡(SnO2)介质层。'096专利的涂层中的SnO2被发现经热处理产生微结晶 和应力,造成Sn02、ZnO、以及Ag之间的粗糙界面,其可导致耐久性退化和影响透射的颜色。 含金属的粗糙界面将引发所谓的表面等离子体,其造成整个层堆栈中的选择吸收,特别是 在低可见光谱范围(380-550nm)。其将引起一个或多个无法预知的光学特性、较少的中性 色、较低的可见光透射率和/或较低的LSG。此外,发现氧化锡(例如,SnO2)在经热处理产 生结晶和应力中明显改变,其将降解ZnO的结构,从而Ag在其上生长。此外,可能会导致较 差的Ag质量和/或较差的涂层热稳定性,例如不合需要的较高的Δ E*值。
[0006] 发明的示例性实施例概述
[0007] 如上所述,本领域的技术人员应理解,需要一种具涂层(例如,低辐射涂层)的涂 层制品,带有至少一个介质层,不会遭受如上所述的与纯SnO2介质层相关的一个或多个问 题。在示例性实施例中,发现在含有氧化锌(例如,ZnO2)的介质层中包括其他金属可克服 如上所述的一个或多个问题。例如,将介质层溅射沉积至涂层时以下金属中的一个或多个 可被添加至氧化锌:Cu, Al, Ni和Mg。三元和/或二元合金(包括其的氧化物)可被包括在 含有氧化锌的介质层中,从而使介质层和整个涂层在选择性的热处理(HT)之前和/或之后 更加热稳定,并在选择性的热处理过程期间减少和/或减慢应力的变化。该含有氧化锌的 介质层其中添加有金属,被用来替换涂层中已使用的其他的一个或多个氧化锡介质层。该 含有氧化锌的介质层结构,更加混乱并使层和涂层更稳定。在此发现,材料的结构越混乱, 则越稳定(例如经热处理)。该含有氧化锌的介质层,被添加有其他金属时,可作为本发明 的示例性实施例中的任何合适的低辐射涂层中的介质层,例如至少第一和第二红外反射层 之间,红外反射层之下,和/或红外反射层之上。但是,并不是涂层中的所有介质层需要上 述材料。示例性实施例中,含有氧化锌的介质层,被添加有其他金属时,可用于包括其他材 料的介质层的涂层中,例如氮化硅(例如,Si3N4)、Sn02、ZnO、和/或类似等。
[0008] 在本发明的示例性实施例中,提供一种玻璃基片上含有低辐射涂层的涂层制品, 所述涂层包括:介质层和位于所述玻璃基片上的红外反射层,且其中,所述介质层包括以下 一个或多个的氧化物:ZnCuAl, ZnCu, ZnCuNi, ZnNi, ZnNiAl,和 ZnNiMg。
[0009] 附图简要说明
[0010] 图1是根据本发明的示例性实施例的涂层制品的横截面图。
[0011] 图2是根据本发明的另一个示例性实施例的涂层制品的横截面图。
[0012] 图3是根据本发明的另一个示例性实施例的涂层制品的横截面图。
[0013] 图4是根据本发明的另一个示例性实施例的涂层制品的横截面图。
[0014] 示例性实施例的具体说明
[0015] 在此,整个附图中相同的参照符号表示相同的部分。在本发明的示例性实施例中, 图1-4实施例中的层优选是通过陶瓷或金属对象经飞溅沉积被形成。
[0016] 根据本发明的示例性实施例的涂层制品可以用于窗应用,包括用于建筑物的单片 窗、用于建筑物的绝缘玻璃窗、车窗、和/或在任何其他合适的应用。
[0017] 在示例性实施例中,发现含有氧化锌(例如,ZnO2)的介质层(附图中层13,15, 23, 和40中的一个或多个)中包括一些附加的金属可与纯511〇2介质层一起克服上述的一个或 多个问题。例如,在将介质层13,15,23,和40中的一个或多个溅射沉积至涂层时以下金属 中的一个或多个可被添加至氧化锌:Cu,Al, Ni,和/或Mg,与附加的金属(包括其的氧化 物)一起,使介质层和整个涂层30,60, 70在选择性的热处理(HT)之前和/或之后具有更 好的热稳定性,在选择性的热处理过程中减少和/或减慢应力变化。例如,层13, 15, 23,和 40中的一个或多个可以是ZnCuAl, ZnCu, ZnCuNi, ZnNi, ZnNiAl,和ZnNiMg中的一个或多个 的氧化物,使介质层和整个涂层30,60, 70具有更好的热稳定性。该附加金属的含有氧化锌 的介质层,优选是完全或基本完全被氧化,并随着选择性的热处理可以是非晶质。当然,该 三元或二元合金中的一个的氧化物可用于层13,15, 23和/或40中的一个或两个,而三元 或二元合金中的另一个的氧化物可用于层13,15,23,40中的其他层。相似地,该三元或二 元合金中的一个的氧化物可用于介质层13,15, 23和/或40中的一个或两个,且SnO2可用 于介质层13,15,23,40中的其他层。
[0018] 具附加金属的含氧化锌的介质层结构(例如,层13, 15, 23和/或40的一个或多 个),比SnO2更加混乱并导致层和涂层更稳定。在此发现,材料的结构越混乱,则可能越稳 定(例如,经热处理)。该含有氧化锌的介质层,其中添加有其他金属,可作为本发明的示 例性实施例中的任何合适的低辐射涂层中的介质层,例如至少第一和第二红外反射层9,19 之间,红外反射层9,19之下,和/或红外反射层9,19之上。该层可用于本发明的多个实施 例中的单银,双银,或三银低辐射涂层。但是,并不是涂层中的所有介质层需要上述材料。 在示例性实施例中,添加其他金属的含氧化锌的介质层,还可在含有类似氮化硅(例如, Si3N4)、Sn02、ZnO、ZnAlO和/或图1-4中所示材料的其他介质层的涂层中被使用。使用一 个或多个上述添加其他金属的含氧化锌的介质层,可提高热稳定性,例如,实现较低的玻璃 侧反射ΔΕ*值。在本发明的示例性实施例中,含有玻璃基板1和低辐射涂层的涂层制品, 与仅在层中使用SnO2相比,由于热处理其玻璃侧反射Λ E*值至少低0. 5或1.0 (更优选是 低1. 5)。在本发明的示例性实施例中,含有玻璃基板1和低辐射涂层的涂层制品,其玻璃侧 反射Δ Ε*值不超过5. 0,更优选是不超过4. 5或4. 0。
[0019] 在实施例中,其中具有附加金属的含氧化锌的介质层(13,15和/或40),位于含有 氧化锌或氧化锌铝的种子层(7和/或17)之下并与其直接接触,支撑红外反射层(9和/或 19)来提高红外反射层的质量,如图1-2中的层15,图3中的层40,以及图4中的层13。基 于ZnO或ZnAlO的接触层(7和/或17)下面的层结构和热稳定性与ZnO的纹理生长(002) 和其上的银生长(111)相关。纯SnOJl受到包括高应力的结构变化,其通常会降低涂层的 光稳定性和热稳定性,例如,经热处理。纯SnOJl通常由于溅射沉积为非晶质,但经热处理 成为晶体。在此所述的含有氧化锌的介质层配置有附加的金属,可减少该结构变化并改善 热处理前后控制层的应力,且在示例性实施例中允许层保持非晶质或基本非晶质,甚至在 热处理之后。由此将提高低辐射涂层的整体性能。
[0020] 在本发明的示例性实施例(例如,图1-2和4),涂层包括双银堆栈,但本发明并不 是在所有的情况下受限于此。根据本发明的示例性实施例,具有低辐射涂层的涂层制品,其 片电阻(Rs)小于或等于7. 0 (更优选是小于或等于5. 0,甚至更优选是小于或等于4. 0或 3. 0)(在选择性热处理之前和/或之后被测量)。根据本发明的示例性实施例的具有低辐 射涂层的涂层制品,其法向辐射率(En)不超过0.09,更优选是不超过0.07,且最优选是不 超过0. 05或0. 04 (在选择性热处理之前和/或之后被测量)。在示例性实施例中,选择性 的热处理(HT)之前和/或之后,以单片形式被测量,根据本发明的示例性实施例的涂层制 品,其可见光透射率(111. C, 2degree)至少约30%,更优选是至少约40%,甚至更优选是至 少
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