镀膜玻璃及其加工方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及玻璃，尤其是涉及一种低成本、高硬度、抗跌落、防指纹、抗油污的镀膜玻璃及其加工方法。
【背景技术】
[0002]触摸屏电子设备(如手机、平板电脑等)使用越来越被人们所接受，并成为目前电子设备的主流及未来的发展方向。而现有的触摸屏设备，触摸屏质量的好坏直接关系到其质量和制作成本。普通的触摸屏玻璃在硬度、强度和抗污上不足，或者是成本较高。
【发明内容】
[0003]为解决上述问题，本发明的目的在于提供一种低成本、高硬度、抗跌落、防指纹、抗油污的镀膜玻璃及其加工方法。
[0004]本发明通过以下技术措施实现的，一种镀膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次镀有S1Jl、AL 203层。
[0005]作为一种优选方式，所述玻璃基片为钠钙玻璃。
[0006]作为一种优选方式，玻璃基片的厚度为0.1mm—1.1mm，S12层的厚度为30—50nm，AL2O3的厚度为 60—10nm0
[0007]作为一种优选方式，所述3102层的厚度为45nm，所述AL 203的厚度为80nmo
[0008]作为一种优选方式，所述S12层和AL 203层都为真空溅射镀膜层。
[0009]本发明还公开了一种镀膜玻璃的加工方法，包括如下步骤:
[0010]I)排列靶材:在真空溅射镀膜设备依次排列的8个腔体中分别设置有S12靶、S12靶、S1 2靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶和AL 203革巴，每个设置S1 2靶的腔体中设定功率为6KW，每个设置AL2O3靶的腔体中设定功率为8KW ;
[0011]2)所有腔体温度设定为150度，电压设定为420V，电流15A ;
[0012]3)按生产速度0.8m/min、生产节拍为2分钟每架进行玻璃基片的镀膜加工。
[0013]作为一种优选方式，所述真空溅射镀膜设备为CVD (化学气相淀积)真空溅射镀膜设备。
[0014]作为一种优选方式，所述S12靶和AL 203靶的纯度在99.995%以上。
[0015]作为一种优选方式，所述腔体中的气体为纯度99.995 %以上的氩气或纯度99.995%以上的氮气。
[0016]作为一种优选方式，所述玻璃基片为钠钙玻璃。
[0017]利用本发明生产出的镀膜玻璃具有以下优势:1、表面硬度可达到9H(钻石10H)，远大于目前采用化学或者物理强化所能达到的上限(一般物理或者化学强化硬度在7H左右)。2、抗跌落，抗跌落效果针对0.3mm玻璃，能够用68g钢球在30cm高度砸下，不会出现破碎现象；比化学或者物理强化工艺生产的产品抗跌落效果要强。3、具有防指纹、抗油污的效果；而目前通用工艺需要重新镀一层防指纹膜才有该效果。由于通过先在玻璃基片表面镀有S1Jl后再镀AL 203层，从而保证了 AL 203层的牢固性，通过多次真空溅射镀膜，使镀层更均匀紧密。
【附图说明】
[0018]图1为本发明实施例的剖视图。
【具体实施方式】
[0019]下面结合实施例并对照附图对本发明作进一步详细说明。
[0020]一种镀膜玻璃及其加工方法，请参照图1，包括玻璃基片I，所述玻璃基片I的一表面依次镀有S1Jl 2、AL 203层3。
[0021]其加工方法，包括如下步骤:
[0022]I)排列靶材:在真空溅射镀膜设备依次排列的8个腔体中分别设置有S12靶、S12靶、S1 2靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶和AL 203革巴，每个设置S1 2靶的腔体中设定功率为6KW，每个设置AL2O3靶的腔体中设定功率为8KW ;
[0023]2)所有腔体温度设定为150度，电压设定为420V，电流15A ;
[0024]3)按生产速度0.8m/min、生产节拍为2分钟每架进行玻璃基片I的镀膜加工。
[0025]利用本方法生产出的镀膜玻璃具有以下优势:1、表面硬度可达到9H(钻石10H)，远大于目前采用化学或者物理强化所能达到的上限(一般物理或者化学强化硬度在7H左右)。2、抗跌落，抗跌落效果针对0.3mm玻璃，能够用68g钢球在30cm高度砸下，不会出现破碎现象；比化学或者物理强化工艺生产的产品抗跌落效果要强。3、具有防指纹、抗油污的效果；而目前通用工艺需要重新镀一层防指纹膜才有该效果。由于通过先在玻璃基片I表面镀有S1Jl 2后再镀AL 203层3，从而保证了 AL 203层3的牢固性，通过多次真空溅射镀膜，使镀层更均匀紧密。
[0026]本的镀膜玻璃效果测试:
[0027]I)表面强度测试:对镀膜后的产品用尖锐的金属如小刀等在上面来回摩擦100000个来回，不会产生可见的划痕；
[0028]2)抗跌落测试:用68g钢球在30cm高度跌落在产品的不同部位，跌落50次以上玻璃没有出现破碎现象；
[0029]3)防指纹测试:将水倒在产品表面，测试水珠的水滴角，大于120度；
[0030]4)透过率测试:大于99%。
[0031]本实施例的镀膜玻璃，请参考图1，在前面技术方案的基础上具体还可以是，玻璃基片I优选钠钙玻璃。
[0032]本实施例的镀膜玻璃，请参考图1，在前面技术方案的基础上具体还可以是，玻璃基片的厚度为0.1mm-1, lmm, S1jl的厚度为30—50nm，AL 203的厚度为60—100nm。其中在本实施例中，S1Jl的厚度为45nm，所述AL 203的厚度为80nm。
[0033]本实施例的加工方法，在前面技术方案的基础上具体还可以是，真空溅射镀膜设备为CVD真空溅射镀膜设备。
[0034]本实施例的加工方法，在前面技术方案的基础上具体还可以是，S12靶和AL2O3靶的纯度在99.995%以上。
[0035]本实施例的加工方法，在前面技术方案的基础上具体还可以是，腔体中的气体为纯度99.995%以上的氩气或纯度99.995%以上的氮气。
[0036]以上是对本发明镀膜玻璃及其加工方法进行了阐述，用于帮助理解本发明，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，任何未背离本发明原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围的内。
【主权项】
1.一种镀膜玻璃，其特征在于:包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次镀有S12层、AL2O3层。2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于:所述玻璃基片为钠钙玻璃。3.根据权利要求1或2所述的镀膜玻璃，其特征在于:玻璃基片的厚度为0.1mm—1.lmm, S12层的厚度为 30—50nm，AL 203的厚度为 60—lOOnm。4.根据权利要求1或2所述的镀膜玻璃，其特征在于:所述S1Jl的厚度为45nm，所述AL2O3的厚度为80nm。5.根据权利要求1或2所述的镀膜玻璃，其特征在于:所述S12层和AL 203层都为真空溅射镀膜层。6.一种镀膜玻璃的加工方法，其特征在于包括如下步骤: 1)排列靶材:在真空溅射镀膜设备依次排列的8个腔体中分别设置有S12靶、S12靶、S12靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶、AL 203靶和AL 203靶，每个设置S1 2靶的腔体中设定功率为6KW，每个设置AL2O3靶的腔体中设定功率为8KW ; 2)所有腔体温度设定为150度，电压设定为420V，电流15A; 3)按生产速度0.8m/min、生产节拍为2分钟每架进行玻璃基片的镀膜加工。7.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于:所述真空溅射镀膜设备为CVD真空溅射镀膜设备。8.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于:所述S12靶和AL 203靶的纯度在99.995% 以上。9.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于:所述腔体中的气体为纯度99.995%以上的氩气或纯度99.995%以上的氮气。10.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于:所述玻璃基片为钠钙玻璃。
【专利摘要】本发明公开了一种镀膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次镀有SIO2层、AL2O3层。本发明还公开了一种镀膜玻璃的加工方法，包括如下步骤：1)排列靶材；2)设定腔体温度为150度，电压设定为420V，电流15A；3)按生产速度0.8m/min、生产节拍为2分钟每架进行玻璃基片的镀膜加工。本发明的镀膜玻璃具有低成本、高硬度、抗跌落、防指纹、抗油污的优点。
【IPC分类】C03C17/34, C23C14/08, C23C14/34, C23C14/10
【公开号】CN105060732
【申请号】CN201510415095
【发明人】王瑞生
【申请人】广州市颐恩汇商贸发展有限公司
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2015年7月15日