一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及玻璃深加工技术领域，具体涉及一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品。
【背景技术】
[0002]镀膜玻璃(Reflective glass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。
[0003]市面上已有多种镀膜玻璃产品出现，但是这些镀膜玻璃产品是有颜色的，或者说难以做到颜色无色，而颜色无色的镀膜玻璃光线透过率高，在显示器或者太阳能电池上有很大的应用前景。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是为了弥补现有技术的不足，提供一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品。
[0005]为了达到本发明的目的，技术方案如下:
[0006]—种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，其特征在于:所述镀膜层自所述玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、ZnAl层、ΑΖ0层、Ag层、NiCr层、ZnAl 层、Si3N4层。
[0007]优选地，所述Si3N4层厚度为5?30nm。
[0008]优选地，所述ZnAl层厚度为5?30nm。
[0009]优选地，所述ΑΖ0层厚度为5?20nm。
[0010]优选地，所述Ag层的厚度为1?10nmo
[0011]优选地，所述NiCr层的厚度0.1?3nm。
[0012]本发明具有的有益效果:
[0013]ΑΖ0可以增强镀膜玻璃制品的外观平整度。并且使用特殊材料后，可以压制原片色缺陷，使原片的缺陷不暴露，肉眼观察不明显。
[0014]产品可钢化，并且钢化后透过率高，达到85%，可使颜色达到接近于无色状态。
【附图说明】
[0015]图1为本发明一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品的结构示意图。
[0016]图中标记:1、玻璃基片层;2、Si3N4层;3、21^1层；4320层；5、六8层；6、附0层；7、ZnAl 层；8、Si3N4层。
【具体实施方式】
[0017]下面结合实施例对本发明作进一步描述，但本发明的保护范围不仅仅局限于实施例。
[0018]—种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、ZnAl层、ΑΖ0层、Ag层、NiCr层、ZnAl层、Si 3N4层。
[0019]其中Si3N4层厚度为5?30nm，优选地是10?20nm，ZnAl层厚度为5?30nm，优选地是10?20nm ;所述ΑΖ0层厚度为5?20nm，优选地是10?15nm ;所述Ag层的厚度为1?10nm，优选地是3?7nm ;所述NiCr层的厚度0.1?3nm，优选地是1?2nm。
[0020]最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明而并非限制本发明所描述的技术方案，因此，尽管本说明书参照上述的各个实施例对本发明已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本发明进行修改或等同替换，而一切不脱离本发明的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。
【主权项】
1.一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，其特征在于:所述镀膜层自所述玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、ZnAl层、AZO层、Ag层、NiCr层、ZnAl层、Si3N4层。2.根据权利要求1所述的一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，其特征在于:所述Si3N4层厚度为5?30nm。3.根据权利要求2所述的一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，其特征在于:所述ZnAl层厚度为5?30nm。4.根据权利要求3所述的一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，其特征在于:所述AZO层厚度为5?20nm。5.根据权利要求4所述的一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，其特征在于:所述Ag层的厚度为1?10nmo6.根据权利要求1所述的一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，其特征在于:所述NiCr层的厚度0.1?3nm。
【专利摘要】本发明公开了一种可钢化、低辐射的无色镀膜玻璃制品，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外，依次包括Si3N4层、ZnAl层、AZO层、Ag层、NiCr层、ZnAl层、Si3N4层。所述Si3N4层厚度为5～30nm。所述ZnAl层厚度为5～30nm。所述AZO层厚度为5～20nm。所述Ag层的厚度为1～10nm。所述NiCr层的厚度0.1～3nm。本发明具有的有益效果：AZO可以增强镀膜玻璃制品的外观平整度。并且使用特殊材料后，可以压制原片色缺陷，使原片的缺陷不暴露，肉眼观察不明显。产品可钢化，并且钢化后透过率高，达到85％，可使颜色达到接近于无色状态。
【IPC分类】C03C17/36
【公开号】CN105271824
【申请号】CN201510750458
【发明人】江维, 李向阳, 程立华
【申请人】咸宁南玻节能玻璃有限公司
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年11月6日