用vgf法生长锗单晶体的预清洗方法

文档序号:10529382阅读:738来源:国知局
用vgf法生长锗单晶体的预清洗方法
【专利摘要】本发明属于锗单晶体生长技术领域,特别涉及用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法。本发明公开了用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法,其特征在于对锗锭、石英管、PBN坩埚及籽晶腐蚀清洗,具体包括用第一、二、三、四、五溶液分别对锗锭、石英管、PBN坩埚及籽晶腐蚀,然后用去离子水清洗,用无水乙醇脱水,通过上述步骤,可实现后续使用VGF法生长出的锗单晶体不受杂质影响,保证了锗单晶片的质量。
【专利说明】
用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法
[0001 ]
技术领域: 本发明属于锗单晶体生长技术领域,特别涉及用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法。
[0002]
【背景技术】: 由于VGF (垂直梯度凝固)法生长单晶时温度梯度较低,生长速率较小,目前已成为生 长大直径、低位错密度晶体的主流技术之一。用VGF法生长锗单晶体之前需要经过以下步 骤:(1)将籽晶放到前段PBN坩埚的嘴部,然后再装入锗锭,装完后将PBN(氮化硼)坩埚放入 石英管中,加上中环;(2)取后段PBN坩埚,往里装入锗锭之后,放到石英管中,装上封帽;(3) 将石英管放到真空烤炉上,抽完真空后进行封焊。
[0003] 装料过程中所用到的锗锭、石英管(包括中环和封帽)、PBN坩埚及籽晶这四种材 料,只要其中一种材料清洗不干净,生长出的锗单晶体就会受到杂质的影响,进而影响到锗 单晶片的质量。
[0004]

【发明内容】
: 本发明的目的是提供对锗锭、石英管、PBN坩埚及籽晶进行腐蚀清洗的方法,提高后续 用VGF法生长锗单晶体的质量。
[0005] 本发明公开了用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法,其特征在于对锗锭、石英管、 PBNit埚及籽晶腐蚀清洗,具体包括以下步骤: (1)锗锭清洗:将高纯度6N区熔锗锭放入第一溶液腐蚀,然后依次进行去离子水第一次 冲洗、去离子水超声清洗和去离子水第二次冲洗,再用无水乙醇脱水,最后烘干; 所述第一溶液为氢氟酸和过氧化氢的水溶液,所用氢氟酸浓度为48.8 %~49.2 %,过 氧化氢浓度为30%~32%,体积比为V (HF): ¥(出02):¥(!12〇)=1:1.5:9,腐蚀温度为常温, 时间为15~30分钟; (2)石英管清洗:将石英管放入第二溶液腐蚀,然后用去离子冲洗,最后用无水乙醇脱 水; 第二溶液为氢氟酸水溶液,所用氢氟酸浓度为48.8%~49.2%,体积比为V (HF) :V (H20)=1:7,腐蚀温度为常温,时间为20分钟; (3) PBNit埚清洗:用1500 #砂纸擦净PBNit埚表面污点,然后将PBNit埚放入第三溶液 腐蚀,腐蚀后用去离子第一次冲洗,再放入第四溶液腐蚀,然后用去离子水第二次冲洗,用 去离子水超声清洗,去离子水第三次冲洗,最后无水乙醇脱水; 第三溶液为王水,所用硝酸浓度为69 %~72%,盐酸浓度为36%~38 %,体积比为V (HN〇3): V(HC1 )=1:3,腐蚀温度为常温,时间为20~30分钟; 第四溶液为氢氟酸和氟化铵的水溶液,所用氢氟酸浓度为48.8 %~49.2 %,氟化铵浓 度为10mg/L,体积比为¥(冊):¥(顺4?):¥(!12〇) = 1:1:10,腐蚀温度为常温,时间为15~25分 钟; (4) 籽晶清洗:将籽晶放入第五溶液腐蚀,然后用去离子冲洗,最后用无水乙醇脱水; 第五溶液为硝酸和氢氟酸的混合溶液,所用硝酸浓度为6 9 %~7 2 %,氢氟酸浓度为 48.8 %~49.2 %,体积比为V (HN〇3): V(HF)=1:2,腐蚀温度为常温,时间为2分钟。
[0006]其中,在步骤(1)高纯度6N区熔锗锭清洗中用去离子水第一次冲洗时间为2分钟以 上;常温下用去离子水超声清洗的次数为2~4次,每次超声清洗时间为30分钟,超声波频率 为40KHz;用去离子水第二次冲洗时间为2分钟以上;烘干的时间为90分钟,温度为200°C。 [0007]在步骤(2)石英管清洗中用去离子水冲洗时间为3分钟。
[0008]在步骤(3)PBNit埚清洗中用去离子水第一次和第二次冲洗时间都为2~4分钟;用 去离子水超声清洗的次数为4次,第一次超声清洗时间为2小时,超声波频率为40 KHz,温度 为常温,第二、第三和第四这三次的超声清洗时间都为20分钟,超声波频率为60 KHz,温度 为55°C ;用去离子水第三次冲洗时间为2分钟。
[0009] 在步骤(4)籽晶清洗中用去离子水冲洗时间为2~5分钟 上述步骤(1)~(4)中所述无水乙醇的纯度为99.9%。
[0010] 在本发明中,第一溶液,氢氟酸和过氧化氢的水溶液能去除锗锭表面的金属和氧 化物;第二溶液,氢氟酸水溶液能去除石英管表面的硅的氧化物;第三溶液,王水能去除PBN 坩埚表面的重金属和有机物,第四溶液,氢氟酸和氟化铵的水溶液能去除PBNit埚表面的氧 化物;第五溶液,硝酸和氢氟酸的混合溶液能去除籽晶表面的重金属,有机物和氧化物。通 过这五种溶液腐蚀和去离子水清洗,可实现后续使用VGF法生长出的锗单晶体不受杂质影 响,保证了锗单晶片的质量。
[0011]
【具体实施方式】: 以下通过具体实施例对本发明的技术方案做进一步说明。
[0012] (1)锗锭清洗:先将27L的去离子水加入到腐蚀槽中,然后依次加入4.5L的过氧化 氢和3L的氢氟酸,搅拌均匀后,常温下把切割好的高纯度6N区熔锗锭放入该溶液中进行腐 蚀,25分钟后取出锗锭,用去离子水冲洗3分钟,然后放到盛有去离子水的超声波清洗机中, 在超声波频率为40KHz下超声清洗3遍,每遍常温清洗30分钟后更换一次去离子水,超声清 洗完后,用去离子水冲洗锗锭表面2分钟,然后取出锗锭,用99.9%无水乙醇脱水之后,放到 干燥箱中,在200°C下烘烤90分钟,烘干后自然冷却至室温,待用。腐蚀溶液中所用氢氟酸浓 度为48.8 %~49.2 %,过氧化氢浓度为30 %~32 %。
[0013] (2)石英管清洗:先将105L的水加入到腐蚀槽中,然后加入15L氢氟酸,搅拌均匀 后,常温下把石英管轻轻放入该溶液中进行腐蚀,20分钟后取出石英管,用去离子水冲洗3 分钟,然后用9 9.9 %无水乙醇脱水后,放到洁净室里晾干,待用。腐蚀溶液中所用的氢氟酸 浓度为48.8%~49.2%。
[0014] (3) PBNit埚清洗:先往腐蚀槽里加入36L盐酸,再加入12L硝酸,配制成王水溶液, 用1500#砂纸将坩埚表面的污点擦净后,常温下放入王水中进行腐蚀,25分钟后取出坩埚, 用去离子水冲洗3分钟,然后再放入盛有5L氢氟酸、5L氟化铵和50L去离子水混合溶液的腐 蚀槽中进行腐蚀,15分钟后取出坩埚,用去离子水冲洗3分钟,然后放到盛有去离子水的超 声波清洗机中,在超声波频率为40KHz下超声清洗2小时后更换去离子水,然后将频率转换 到60KHZ,温度升到55°C,超声清洗3遍,每遍20分钟,超声清洗完后,用去离子水冲洗坩埚表 面2分钟,然后取出坩埚,用99.9%无水乙醇脱水之后,放到洁净室里晾干,待用。腐蚀溶液 中所用的硝酸浓度为69%~72%,盐酸浓度为36%~38%,氢氟酸浓度为48.8%~49.2%, 氟化铵浓度为1 〇mg/L。
[0015] (4)籽晶清洗:往规格为400mL的烧杯里加入200mL的氢氟酸,然后再加入100mL 的硝酸,搅拌均匀后,常温下把籽晶轻轻放入该溶液中进行腐蚀,2分钟后取出籽晶,用去离 子水冲洗3分钟,然后用99.9 %无水乙醇脱水后,用无尘布擦干,待用。腐蚀溶液中所用的硝 酸浓度为69%~72%,氢氟酸浓度为48.8%~49.2%。
[0016]将上述腐蚀清洗后的锗锭、石英管、PBN坩埚及籽晶经过装料、抽真空、封焊和VGF 生长这四道工序之后,对生长出来的锗单晶体进行了 GDMS(辉光放电质谱)全元素测试,结 果显示,除了Ga元素以外,其他杂质的含量均在测试极限以下,测到了较高浓度的Ga,是因 为所用的样品是P型掺Ga锗单晶片,见表1 表1 P型锗单晶片GDMS全元素测试数据
【主权项】
1. 用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法,其特征在于对锗锭、石英管、PBN坩埚及籽晶腐 蚀清洗,具体包括以下步骤: (1)锗锭清洗:将高纯度6N区熔锗锭放入第一溶液腐蚀,然后依次进行去离子水第一次 冲洗、去离子水超声清洗和去离子水第二次冲洗,再用无水乙醇脱水,最后烘干; 所述第一溶液为氢氟酸和过氧化氢的水溶液,所用氢氟酸浓度为48.8%~49.2 %,过 氧化氢浓度为30%~32%,体积比为V (HF): V(H2O2) =V(H2O)=I: 1.5:9,腐蚀温度为常温, 时间为15~30分钟; (2)石英管清洗:将石英管放入第二溶液腐蚀,然后用去离子冲洗,最后用无水乙醇脱 水; 第二溶液为氢氟酸水溶液,所用氢氟酸浓度为48.8%~49.2%,体积比为V (HF): V (H2O)=I: 7,腐蚀温度为常温,时间为20分钟; (3) PBN坩埚清洗:用1500 #砂纸擦净PBN坩埚表面污点,然后将PBN坩埚放入第三溶液 腐蚀,腐蚀后用去离子第一次冲洗,再放入第四溶液腐蚀,然后用去离子水第二次冲洗,用 去离子水超声清洗,去离子水第三次冲洗,最后无水乙醇脱水; 第三溶液为王水,所用硝酸浓度为69 %~72 %,盐酸浓度为36 %~38 %,体积比为V (HNO3): V(HC1 )=1:3,腐蚀温度为常温,时间为20~30分钟; 第四溶液为氢氟酸和氟化铵的水溶液,所用氢氟酸浓度为48.8 %~49.2 %,氟化铵浓 度为IOmg/L,体积比为V (HF): V(NH4F): V(H2O)=1:1:10,腐蚀温度为常温,时间为15~25分 钟; (4) 籽晶清洗:将籽晶放入第五溶液腐蚀,然后用去离子冲洗,最后用无水乙醇脱水; 第五溶液为硝酸和氢氟酸的混合溶液,所用硝酸浓度为69 %~72 %,氢氟酸浓度为 48.8 %~49.2 %,体积比为V (HNO3): V(HF )=1:2,腐蚀温度为常温,时间为2分钟。2. 如权利要求1所述的用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法,其特征在于步骤(1)锗锭 清洗中用去离子水第一次冲洗时间为2分钟以上;常温下用去离子水超声清洗的次数为2~ 4次,每次超声清洗时间为30分钟,超声波频率为40KHz ;用去离子水第二次冲洗时间为2分 钟以上;烘干的时间为90分钟,温度为200°C。3. 如权利要求1所述的用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法,其特征在于在步骤(2)石 英管清洗中用去离子水冲洗时间为3分钟。4. 如权利要求1所述的用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法,其特征在于在步骤(3)PBN 坩埚清洗中用去离子水第一次和第二次冲洗时间都为2~4分钟;用去离子水超声清洗的次 数为4次,第一次超声清洗时间为2小时,超声波频率为40 KHz,温度为常温,第二、第三和第 四这三次的超声清洗时间都为20分钟,超声波频率为60 KHz,温度为55°C;用去离子水第 三次冲洗时间为2分钟。5. 如权利要求1所述的用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法,其特征在于在步骤(4)籽 晶清洗中用去离子水冲洗时间为2~5分钟。6. 如权利要求1所述的用VGF法生长锗单晶体的预清洗方法,其特征在于上述步骤(1) ~(4)中所述无水乙醇的纯度为99.9 %。
【文档编号】C30B29/08GK105887195SQ201610439088
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年6月20日
【发明人】肖祥江, 李苏滨, 惠峰, 李雪峰, 柳廷龙, 李武芳, 周, 周一, 杨海超, 候振海, 囤国超, 田东
【申请人】云南中科鑫圆晶体材料有限公司, 昆明云锗高新技术有限公司, 云南鑫耀半导体材料有限公司
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