一种陶瓷后还原氧化的烧成工艺及釉料的制作方法
【专利摘要】一种陶瓷后还原氧化的烧成工艺及其釉料，其特征在于烧成工艺包含以下步骤：a、将未施釉的陶瓷生胚在900℃～1000℃的环境下进行素烧；b、对素烧后的胚体施低温釉，入窑在800℃～1000℃的环境下进行釉烧，使釉面融化；c、将陶瓷胚体从窑炉中取出，并将陶瓷胚体的一部分放置于有机可燃物中并使该陶瓷胚体一部分包裹于有机可燃物中，另一部分暴露于空气中，进行气氛后的还原及氧化。
【专利说明】
一种陶瓷后还原氧化的烧成工艺及釉料
技术领域
[0001]本发明涉及一种陶瓷烧成工艺，尤其涉及一种陶瓷后还原氧化的烧成工艺及釉料。
【背景技术】
[0002]—件成功优秀的陶瓷作品，离不开陶瓷成熟的烧成工艺，仅就目前陶瓷行业的烧成工艺来说，不外乎还原气氛(焰)和氧化气氛(焰)两种烧成方法，且此二者不可同时出现。也就是说烧成工艺作用于陶瓷作品或产品上，仅限有一种烧成气氛，陶瓷作品本身不会人为的同时出现还原气氛与氧化气氛两种效果。这主要是因为传统的烧成工艺是采用烧制过程中进行气氛的还原或氧化，有充足氧气参与的陶瓷烧成过程呈氧化气氛，反之则为还原气氛，因此传统的陶瓷烧成工艺在烧制过程中反映出还原气氛的效果，就必然不会出现氧化气氛的效果。
【发明内容】
[0003]本发明目的在于改变陶瓷艺术传统烧成工艺的局限性，丰富陶瓷艺术的烧成方式，使陶瓷本身打破传统烧成工艺造成的气氛单一性，使还原与氧化气氛所展现的艺术感染力可以同时作用于陶瓷作品的表面，丰富陶瓷的艺术效果。其次，公开一种此烧成工艺研究下的低温无铅釉料配备方法，减少陶瓷饮食用具，在低温烧制情况下所造成的铅中毒现象。
[0004]本发明专利主要是公开一种陶瓷后还原氧化的烧成工艺方法及釉料配备方法。传统陶瓷是在烧制过程中进行气氛还原或氧化，而本专利更侧重于在烧制完成后进行气氛的还原或氧化，所以称之为“后还原氧化”烧制工艺。另外，传统陶瓷表面仅存在有一种烧成气氛所产生的效果，而本专利可以同时存在还原、氧化两种烧成气氛。
[0005]其工艺主要是采用二次烧成的方法。首先，需要将陶瓷作品的生胚进行900°C_1000°C的素烧过程，之所以进行素烧过程，其因有三:一方面进行素烧后的陶瓷坯体比较坚硬，不容易在后期施釉过程中造成不必要的塌陷与损坏；一方面不论是陶质坯体或瓷质坯体，在900°C-1000°C的温度下，仍会保留一定的吸水性，不会担心施釉过程无法进行；另一方面是因为此方法为烧成后还原氧化，需要在二次烧成中，将高温陶瓷坯体取出后进行还原氧化气氛的处理，素烧后的坯体具有一定的机械强度，可以防止坯体因膨胀不均炸裂。
[0006]然后，将素烧后的坯体施低温釉，入窑烧至釉面融化(800°C-1000°C不等)，将陶瓷坯体从窑炉中取出，并放置于或树叶、或报纸、或木肩等有机可燃物中进行气氛的后还原或氧化，在此过程中，陶瓷坯体釉面会迅速与可燃物燃烧产生的火焰及游离碳素充分反应，裸露于空气中的陶瓷釉面因为有氧气参与形成氧化气氛的效果，而被包裹于可燃物中的部分则因为隔绝空气而形成还原气氛的效果。
[0007]所述低温釉的成分含量重量份如下:
长石15?20份高岭土7?1份
熔块62?70份
呈色金属化合物5?9份
其中熔块的化学组成含量的重量百分比如下:
Li2O0.3-0.4%
K2O4%~5%
Na2O2%~3%
CaOI3%?I4%
MgO0.3%?0.4%
ZnO7%~8%
BaO1%~2%
AI2O39%~10%
Fe2030.3%~0.4%
B2O35%~6%
S1253%?55%
T120.03%?0.04%
本发明的有益效果为其一，陶瓷烧成后再进行气氛的还原或氧化反应，就摆脱了传统陶瓷烧成中烧成气氛的单一性，使陶瓷的釉面可以同时呈现出还原与氧化的丰富效果，拓展了陶瓷艺术烧成工艺；其二，相比传统烧成工艺，长则数月，短则8-12小时，烧成成本偏高，并不易于操作与大规模推广教学，而本发明专利，烧成工艺简单易于操作，烧成时间短，仅需要烧制1-2个小时，成本低廉;其三，本发明配备釉方属于低温无铅配方，相比传统以铅作为助溶剂的低温釉料更加安全且无毒。
【具体实施方式】
[0008]实施例一、将经过素烧后的陶瓷坯体施以低温釉，并放置于窑炉之中，当达到预设烧成温度(一般低温釉熔点在800 °C_1100°C左右)之后，将表面红热的坯体迅速从窑炉中夹出，并放入早已放有有机可燃物的容器中，可燃物在接触到红热状态的坯体时会迅速被点燃，并产生大量的火焰以及因为不完全燃烧所产生的还原气体和游离的碳素。火焰、还原气体以及游离的碳素迅速与坯体的釉面发生化学反应，从而使陶瓷作品因为不同程度的还原、氧化、渗碳而在器物表面产生丰富的火焰、烟熏以及因气氛的不同而产生的还原、氧化的效果。同时因为还原、氧化时间的长短，火焰、烟气的大小以及不同的可燃物所作用的陶瓷釉面不尽相同，可以说每件作品都是独一无二的。以铜(Cu)为呈色金属化合物的低温釉为例，氧化气氛下呈绿色，还原气氛下呈红色。所以此发明专利，可以使一件陶瓷作品上同时出现还原气氛和氧化气氛的艺术效果。其工艺原理在于，使陶瓷坯体在达到预设温度，也就是陶瓷釉面熔融时，将其夹出窑炉，可以人为的去控制陶瓷作品与空气的接触，有氧气参与的釉面化学反应即为氧化反应。隔绝空气，釉面化学反应过程中失去氧，则为还原反应。
[0009]所述低温釉的成分含量重量份如下:
长石18份高岭土9份熔块64份
呈色金属化合物9份
其中熔块的化学组成含量的重量百分比如下:
Li2O0.36%
K2O4.26%
Na2O2.36%
CaO13.96%
MgO0.39%
ZnO7.76%
BaO1.05%
AI2O39.68%
Fe2030.32%
B2O35.82%
S1254%
T120.04%
其中呈色金属氧化物为CuCO3。
[0010]实施例二、将经过素烧后的陶瓷坯体施以低温釉，并放置于窑炉之中，当达到预设烧成温度(一般低温釉熔点在800 °c-1100°c左右)之后，将表面红热的坯体迅速从窑炉中夹出，并放入早已放有有机可燃物的容器中，可燃物在接触到红热状态的坯体时会迅速被点燃，并产生大量的火焰以及因为不完全燃烧所产生的还原气体和游离的碳素。火焰、还原气体以及游离的碳素迅速与坯体的釉面发生化学反应，从而使陶瓷作品因为不同程度的还原、氧化、渗碳而在器物表面产生丰富的火焰、烟熏以及因气氛的不同而产生的还原、氧化的效果。同时因为还原、氧化时间的长短，火焰、烟气的大小以及不同的可燃物所作用的陶瓷釉面不尽相同，可以说每件作品都是独一无二的。以铜(Cu)为呈色金属化合物的低温釉为例，氧化气氛下呈绿色，还原气氛下呈红色。所以此发明专利，可以使一件陶瓷作品上同时出现还原气氛和氧化气氛的艺术效果。其工艺原理在于，使陶瓷坯体在达到预设温度，也就是陶瓷釉面熔融时，将其夹出窑炉，可以人为的去控制陶瓷作品与空气的接触，有氧气参与的釉面化学反应即为氧化反应。隔绝空气，釉面化学反应过程中失去氧，则为还原反应。[0011 ]所述低温釉的成分含量重量份如下:
长石15份高岭土10份熔块70份
呈色金属化合物5份
其中熔块的化学组成含量的重量百分比如下:
Li2O0.3%
K2O5%
Na2O2.46%
CaO13.36%
MgO0.4%ZnO8%
BaO1.55%
AI2O39.5%
Fe2030.34%
B2O35.36%
S1253.7%
T120.03%
其中呈色金属氧化物为CuCO3、Fe203及Co2O3的混合物。
[0012]实施例三、将经过素烧后的陶瓷坯体施以低温釉，并放置于窑炉之中，当达到预设烧成温度(一般低温釉熔点在800 °C_1100°C左右)之后，将表面红热的坯体迅速从窑炉中夹出，并放入早已放有有机可燃物的容器中，可燃物在接触到红热状态的坯体时会迅速被点燃，并产生大量的火焰以及因为不完全燃烧所产生的还原气体和游离的碳素。火焰、还原气体以及游离的碳素迅速与坯体的釉面发生化学反应，从而使陶瓷作品因为不同程度的还原、氧化、渗碳而在器物表面产生丰富的火焰、烟熏以及因气氛的不同而产生的还原、氧化的效果。同时因为还原、氧化时间的长短，火焰、烟气的大小以及不同的可燃物所作用的陶瓷釉面不尽相同，可以说每件作品都是独一无二的。以铜(Cu)为呈色金属化合物的低温釉为例，氧化气氛下呈绿色，还原气氛下呈红色。所以此发明专利，可以使一件陶瓷作品上同时出现还原气氛和氧化气氛的艺术效果。其工艺原理在于，使陶瓷坯体在达到预设温度，也就是陶瓷釉面熔融时，将其夹出窑炉，可以人为的去控制陶瓷作品与空气的接触，有氧气参与的釉面化学反应即为氧化反应。隔绝空气，釉面化学反应过程中失去氧，则为还原反应。
[0013]所述低温釉的成分含量重量份如下:
长石20份高岭土9份熔块62份
呈色金属化合物9份
其中熔块的化学组成含量的重量百分比如下:
Li2O0.4%
K2O4%
Na2O2%
CaO14%
MgO0.4%
ZnO8%
BaO2%
Al2O310%
Fe2030.3%
B2O35%
S1253.87%
T120.03%
其中呈色金属氧化物为CuCO3及C02O3的混合物。
【主权项】
1.一种陶瓷后还原氧化的烧成工艺及其釉料，其特征在于烧成工艺包含以下步骤: A、将未施釉的陶瓷生胚在9000C?1000 0C的环境下进行素烧； B、对素烧后的胚体施低温釉，入窑在8000C?1000 0C的环境下进行釉烧，使釉面融化； C、待胚体烧至表面红热后，将陶瓷胚体从窑炉中取出，并将陶瓷胚体放入盛有有机可燃物的容器内，使该陶瓷胚体一部分包裹于有机可燃物中，另一部分暴露于空气中，进行气氛后的还原及氧化。2.如权利要求1所述的一种陶瓷烧成工艺，其特征在于所述有机可燃物为树叶、报纸、木肩中的一种或几种。3.如权利要求1所述的一种陶瓷烧成工艺，其特征在于釉烧的温度优选为850°C。4.如权利要求1至3任一所述的一种陶瓷烧成工艺，其特征在于所述低温釉的成分含量重量份如下:长石15?20份高岭土7?10份熔块62?70份 呈色金属化合物5?9份 其中熔块的化学组成含量的重量百分比如下: Li200.3-0.4%K204%~5%Na202%~3%CaOI3%?I4% MgO0.3%?0.4%ZnO7%~8%BaO1%~2% A12039%?10% Fe2030.3%~0.4%Β2035%~6% Si0253%?55% Ti020.03%?0.04%。5.如权利要求4所述的一种陶瓷烧成工艺，其特征在于所述呈色金属化合物为CuC03、Fe203、Co203中的一种或几种。
【文档编号】C04B41/86GK105924008SQ201610249467
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年4月21日
【发明人】杨鹏飞, 刘晓
【申请人】烟台南山学院