一种低辐射镀膜玻璃制造工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，其步骤为：(1)制备低辐射玻璃膜层：在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区，以硅类物质为主反应气体，利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上，形成以SiOxCy为主体的中间膜层；(2)镀玻璃膜层：在浮法玻璃生产线退火窑A0区内的第二镀膜区，以金属有机物化学气相沉积技术，将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理，以气体形式随主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面；在有氧源存在的条件下，在玻璃表面沉积的低辐射膜层；(3)切割：切去玻璃边缘的膜层；(4)磨边；(5)清洗：对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润；(6)钢化：在700?740℃的温度下，保持20?30分钟。
【专利说明】
一种低辐射镀膜玻璃制造工艺
技术领域
[0001 ]本发明涉及镀膜玻璃制备技术领域，具体涉及一种低辐射镀膜玻璃制造工艺。
【背景技术】
[0002] 在物质生活水平提高的同时，人们对室内小气侯的要求也愈来愈苛刻，相应地对 建筑物外观的审美要求也大大提高。除了一定的功能要求外，还希望窗玻璃具有多种多样 的花样、色调及装饰图案。因此，改善玻璃控制阳光的能；力以及满足装饰上的要求就显得 十分重要。而生产这类新型玻璃的方法多种多样，有通过改变玻璃基体组成生产的颜色玻 璃，其隔热性能比普通白玻璃有所改善，但效果不明显，而发展很快的用表面处理方法生产 的涂层玻璃，能在广阔范围内调整玻璃的性能，镀膜玻璃即是其中之一。
[0003] 以往生产低辐射镀膜玻璃一般循序是，按照客户的订单先切割成为客户所需的尺 寸，再磨边、钢化、镀膜、中空、装箱、发货。这种生产循序往往出现的问题是上片率不高、补 片麻烦、交货日期延后、成本浪费。
【发明内容】
[0004] 针对以上问题，本发明提供了一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，可以有效解决背景 技术中的问题。
[0005] 为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下:一种低辐射镀膜玻璃制造工艺， 包括如下步骤： (1) 制备低辐射玻璃膜层:在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区，以硅类物质为主 反应气体，利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上，形成以SiOxCy为主体的中间膜层； (2) 镀玻璃膜层:在浮法玻璃生产线退火窑AO区内的第二镀膜区，以金属有机物化学气 相沉积技术，将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理，以气体形式随 主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面;在有氧源存在的条件 下，利用烷氧基的热解作用，在玻璃表面沉积的低辐射膜层； (3) 切割:切去玻璃边缘的膜层； (4) 磨边； (5) 清洗:对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润；回收并过滤用于浸润玻璃原片后的污 水； (6) 钢化:在700-740 °C的温度下，保持20-30分钟。
[0006] 根据上述技术方案，所述步骤(1)中还可采用直流磁控溅射方法，在浮法玻璃基片 上，沉积低辐射膜层。
[0007] 根据上述技术方案，所述步骤(4)磨边工艺包括如下步骤： (41) 取4-6g的脂肪醇聚氧乙烯醚、2-3g的苯并三氮唑、2-4g苯甲酸、投入15-17g去离子 水中，搅拌均匀； (42) 再投入l-2g三乙醇铵、0.5-0.7g磷酸钠2-4g聚乙二醇，充分搅拌均匀，制得磨削 液； (43)砂轮沿玻璃片的边相对移动，对玻璃片的边进行磨削加工，磨削加工过程中使用 上述磨削液。
[0008] 根据上述技术方案，所述步骤（5)中污水处理还经过加热回收并过滤好的污水至 45至60摄氏度并将加热后的水用于清洗步骤的用水。
[0009] 本发明的有益效果： 本发明以洁净、高温、高速拉引的浮法玻璃带为基体，膜层是在高温状态下分解形成， 随着玻璃的冷却，膜层与玻璃基体紧密吸附，膜层牢固耐用、可热弯、钢化、单片存放;使用 膜层化学稳定性好、不存在氧化问题。
【具体实施方式】
[0010]为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明 进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于 限定本发明。
[0011] 实施例1: 一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，包括如下步骤： (1) 制备低辐射玻璃膜层:在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区，以硅类物质为主 反应气体，利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上，形成以SiOxCy为主体的中间膜层； (2) 镀玻璃膜层:在浮法玻璃生产线退火窑AO区内的第二镀膜区，以金属有机物化学气 相沉积技术，将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理，以气体形式随 主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面;在有氧源存在的条件 下，利用烷氧基的热解作用，在玻璃表面沉积的低辐射膜层； (3) 切割:切去玻璃边缘的膜层； (4) 磨边，包括如下步骤： (41) 取4g的脂肪醇聚氧乙烯醚、2g的苯并三氮唑、2g苯甲酸、投入15g去离子水中，搅拌 均匀； (42) 再投入Ig三乙醇铵、0.5g磷酸钠2g聚乙二醇，充分搅拌均匀，制得磨削液； (43) 砂轮沿玻璃片的边相对移动，对玻璃片的边进行磨削加工，磨削加工过程中使用 上述磨削液； (5) 清洗:对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润；回收并过滤用于浸润玻璃原片后的污 水，污水处理还经过加热回收并过滤好的污水至45至60摄氏度并将加热后的水用于清洗步 骤的用水； (6) 钢化:在700 °C的温度下，保持20分钟。
[0012] 根据上述技术方案，所述步骤(1)中还可采用直流磁控溅射方法，在浮法玻璃基片 上，沉积低辐射膜层。
[0013] 实施例2: 一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，包括如下步骤： (1)制备低辐射玻璃膜层:在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区，以硅类物质为主 反应气体，利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上，形成以SiOxCy为主体的中间膜层； (2) 镀玻璃膜层:在浮法玻璃生产线退火窑AO区内的第二镀膜区，以金属有机物化学气 相沉积技术，将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理，以气体形式随 主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面;在有氧源存在的条件 下，利用烷氧基的热解作用，在玻璃表面沉积的低辐射膜层； (3) 切割:切去玻璃边缘的膜层； (4) 磨边，包括如下步骤： (41) 取5g的脂肪醇聚氧乙烯醚、2.5g的苯并三氮唑、3g苯甲酸、投入16g去离子水中，搅 拌均匀； (42) 再投入1.5g三乙醇铵、0.6g磷酸钠3g聚乙二醇，充分搅拌均匀，制得磨削液； (43) 砂轮沿玻璃片的边相对移动，对玻璃片的边进行磨削加工，磨削加工过程中使用 上述磨削液； (5) 清洗:对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润；回收并过滤用于浸润玻璃原片后的污 水，污水处理还经过加热回收并过滤好的污水至45至60摄氏度并将加热后的水用于清洗步 骤的用水； (6) 钢化:在720 °C的温度下，保持25分钟。
[0014]根据上述技术方案，所述步骤(1)中还可采用直流磁控溅射方法，在浮法玻璃基片 上，沉积低辐射膜层。
[0015] 实施例3: 一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，包括如下步骤： (1) 制备低辐射玻璃膜层:在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区，以硅类物质为主 反应气体，利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上，形成以SiOxCy为主体的中间膜层； (2) 镀玻璃膜层:在浮法玻璃生产线退火窑AO区内的第二镀膜区，以金属有机物化学气 相沉积技术，将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理，以气体形式随 主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面;在有氧源存在的条件 下，利用烷氧基的热解作用，在玻璃表面沉积的低辐射膜层； (3) 切割:切去玻璃边缘的膜层； (4) 磨边，包括如下步骤： (41) 取6g的脂肪醇聚氧乙烯醚、3g的苯并三氮唑、4g苯甲酸、投入17g去离子水中，搅拌 均匀； (42) 再投入2g三乙醇铵、0.7g磷酸钠4g聚乙二醇，充分搅拌均匀，制得磨削液； (43) 砂轮沿玻璃片的边相对移动，对玻璃片的边进行磨削加工，磨削加工过程中使用 上述磨削液； (5) 清洗:对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润；回收并过滤用于浸润玻璃原片后的污 水， 污水处理还经过加热回收并过滤好的污水至45至60摄氏度并将加热后的水用于清洗 步骤的用水； (6) 钢化:在740 °C的温度下，保持230分钟。
[0016] 根据上述技术方案，所述步骤(1)中还可采用直流磁控溅射方法，在浮法玻璃基片 上，沉积低辐射膜层。
[0017] 本发明对实施例1至实施例3所得产品进行测试，测试的指标有:隔热效率、侧面强 度、弹性模量和泊松比，测试结果如下表：
由上表可知，实施例1至实施例3所得成品的各项性能明显优异与标准品。
[0018] 基于上述，本发明的优点在于，本发明以洁净、高温、高速拉引的浮法玻璃带为基 体，膜层是在高温状态下分解形成，随着玻璃的冷却，膜层与玻璃基体紧密吸附，膜层牢固 耐用、可热弯、钢化、单片存放;使用膜层化学稳定性好、不存在氧化问题。
[0019] 以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精 神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，其特征在于，包括如下步骤： (1) 制备低辐射玻璃膜层:在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区，以硅类物质为主 反应气体，利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上，形成以SiOxCy为主体的中间膜层； (2) 镀玻璃膜层:在浮法玻璃生产线退火窑A0区内的第二镀膜区，以金属有机物化学气 相沉积技术，将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理，以气体形式随 主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面;在有氧源存在的条件 下，利用烷氧基的热解作用，在玻璃表面沉积的低辐射膜层； (3) 切割:切去玻璃边缘的膜层； (4) 磨边； (5) 清洗:对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润；回收并过滤用于浸润玻璃原片后的污 水； (6) 钢化:在700-740 °C的温度下，保持20-30分钟。2. 根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，其特征在于，所述步骤（1)中 还可采用直流磁控溅射方法，在浮法玻璃基片上，沉积低辐射膜层。3. 根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，其特征在于，所述步骤(4)磨 边工艺包括如下步骤： (41) 取4-6g的脂肪醇聚氧乙烯醚、2-3g的苯并三氮唑、2-4g苯甲酸、投入15-17g去离子 水中，搅拌均匀； (42) 再投入l-2g三乙醇铵、0.5-0.7g磷酸钠2-4g聚乙二醇，充分搅拌均匀，制得磨削 液； (43) 砂轮沿玻璃片的边相对移动，对玻璃片的边进行磨削加工，磨削加工过程中使用 上述磨削液。4. 根据权利要求3所述的一种低辐射镀膜玻璃制造工艺，其特征在于，所述步骤(5)中 污水处理还经过加热回收并过滤好的污水至45至60摄氏度并将加热后的水用于清洗步骤 的用水。
【文档编号】C03B18/02GK106007397SQ201610318256
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年5月12日
【发明人】李锦亮
【申请人】东莞泰升玻璃有限公司