一种陶瓷正反面自动上釉装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种上釉装置，具体的说，是一种陶瓷正反面自动上釉装置。
【背景技术】
[0002]现有技术，陶瓷产品上内釉，采用手工上釉，手工上釉包括手工浸釉和手工喷釉两种方式。其中，手工浸釉是将陶瓷坯件浸入釉池，经过一段时间后将陶瓷坯件吊起，但是这种方式上釉厚度大，瓷坯件吊起后釉料会下坠，造成上下部釉料厚薄不均匀，釉色不均匀，而且釉料耗用量大，生产效率低；而手工喷釉则是由工人手持喷釉枪进行喷釉，但是这种方式因为手持喷枪具有不稳定性，难以控制各件陶瓷坯件总体喷釉时间，也难以控制每件陶瓷坯件各个部位喷釉时间均匀，难以确保各个部位喷釉均匀，同样存在釉层不均匀的质量冋题。
[0003]脚踩式上釉机构，脚踩开关启动，釉池向上喷釉；上外釉时，人手工将产品平放按入釉池，上釉完成后，取出，用海绵擦浆。上述方式完全采用人工操作，工作效率非常低，对操作人员的经验和常识有一定要求，人工成本高。
[0004]因此，人工上釉程序显得不协调。另外，手工上釉的方式浪费釉水，耗工量大，人力成本高，生产速度慢。
【实用新型内容】
[0005]针对上述不足，本实用新型的目的在于提供一种可实现无人看管式全自动操作，生产效率高，成本低的陶瓷正反面自动上釉装置。
[0006]为解决上述技术问题，本实用新型提供一种陶瓷正反面自动上釉装置，包括机架，所述的机架上依次布置有输送坯体的进料机构、用于给坯体内表面喷釉的喷内釉控制机构、用于给坯体外表面喷釉的喷外釉控制机构和输出成品的输出机构；所述的进料机构、喷内釉控制机构、喷外釉控制机构和输出机构均连接至一控制装置。
[0007]作为本实用新型的进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，所述的进料机构设于机架其中一侧，包括输送带和用于安装输送带的输送带支架，所述输送带支架上靠近坯体入口一端设有使坯体在输送带上居中定位的中心自动调节装置。
[0008]作为本实用新型的进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，所述的输送带支架上还设有多组间隔布置的自动感应式坯体定位单元。
[0009]作为本实用新型的进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，每组所述的自动感应式还体定位单元包括定位支座以及安装在该定位支座上并使还体之间相隔离的自动感应式定位挡板。
[0010]作为本实用新型的进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，所述输送带支架的下方还设有自动调整坯体间距的第二型号自动调整装置，所述的型号自动调整装置共两组，分别位于一组待加工的坯体首尾两端。
[0011]作为本实用新型的更进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，所述的喷内釉控制机构包括用于从进料机构获取坯体的第一取坯机械手，以及控制第一取坯机械手升降的第一电机和控制第一取坯机械手取坯后翻转180°C的第二电机；还包括从翻转后的第一取坯机械手上获取坯体的第二取坯机械手，以及控制第二取坯机械手平移至内釉水槽的第三电机和控制第二取坯机械手升降的第四电机。
[0012]作为本实用新型的更进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，所述的喷外釉控制机构包括控制所述第二取坯机械手翻转180 °C的第五电机，从翻转后的第二取坯机械手上获取完成上内釉后的坯体的第三取坯机械手，以及控制第三取坯机械手平移至外釉水槽的第六电机和控制第三取坯机械手升降的第七电机。
[0013]作为本实用新型的更进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，所述的输出机构包括将完成上外釉后的坯体进行擦脚处理的擦脚流水线，擦脚流水线与所述第三取坯机械手相邻，擦脚流水线上设有擦脚电机。
[0014]作为本实用新型的更进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，所述的输出机构还包括出料流水线。
[0015]作为本实用新型的更进一步改进，上述的陶瓷正反面自动上釉装置，所述的第一取坯机械手、第二取坯机械手和第三取坯机械手分别包括二摆臂及设于二摆臂之间的支撑板，该支撑板上沿其长度方向间隔布置的多个用于吸取坯体内表面或者坯体底部的吸盘，所述吸盘的数量与待加工的一组坯体数量相对应。
[0016]与现有技术相比，本实用新型提供的技术方案可实现无人看管式全自动操作，生产效率高，成本低。型号自动调整，根据将要加工的坯体型号参数一次性调整即可，生产过程中无需再做调整，实现数字化控制。
【附图说明】
[0017]图1是本实用新型提供的装置结构示意图1 ;
[0018]图2是本实用新型提供的装置结构示意图2。
【具体实施方式】
[0019]现在参考附图描述本实用新型的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元件。
[0020]本实用新型提供的陶瓷正反面自动上釉装置，请参阅图1和图2，本实用新型提供一种陶瓷正反面自动上釉装置，包括机架11，所述的机架11上依次布置有输送坯体的进料机构、用于给坯体内表面喷釉的喷内釉控制机构、用于给坯体外表面喷釉的喷外釉控制机构和输出成品的输出机构；所述的进料机构、喷内釉控制机构、喷外釉控制机构和输出机构均连接至一控制装置，这里所述的控制装置是整个自动上釉装置的总体电气控制系统。
[0021]所述的进料机构设于机架11其中一侧，包括输送带21和用于安装输送带21的输送带支架25，所述输送带支架25上靠近坯体入口一端设有使坯体在输送带21上居中定位的中心自动调节装置23。所述输送带支架25的下方还设有自动调整坯体间距的第二型号自动调整装置22，所述的型号自动调整装置22共两组，分别位于一组待加工的坯体首尾两端。
[0022]具体的说，中心自动调节装置23同时作为第一型号自动调整装置，中心自动调节装置23设有一对可自动调节式竖向挡板，可根据不同型号的坯体宽度自动调整二竖向挡板的间距，同时保证二挡板之间的中线与输送带21的中心线重合，从而实现坯体自动居中输入。
[0023]所述的输送带支架25上还设有多组间隔布置的自动感应式坯体定位单元。每组所述的自动感应式还体定位单元包括定位支座26以及安装在该定位支座26上并使还体之间相隔离的自动感应式定位挡板24。每组所述的自动感应式坯体定位单元中，定位挡板24在输送带21的两侧成对布置，并活动铰接在对应的定位支座26上，每一对定位挡板处设有感应装置。
[0024]所述的喷内釉控制机构包括用于从进料机构获取坯体的第一取坯机械手31，以及控制第一取坯机械手31升降的第一电机32和控制第一取坯机械手31取坯后翻转180°C的第二电机33 ;还包括从翻转后的第一取坯机械手31上获取坯体的第二取坯机械手34，以及控制第二取坯机械手34平移至内釉水槽的第三电机36和控制第二取坯机械手34升降的第四电机