一种阳光控制镀膜玻璃的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种阳光控制镀膜玻璃。该玻璃包括玻璃基板和功能膜层，所述玻璃基板具有相对的两面；所述功能膜层至少包括从玻璃基板向外依次逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、第一反射层、第三电介质层、第二反射层和第四电介质层。本实用新型外观呈现出绿色状，不仅具有很好的美观效果，而且丰富了阳光控制镀膜玻璃的颜色，因此可以满足人们对玻璃颜色的需求。
【专利说明】
一种阳光控制镀膜玻璃
技术领域
[0001] 本实用新型属于玻璃技术领域，具体涉及一种阳光控制镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002] 根据国家标准GB/T18915.1-2013的定义，阳光控制镀膜玻璃是一种对波长范围 350nm~1800nm的太阳光具有一定控制作用的镀膜玻璃。具体来说，这种玻璃具有良好的隔 热性能，能够在保证室内采光柔和的条件下，可有效地屏蔽进入室内的太阳辐射能，避免暖 房效应，节约室内降温空调的能源消耗。由于阳光控制镀膜玻璃的镀膜层具有单向透视性， 故又称为单反玻璃。
[0003] 现有的阳光控制镀膜玻璃的膜系基本是由SiNj莫层构成的单层结构，或者为SiNx+ NiCr+SiNx膜层或者SiNx+Cr+SiNx膜层构成的三层结构。这种常规的结构，设计简单，所制 备的膜系颜色一般为灰色或蓝灰色，颜色单一且很难实现其他颜色。在现代的建筑设计中， 消防通道考虑到安全问题，往往使用单片玻璃，而层间的部分作为上下楼层的过渡部分，对 性能要求不是十分严格，为了节省成本，也可以选用阳光控制膜玻璃。在调试绿色膜系阳光 控制镀膜玻璃时，会使用绿玻来实现，这就造成了原片的成本上升，现在使用普通浮法玻璃 或超白玻璃进行调试，虽然可以节约成本，但阳光控制膜的颜色多样性无法满足。 【实用新型内容】
[0004] 本实用新型实施例的目的在于开发出一种阳光控制镀膜玻璃，以解决现有技术中 无法实现阳光控制镀膜玻璃的颜色多样性问题。
[0005] 为了实现上述实用新型目的，本实用新型实施例的技术方案如下：
[0006] -种阳光控制镀膜玻璃，包括玻璃基板和功能膜层，所述玻璃基板具有相对的两 面;所述功能膜层包括从所述玻璃基板向外依次逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介 质层、第一反射层、第三电介质、第二反射层和第四电介质层；
[0007]其中，所述第一电介质层为SiNx膜层或SiNxOy膜层;所述第二电介质层为ΖηΑΙΟχ膜 层或ZnSnOx膜层;所述第一反射层为NiCr膜层、NiCrOx膜层、CrNx膜层中的任一层;所述第三 电介质层为ΖηΑΙΟ膜层、ZnSnO x膜层、SiNx膜层中的任一层；所述第二反射层为NiCr膜层、 NiCr0x膜层、CrNx膜层中的任一层;所述第四电介质层为SiNx膜层、ZnA10 x膜层或ZnSn0x膜层 与SiNj莫层构成的双膜层中的任一层。
[0008] 作为优选地，所述第一电介质层、第二电介质层、第一反射层、第三电介质层、第二 反射层和第四电介质层的厚度分别为38 · 0~45 · 5nm、37 · 3~57 · 0nm、3 · 3~7 · 3nm、29 · 8~ 48·4nm、2·8~7·6nm和41·7~58·5nm〇
[0009] 作为优选地，所述玻璃基板为浮法玻璃基板。
[0010] 作为优选地，所述浮法玻璃基板的厚度为3~19mm〇
[0011] 上述实施例中的阳光控制镀膜玻璃，采用六层镀膜层替换了常规的阳光控制膜 系，镀膜层与玻璃基板结合力强，镀膜层致密、均匀，膜层抗划伤能力强，外观呈现出绿色 状，不仅具有很好的美观效果，而且丰富了阳光控制镀膜玻璃的颜色，满足人们对玻璃颜色 的需求。
【附图说明】
[0012] 下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：
[0013] 图1是本实用新型实施例中阳光控制镀膜玻璃的结构示意图；
[0014] 图2(a)、2(b)、2(c)是本实用新型实施例1的阳光控制镀膜玻璃的光谱曲线示意 图；其中，图2(a)为玻璃面反射率的光谱曲线，图2(b)为镀膜面反射率的光谱曲线，图2(c) 为可见光透过率；
[0015] 图3(a)、3(b)、3(c)是本实用新型实施例2的阳光控制镀膜玻璃的光谱曲线示意 图；其中，图3(a)为玻璃面反射率的光谱曲线，图3(b)为镀膜面反射率的光谱曲线，图3(c) 为可见光透过率；
[0016] 图4(a)、4(b)、4(c)是本实用新型实施例3的绿色阳光控制镀膜玻璃的光谱曲线示 意图；其中，图4(a)为玻璃面反射率的光谱曲线，图4(b)为镀膜面反射率的光谱曲线，图4 (c)为可见光透过率；
[0017] 图5(a)、5(b)、5(c)是本实用新型实施例4的绿色阳光控制镀膜玻璃的光谱曲线示 意图；其中，图5(a)为玻璃面反射率的光谱曲线，图5(b)为镀膜面反射率的光谱曲线，图5 (c)为可见光透过率；
[0018] 图6(a)、6(b)、6(c)是本实用新型实施例5的阳光控制镀膜玻璃的光谱曲线示意 图；其中，图6(a)为玻璃面反射率的光谱曲线，图6(b)为镀膜面反射率的光谱曲线，图6(c) 为可见光透过率；
[0019] 图7是本实用新型实施例阳光控制镀膜玻璃的制备方法的流程框图。
【具体实施方式】
[0020] 为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施 例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释 本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0021] 本实用新型实例提供了一种阳光控制镀膜玻璃，该阳光控制镀膜玻璃包括玻璃基 板1和功能膜层2。
[0022]其中，在任一实施例中，玻璃基板1由浮法玻璃构成，玻璃基板1具有相互对立的两 面。
[0023]优选地，浮法玻璃的厚度为3~19mm。
[0024] 从所述玻璃基板1的一表面沉积形成功能膜层2。
[0025] 在任一实施例中，所述的功能膜层2至少包含六个膜层结构，每个膜层结构依次沉 积，具体为包括从玻璃基板1的表面向外依次逐层沉积而成的第一电介质层21、第二电介质 层22、第一反射层23、第三电介质24、第二反射层25和第四电介质层26。
[0026] 具体地，本实施的阳光控制镀膜玻璃的膜层结构为:玻璃基板1/第一电介质层21/ 第二电介质层22/第一反射层23/第三电介质24/第二反射层25/第四电介质层26。
[0027]作为优选地，本实施例的上述第一电介质层21为SiNx膜层或SiNx0y膜层;第二电介 质层22为ZnA10x膜层或ZnSnOx膜层；第一反射层23为NiCr膜层、NiCrO x膜层、CrNx膜层中的 任一层;第三电介质层24为ΖηΑΙΟ膜层、ZnSnOx膜层、SiNx膜层中的任一层;第二反射层25为 NiCr膜层、NiCrOx膜层、CrNx膜层中的任一层；第四电介质层26为SiNx膜层、ZnA10 x膜层或 ZnSnOx膜层与SiNx膜层构成的双膜层中的任一层。
[0028]作为优选地，本实施例的上述各个功能膜层的厚度分别为第一电介质层21为38.0 ~45.5nm;第二电介质层22为37.3~57. Onm;第一反射层23为3.3~7.3nm;第三电介质层24 为29 · 8~48 · 4nm;第二反射层25为2 · 8~7 · 6nm;第四电介质层26为41 · 7~58 · 5nm。
[0029] 作为优选地，本实用新型实施例获得的阳光控制镀膜玻璃经过加热处理(也就是 钢化处理)后颜色为绿色。
[0030] 钢化处理的具体操作为:将阳光控制镀膜玻璃置于钢化炉内，镀膜表面的加热温 度为680~690°C，浮法玻璃表面的加热温度较镀膜表面温度低，为670~680°C，钢化处理时 间为410~420s，即可获得阳光控制镀膜玻璃。
[0031] 经过钢化处理，本实用新型实施例获得的阳光控制镀膜玻璃的各膜层有机的结合 在一起，玻璃的可加工性能得到进一步的提高。
[0032]各个膜层的作用如下：
[0033]第一电介质层21位于玻璃基板1和第二电介质层22之间，该层的SiNx或SiNx0 y，在 本实用新型实施例中能够阻止玻璃基板1中的Na+向膜层中渗透，增加膜层和玻璃基片之间 的吸附力，提高物理和化学性能，控制膜系的光学性能和颜色；
[0034]第二电介质层22位于第一反射层23和第一电介质层21之间，该层的ΖηΑΙΟχ或 ZnSn0x，具有提高物理和化学性能、控制膜系的光学性能和颜色的作用。
[0035]第一反射层23位于第二电介质层22和第三电介质层24之间，该层的NiCr在本实用 新型实施例中具有控制膜系的光学性能和颜色的作用。
[0036]第三电介质层24位于第一反射层23和第二反射层25之间，该层中ZnA10、ZnSn0x、 SiNx的任一层，具有控制膜系的光学性能和颜色的作用。
[0037]第二反射层25位于第三电介质层24和第四电介质层26之间，该层中NiCr、NiCr0x、 CrNx的任一层，具有控制膜系的光学性能和颜色的作用。
[0038] 第四电介质层26位于第二反射层25之上，该层中SiNx、ZnA10x或ZnSn0 x与SiNx构成 的混合结构的任一层，具有保护整个膜结构、提高物理和化学性能，控制膜系的光学性能和 颜色的作用。
[0039] 上述各层按顺序结合，从而保障了阳光控制镀膜玻璃的整体性能，能够实现膜系 颜色的多样性。
[0040] 相应地，在上文所述的阳光控制镀膜玻璃的基础上，本实用新型实施例还提供了 本实用新型实施例阳光控制镀膜玻璃的一种制备方法。作为本实用新型优选实施例，该阳 光控制镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
[0041 ]步骤S01:前处理，清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，并将所述清 洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8 X l(T6mbar以上；
[0042] 步骤S02、膜层沉积处理，控制溅射真空度为2X 10_3mbar~5X 10_3mbar，在所述浮 法玻璃基板上依次沉积如下厚度的膜层:38.0~45.5nm的第一电介质层、37.3~57. Onm的 第二电介质层、3.3~7.3nm的第一反射层、29.8~48.4nm的第三电介质层、2.8~7.6nm的第 二反射层和41 · 7~58.5nm的第四电介质层。
[0043] 具体地，上述步骤S01中，采用Benteler清洗机对浮法玻璃进行清洗。
[0044]具体地，步骤S02在溅射镀膜过程中，采用德国冯?阿登那公司生产的磁控溅射镀 膜设备控制溅射的真空度，并应当注意膜层厚度的调整，可使用在线光度计测量膜层颜色 参数，并进行膜层厚度的调整，使颜色参数与绿色接近。
[0045] 具体地，上述步骤S02中膜层沉积处理后的玻璃，应采用浓度为lmol/L HC1溶液和 浓度为lmol/L NaOH溶液作为浸渍液，按照《GB/T 18915.1-2013镀膜玻璃第1部分阳光控制 镀膜玻璃》检测膜层沉积处理后的玻璃的耐酸性能和耐碱性能。
[0046]与此同时，还采用台式光度计、研磨机、U4100紫外可见红外分光光度计等测试分 析仪器测试获得阳光控制镀膜玻璃的耐磨性以及玻面反射率、膜面反射率和透过光谱。 [0047]需要说明的是，在溅射靶材和镀膜的各层结构确定之后，决定产品性能特点的核 心部分就是各层的厚度，即通过调整镀膜工艺，控制各层厚度，最终达到不同的效果。本申 请的一种优选方案中，第一电介质层的厚度为38.0~45.5nm，第二电介质层的厚度为37.3 ~57. Onm，第一反射层的厚度为3.3~7.3nm，第三电介质层的厚度为29.8~48.4nm，第二反 射层的厚度为2.8~7.6nm，第四电介质层的厚度为41.7~58.5nm〇
[0048] 相应地，本实用新型实施例制备的阳光控制镀膜玻璃，可应用于建筑门窗、建筑幕 墙以及室内装饰中。当然，本实用新型实施例制备的阳光控制镀膜玻璃还可以应用在除上 述应用领域之外的其他领域，所列举的应用仅仅起举例作用。
[0049] 本实用新型实施例提供的阳光控制镀膜玻璃用于上述领域时，可大大降低生产成 本以及可加工性。这主要是由于本实用新型实施例采用的浮法玻璃(也称白玻)能有效的避 免常规的绿玻钢化后平整度及碎片不易控制等问题。
[0050] 以下通过多个实施例来举例说明本实用新型实施例阳光控制镀膜玻璃的原理、作 用以及达到的功效。
[00511下述各具体实施示范例中涉及的仪器设备为:VAAT GC330H镀膜设备、Benteler清 洗机、在线检测光度计、Datacolar CHECK Π (便携式测色仪）、Color 15透射比测试仪、U 4100(紫外可见红外分光光度计）、BTA-5000型耐磨试验机。
[0052] 实施例1
[0053] 一种阳光控制镀膜玻璃及其制备方法。其中，阳光控制镀膜玻璃包括玻璃基板和 沉积于玻璃基板表面的功能膜层;所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而 成的第一电介质层、第二电介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第 四电介质层;其中，第一电介质层为43.9nm的氮化娃膜层、第二电介质层为42.4nm的氧化锌 铝膜层、第一反射层为4.9nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为33.7nm的氧化锌膜层、第二 反射层为5.3nm的镍铬合金膜层、第四电介质层为52.5nm的氮化硅膜层;所述玻璃基板为 6mm的浮法玻璃。
[0054]该阳光控制镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
[0055] 1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基 板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T6mbar以上。
[0056] 2)膜层沉积处理，在经过表面处理的玻璃基板上依次沉积第一电介质层，第二电 介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第四电介质层。具体如下：
[0057]采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射 氮化硅膜层，厚度为43.9nm;硅铝靶的质量比Si : A1 = 92:8，氩气与氮气的流量比为1:1。 [0058]采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在氮化硅膜层上磁控溅 射氧化锌铝膜层，溅射厚度为42.4nm，锌铝靶的质量比为Ζη:Α1 = 98:2,氩气与氧气的流量 比为3:4。
[0059] 采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为4.9nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0060] 采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氧化锌铝膜层，溅射厚度为33.7nm，锌铝靶的质量比为Ζη:Α1 = 98:2,氩气与氧气的流 量比为3:4。
[0061] 采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为5.3nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0062] 采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氮化硅膜层，厚度为52.5nm;硅铝靶的质量比Si: A1 = 92:8,氩气与氮气的流量比为1: 1〇
[0063] 上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品 的外观颜色，同时，对本例采用的玻璃基板进行相同的测试作对比，具体结果如表1所示。采 用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图2(a)、2(b)、2(c)所示。
[0064]在实施例1获得的阳光控制镀膜玻璃的基础上，对其进行加热处理，即钢化处理， 具体为镀膜表面加热温度为680°C，浮法玻璃表面加热温度为670°C，加热时间410s。并采用 相同的方法对加热处理后的玻璃进行颜色检测，结果显示玻璃面颜色显示为绿色。
[0065] 实施例2
[0066] -种阳光控制镀膜玻璃及其制备方法。其中，阳光控制镀膜玻璃包括玻璃基板和 沉积于玻璃基板表面的功能膜层;所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而 成的第一电介质层、第二电介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第 四电介质层;其中，第一电介质层为38.Onm的氮化娃膜层、第二电介质层为57.Onm的氧化锌 铝膜层、第一反射层为5.5nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为34.7nm的氧化锌膜层、第二 反射层为4.7nm的镍铬合金膜层、第四电介质层为41.7nm的氮化硅膜层;所述玻璃基板为 10mm的浮法玻璃。
[0067] 该阳光控制镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
[0068] 1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基 板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T6mbar以上。
[0069] 2)膜层沉积处理，在经过表面处理的玻璃基板上依次沉积第一电介质层，第二电 介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第四电介质层。具体如下：
[0070] 采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射 氮化硅膜层，厚度为38. Onm;硅铝靶的质量比Si : A1 = 92:8，氩气与氮气的流量比为1; 1。
[0071] 采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在氮化硅膜层上磁控溅 射氧化锌铝膜层，溅射厚度为57. Onm，锌铝靶的质量比为Zn: A1 = 98: 2，氩气与氧气的流量 比为3:4。
[0072] 采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为5.5nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0073] 采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氧化锌铝膜层，溅射厚度为34.7nm，锌铝靶的质量比为Ζη:Α1 = 98:2,氩气与氧气的流 量比为3:4。
[0074] 采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为4.7nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0075] 采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氮化硅膜层，厚度为41.7nm;硅铝靶的质量比Si :A1 = 92:8，氩气与氮气的流量比为1: 1〇
[0076] 上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品 的外观颜色，同时，对本例采用的玻璃基板进行相同的测试作对比，具体结果如表1所示。采 用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图3(a)、3(b)、3(c)所示。
[0077]在实施例2获得的阳光控制镀膜玻璃的基础上，对其进行加热处理，即钢化处理， 具体为镀膜表面加热温度为690°C，浮法玻璃表面加热温度为680 °C，加热时间420s。并采用 相同的方法对加热处理后的玻璃进行颜色检测，结果显示玻璃面颜色显示为绿色。
[0078] 实施例3
[0079] -种阳光控制镀膜玻璃及其制备方法。其中，阳光控制镀膜玻璃包括玻璃基板和 沉积于玻璃基板表面的功能膜层;所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而 成的第一电介质层、第二电介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第 四电介质层;其中，第一电介质层为41.3nm的氮化娃膜层、第二电介质层为37.3nm的氧化锌 铝膜层、第一反射层为7.3nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为48.4nm的氧化锌膜层、第二 反射层为2.8nm的镍铬合金膜层、第四电介质层为45.6nm的氮化硅膜层;所述玻璃基板为 4mm的浮法玻璃。
[0080] 该阳光控制镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
[0081 ] 1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基 板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T6mbar以上。
[0082] 2)膜层沉积处理，在经过表面处理的玻璃基板上依次沉积第一电介质层，第二电 介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第四电介质层。具体如下： [0083]采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射 氮化硅膜层，厚度为41.3nm;硅铝靶的质量比Si : A1 = 92:8，氩气与氮气的流量比为1:1。
[0084] 采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在氮化硅膜层上磁控溅 射氧化锌铝膜层，溅射厚度为37.3nm，锌铝靶的质量比为Zn: A1 = 98: 2，氩气与氧气的流量 比为3:4。
[0085] 采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为7.3nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0086] 采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氧化锌铝膜层，溅射厚度为48.4nm，锌铝靶的质量比为Ζη:Α1 = 98:2,氩气与氧气的流 量比为3:4。
[0087] 采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为2.8nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0088] 采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氮化硅膜层，厚度为45.6nm;硅铝靶的质量比Si :A1 = 92:8，氩气与氮气的流量比为1: 1〇
[0089] 上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品 的外观颜色，同时，对本例采用的玻璃基板进行相同的测试作对比，具体结果如表1所示。采 用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图4(a)、4(b)、4(c)所示。
[0090] 在实施例3获得的阳光控制镀膜玻璃的基础上，对其进行加热处理，即钢化处理， 具体为镀膜表面加热温度为685°C，浮法玻璃表面加热温度为670°C，加热时间415s。并采用 相同的方法对加热处理后的玻璃进行颜色检测，结果显示玻璃面颜色显示为绿色。
[0091] 实施例4
[0092] -种阳光控制镀膜玻璃及其制备方法。其中，阳光控制镀膜玻璃包括玻璃基板和 沉积于玻璃基板表面的功能膜层;所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而 成的第一电介质层、第二电介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第 四电介质层;其中，第一电介质层为43.2nm的氮化娃膜层、第二电介质层为39.3nm的氧化锌 铝膜层、第一反射层为3.3nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为29.8nm的氧化锌膜层、第二 反射层为7.6nm的镍铬合金膜层、第四电介质层为58.5nm的氮化硅膜层;所述玻璃基板为 15mm的浮法玻璃。
[0093] 该阳光控制镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
[0094] 1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基 板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T6mbar以上。
[0095] 2)膜层沉积处理，在经过表面处理的玻璃基板上依次沉积第一电介质层，第二电 介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第四电介质层。具体如下： [0096]采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射 氮化硅膜层，厚度为43.2nm;硅铝靶的质量比Si : A1 = 92:8，氩气与氮气的流量比为1:1。 [0097]采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在氮化硅膜层上磁控溅 射氧化锌铝膜层，溅射厚度为39.3nm，锌铝靶的质量比为Zn: A1 = 98: 2，氩气与氧气的流量 比为3:4。
[0098]采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为3.3nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0099]采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氧化锌铝膜层，溅射厚度为29.8nm，锌铝靶的质量比为Ζη:Α1 = 98: 2,氩气与氧气的流 量比为3:4。
[0100]采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为7.6nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0101]采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氮化硅膜层，厚度为58.5nm;硅铝靶的质量比Si: A1 = 92:8,氩气与氮气的流量比为1: 1〇
[0102] 上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品 的外观颜色，同时，对本例采用的玻璃基板进行相同的测试作对比，具体结果如表1所示。采 用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图5(a)、5(b)、5(c)所示。
[0103] 在实施例4获得的阳光控制镀膜玻璃的基础上，对其进行加热处理，即钢化处理， 具体为镀膜表面加热温度为685°C，浮法玻璃表面加热温度为675°C，加热时间410s。并采用 相同的方法对加热处理后的玻璃进行颜色检测，结果显示玻璃面颜色显示为绿色。
[0104] 实施例5
[0105] -种阳光控制镀膜玻璃及其制备方法。其中，阳光控制镀膜玻璃包括玻璃基板和 沉积于玻璃基板表面的功能膜层;所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而 成的第一电介质层、第二电介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第 四电介质层;其中，第一电介质层为45.5nm的氮化娃膜层、第二电介质层为39.3nm的氧化锌 铝膜层、第一反射层为7. lnm的镍铬合金膜层、第三电介质层为34.4nm的氧化锌膜层、第二 反射层为2.4nm的镍铬合金膜层、第四电介质层为52.6nm的氮化硅膜层;所述玻璃基板为 19mm的浮法玻璃。
[0106] 该阳光控制镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
[0107] 1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基 板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8Xl(T 6mbar以上。
[0108] 2)膜层沉积处理，在经过表面处理的玻璃基板上依次沉积第一电介质层，第二电 介质层、第一反射层、第三电介质、第二电介质、第二反射层和第四电介质层。具体如下：
[0109] 采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射 氮化硅膜层，厚度为45.5nm;硅铝靶的质量比Si : A1 = 92:8，氩气与氮气的流量比为1:1。 [0110]采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在氮化硅膜层上磁控溅 射氧化锌铝膜层，溅射厚度为39.3nm，锌铝靶的质量比为Zn: A1 = 98: 2，氩气与氧气的流量 比为3:4。
[0111] 采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为7. lnm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0112] 采用氩气和氧气为工作气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氧化锌铝膜层，溅射厚度为34.4nm，锌铝靶的质量比为Ζη:Α1 = 98:2,氩气与氧气的流 量比为3:4。
[0113]采用氩气为工作气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在氧化锌铝膜层上磁控溅 射镍铬合金膜层，厚度为2.4nm;镍铬合金靶的质量比Ni : Cr = 8:2。
[0114] 采用氩气和氮气为工作气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金膜层上磁控 溅射氮化硅膜层，厚度为52.6nm;硅铝靶的质量比Si: A1 = 92:8,氩气与氮气的流量比为1: 1〇
[0115] 上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品 的外观颜色，同时，对本例采用的玻璃基板进行相同的测试作对比，具体结果如表1所示。采 用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图6(a)、6(b)、6(c)所示。
[0116] 在实施例5获得的阳光控制镀膜玻璃的基础上，对其进行加热处理，即钢化处理， 具体为镀膜表面加热温度为680°C，浮法玻璃表面加热温度为670°C，加热时间410s。并采用 相同的方法对加热处理后的玻璃进行颜色检测，结果显示玻璃面颜色显示为绿色。
[0117] 表1实施例1~5中阳光控制镀膜玻璃外观颜色
[0118]
[0119] 其中，上表1中字母的含义如下
[0120] G表示镀膜玻璃的玻璃面，R*g表示镀膜玻璃玻璃面的反射值;a*g和b*g表示镀膜 玻璃的玻璃面的颜色值，a*g越正表示颜色越红，a*g越负表示颜色越绿，b*g越正表示颜色 越黄，b*g越负表示颜色越蓝;L*g表示镀膜玻璃的玻璃面的亮度。
[0121] F表示镀膜玻璃的镀膜面;R*f表示镀膜玻璃膜面的反射值;a*f和b*f表示镀膜玻 璃膜面的颜色值，a*f越正表示颜色越红，a*f越负表示颜色越绿;b*f越正表示颜色越黄，b* f越负表示颜色越蓝;L*f表示镀膜玻璃膜面的亮度。
[0122] T表示镀膜玻璃的透过;Tr表示镀膜玻璃的透过率;a*T和b*T表示镀膜玻璃透过的 颜色值，a*T越正表示颜色越红，a*T越负表示颜色越绿;b*T越正表示颜色越黄，b*T越负表 示颜色越蓝;L*T表示镀膜玻璃透过的亮度。
[0123] 表1的结果显示，实施例卜5的阳光控制镀膜玻璃的颜色a*g在-9~-12之间，因为 人对a*g代表的红绿更为敏感，为了使颜色绿色效果明显，所以需要控制a*g的范围。实施例 1-5的阳光控制镀膜玻璃的颜色b*g在0~2之间，为了使其颜色不干扰最终颜色，所以需要 控制b*g的范围。
[0124] 另外，对实施例1-5获得的钢化的阳光控制镀膜玻璃进行颜色检测，结果显示，实 施例1-5的钢化的阳光控制镀膜玻璃a*g在-9~-12之间，b*g在-1~3之间。
[0125] 以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本 实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包括在本实用新型 的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种阳光控制镀膜玻璃，其特征在于:包括玻璃基板和功能膜层，所述玻璃基板具有 相对的两面;所述功能膜层至少包括从所述玻璃基板向外依次逐层沉积而成的第一电介质 层、第二电介质层、第一反射层、第三电介质层、第二反射层和第四电介质层； 其中，所述第一电介质层为SiNx膜层或SiNxOy膜层;所述第二电介质层为ZnAlO x膜层或 ZnSnOx膜层;所述第一反射层为NiCr膜层、NiCrOx膜层、CrNx膜层中的任一层;所述第三电介 质层为ZnAlO膜层、ZnSnO x膜层、SiNx膜层中的任一层;所述第二反射层为NiCr膜层、NiCrOx 膜层、CrNx膜层中的任一层;所述第四电介质层为SiNx膜层、ZnAlOx膜层或ZnSnO x膜层与SiNx 膜层构成的双膜层中的任一层。2. 如权利要求1所述的阳光控制镀膜玻璃，其特征在于:所述第一电介质层、第二电介 质层、第一反射层、第三电介质层、第二反射层和第四电介质层的厚度分别为38.0~ 45·5nm、37·3~57·0nm、3·3~7·3nm、29·8~48·4nm、2·8~7·6nm和41·7~58·5nm〇3. 如权利要求1或2所述的阳光控制镀膜玻璃，其特征在于:所述玻璃基板为浮法玻璃 基板。4. 如权利要求3所述的阳光控制镀膜玻璃，其特征在于:所述浮法玻璃基板的厚度为3 ~19mm〇
【文档编号】C03C17/36GK205528442SQ201620195550
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年3月14日
【发明人】董清世, 周枫
【申请人】信义节能玻璃（芜湖）有限公司