用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置的制造方法

文档序号:10903759阅读:418来源:国知局
用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,涉及光纤预制棒的制造技术领域,该装置包括顶部开口的反应容器、压力表,压力表与反应容器相连,反应容器内部流通有纯度高于99%的高纯度惰性气体;反应容器的一侧设置有用于制备包层的第一喷灯、用于制备芯层的第二喷灯,第二喷灯位于第一喷灯与反应容器底部所在平面之间;反应容器底部连接有配管,配管与反应容器内部连通,配管设置有流量调整器、电磁阀,流量调整器位于反应容器与电磁阀之间,流量调整器与电磁阀相连,电磁阀与压力表相连。本实用新型能够有效防止金属杂质混入玻璃微粒沉积体,因此,制备得到的光纤预制棒金属杂质含量少,杂质吸收损耗较低。
【专利说明】
用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及光纤预制棒的制造技术领域,具体涉及一种用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置。【背景技术】
[0002]光纤预制棒制造方法的VAD(Vapor_phase Axial Deposit1n,气相轴向沉积)法的主要环节之一是通过喷灯生成玻璃微粒,并在反应容器内形成玻璃微粒的沉积体。现有的沉积反应装置中,反应容器侧壁开有若干气孔,通过HEPA过滤器净化空气后,然后再供气到反应容器内。但是,净化过的空气中含有微量的金属杂质。空气中的金属杂质混入光纤预制棒,对光衰减特性造成不良影响。【实用新型内容】
[0003]针对现有技术中存在的缺陷,本实用新型的目的在于提供用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,该装置能够有效防止金属杂质混入玻璃微粒沉积体,因此,制备得到的光纤预制棒金属杂质含量少,杂质吸收损耗较低。
[0004]本实用新型提供一种用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,该装置包括顶部开口的反应容器、压力表,压力表与反应容器相连,反应容器内部流通有纯度高于99%的高纯度惰性气体;反应容器的一侧设置有用于制备包层的第一喷灯、用于制备芯层的第二喷灯,第二喷灯位于第一喷灯与反应容器底部所在平面之间;反应容器底部连接有配管,配管与反应容器内部连通,配管设置有流量调整器、电磁阀,流量调整器位于反应容器与电磁阀之间,流量调整器与电磁阀相连,电磁阀与压力表相连。
[0005]在上述技术方案的基础上,所述第一喷灯、第二喷灯与反应容器之间的所有缝隙均填充有硅胶。
[0006]在上述技术方案的基础上,所述压力表为电子式压力表,压力表和电磁阀通过配线连接。
[0007]在上述技术方案的基础上,所述第一喷灯的喷嘴部分位于反应容器内部,其余部分位于反应容器之外。
[0008]在上述技术方案的基础上,所述第二喷灯的喷嘴部分位于反应容器内部,其余部分位于反应容器之外。[〇〇〇9]在上述技术方案的基础上,所述第一喷灯的数量多1。
[0010]在上述技术方案的基础上,所述第二喷灯的数量多1。
[0011]在上述技术方案的基础上,所述配管的内径为4?8毫米。
[0012]在上述技术方案的基础上,所述反应容器的材质为陶瓷或者石英玻璃。
[0013]与现有技术相比,本实用新型的优点在于:
[0014](1)空气中通常含有微量的金属杂质,本实用新型的反应容器侧壁为密闭结构,能够有效防止含有金属杂质的空气进入。将空气替换为高纯度惰性气体,高纯度惰性气体中的金属杂质较少,能够有效减少混入玻璃微粒沉积体的金属杂质,制备得到的光纤预制棒金属杂质含量少,杂质吸收损耗较低。
[0015](2)高纯度惰性气体从反应容器的底部通入,并从反应容器的顶部排出,这样不会影响喷灯喷出的气流,反应容器中的气流有序流动,确保沉积均匀。【附图说明】
[0016]图1为本实用新型实施例中沉积反应装置的结构示意图。[〇〇17]附图标记:1-反应容器,2-玻璃微粒沉积体,3-第一喷灯,4-第二喷灯,5-压力表, 6-流量调整器,7-配管,8-电磁阀。【具体实施方式】
[0018]以下结合附图对本实用新型的实施例作进一步详细说明。
[0019]参见图1所示,本实用新型实施例提供一种用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,该装置包括顶部开口的反应容器1,该装置还包括压力表5,压力表5为电子式压力表;压力表5与反应容器1相连,反应容器1内部流通有纯度高于99 %的高纯度惰性气体;反应容器1的一侧设置有用于制备包层的第一喷灯3、用于制备芯层的第二喷灯4,第二喷灯4 位于第一喷灯3与反应容器1底部所在平面之间;反应容器1底部连接有配管7,配管7与反应容器1内部连通,配管7设置有流量调整器6、电磁阀8,流量调整器6位于反应容器1与电磁阀 8之间,流量调整器6与电磁阀8相连,电磁阀8与压力表5相连。
[0020]第一喷灯3、第二喷灯4的材质均为石英玻璃,反应容器1的材质可以为陶瓷或者石英玻璃。第一喷灯3、第二喷灯4与反应容器1之间的所有缝隙均填充有硅胶,采用的硅胶不含金属杂质,并且耐受温度为200°C以上。第一喷灯3的喷嘴部分位于反应容器1内部,其余部分位于反应容器1之外;第二喷灯4的喷嘴部分位于反应容器1内部,其余部分位于反应容器1之外。第一喷灯3的数量多1,第二喷灯4的数量多1。[〇〇21]配管7的内径范围为4?8毫米,反应容器1的内径小于200毫米时,配管7的内径为4 毫米;当反应容器1的内径大于200毫米时,配管7的内径为8毫米。[〇〇22]本实用新型的工作原理如下:[0023 ]通过焊接或填密的方式对VAD法中使用的反应容器1和喷灯(第一喷灯3、第二喷灯 4)的缝隙进行密闭,反应容器1内流通高纯度惰性气体。填密时使用的填密材料不含金属杂质,且具有耐热性(200°C以上)。高纯度惰性气体通过配管7进入反应容器1,经过玻璃微粒沉积体2、第一喷灯3、第二喷灯4,从反应容器1的上方进行排气。
[0024]用于通入高纯度惰性气体的配管7上安装有流量调整器6和电磁阀8。反应容器内的压力通过压力表5进行测量。压力表5和电磁阀8通过配线连接。压力在10Pa以下时,压力表5发出0N信号。电磁阀8接收0N信号后打开,在无0N信号的状态下关闭。电磁阀8打开时,通过流量调整器6对高纯度惰性气体的流量进行调整,使高纯度惰性气体的流量为5?20L/ min〇
[0025]本实用新型不仅局限于上述最佳实施方式,任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品,但不论在其形状或结构上作任何变化,凡是具有与本实用新型相同或相近似的技术方案,均在其保护范围之内。
【主权项】
1.一种用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,该装置包括顶部开口的反应容器 (1),其特征在于,该装置还包括压力表(5),压力表(5)与反应容器(1)相连,反应容器(1)内 部流通有纯度高于99%的高纯度惰性气体;反应容器(1)的一侧设置有用于制备包层的第 一喷灯(3)、用于制备芯层的第二喷灯(4),第二喷灯(4)位于第一喷灯(3)与反应容器(1)底 部所在平面之间;反应容器(1)底部连接有配管(7),配管(7)与反应容器(1)内部连通,配管 (7)设置有流量调整器(6)、电磁阀(8),流量调整器(6)位于反应容器(1)与电磁阀(8)之间, 流量调整器(6)与电磁阀(8)相连,电磁阀(8)与压力表(5)相连。2.如权利要求1所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所述 第一喷灯(3 )、第二喷灯(4)与反应容器(1)之间的所有缝隙均填充有硅胶。3.如权利要求1所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所述 压力表(5)为电子式压力表。4.如权利要求3所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所述 压力表(5)和电磁阀(8)通过配线连接。5.如权利要求1所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所述 第一喷灯(3)的喷嘴部分位于反应容器(1)内部,其余部分位于反应容器(1)之外。6.如权利要求1所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所述 第二喷灯(4)的喷嘴部分位于反应容器(1)内部,其余部分位于反应容器(1)之外。7.如权利要求1所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所述 第一喷灯(3)的数量彡1。8.如权利要求1所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所述 第二喷灯(4)的数量彡1。9.如权利要求1所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所述 配管(7)的内径为4?8毫米。10.如权利要求1所述的用于制备低损耗光纤预制棒的沉积反应装置,其特征在于:所 述反应容器(1)的材质为陶瓷或者石英玻璃。
【文档编号】C03B37/014GK205590553SQ201620405898
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年5月6日
【发明人】横田和宏, 李亚明, 徐辉桥
【申请人】藤仓烽火光电材料科技有限公司
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