一种导电玻璃的制作方法

文档序号:10946761阅读:584来源:国知局
一种导电玻璃的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种导电玻璃。该导电玻璃,包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一折射率渐变层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二折射率渐变层、第二低折射率层、AZO膜层;其中,第一折射率渐变层、第二折射率渐变层的材料都为SiOxNy,SiOxNy为SiO2和Si3N4的中间相。上述导电玻璃,由于设有第一高折射率层、第一折射率渐变层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二折射率渐变层和第二低折射率层代替传统的SiO2层,透过率高低结合的膜层结构不仅能实现消影的效果,同时能大大增加了AZO膜层的透过率。
【专利说明】
一种导电玻璃
技术领域
[0001] 本实用新型涉及玻璃制造领域,特别是涉及一种导电玻璃。
【背景技术】
[0002] AZ0玻璃,即掺杂铝的氧化锌透明导电玻璃,是TC0玻璃的一种,和IT0玻璃等TC0玻 璃一样也具有透明和导电的特点,可用于生产触摸屏器件。传统的AZ0导电玻璃,在与IT0具 有相同导电性的情况下,透过率较差,导电层刻蚀纹明显,导致显示效果欠佳。 【实用新型内容】
[0003] 基于此,有必要提供一种透过率较高的导电玻璃。
[0004] -种导电玻璃,包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一折射率渐变层、 第一低折射率层、第二高折射率层、第二折射率渐变层、第二低折射率层、AZ0膜层;
[0005] 其中,所述第一高折射率层的材料为Ti02、Zr02或Si3N 4;
[0006] 所述第一低折射率层的材料为Si02或MgF2;
[0007] 所述第二高折射率层的材料为Ti〇2、Zr〇2或Si3N4;
[0008] 所述第二低折射率层的材料为Si02或MgF2;
[0009] 所述第一折射率渐变层、所述第二折射率渐变层的材料都为SiOxNy,所述SiOxN y为 Si〇2和Si3N4的中间相。
[0010] 在其中一个实施例中,所述第一高折射率层的厚度为20人~200 A。
[0011]在其中一个实施例中,所述第二高折射率层的厚度为20人~200 A。
[0012]在其中一个实施例中,所述第一低折射率层的厚度力50A~400 A。
[0013]在其中一个实施例中,所述第二低折射率层的厚度力50/\~400 /\。
[0014]在其中一个实施例中,所述AZ0膜层的厚度为50 A~300 /\。
[0015] 上述导电玻璃,由于设有第一高折射率层、第一折射率渐变层、第一低折射率层、 第二高折射率层、第二折射率渐变层和第二低折射率层代替传统的Si〇2层,透过率高低结 合的膜层结构不仅能实现消影的效果,同时能大大增加了 AZ0膜层的透过率。
【附图说明】
[0016] 图1为本实施方式的导电玻璃的结构示意图;
[0017] 图中,1-玻璃基板、2-第一高折射率层、3-第一折射率渐变层、4-第一低折射率层、 5_第二高折射率层、6-第二折射率渐变层、7-第二低折射率层、8-AZ0膜层。
【具体实施方式】
[0018] 下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点 和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确 的界定。
[0019] 请参阅图1,一种导电玻璃,包括依次层叠的玻璃基板1、第一高折射率层2、第一折 射率渐变层3、第一低折射率层4、第二高折射率层5、第二折射率渐变层6、第二低折射率层 7、AZ0 膜层 8;
[0020] 玻璃基板1可以选择浮法玻璃或者其他本领域常规的玻璃。
[0021] 第一高折射率层2的材料为Ti02、Zr02或SisN^TiO〗的折射率为2.3,Zr0 2的折射率 为2.17,Si3N4的折射率为2.0。第一高折射率层的厚度为20A~200 A。
[0022]第一低折射率层4的材料为Si02或MgF2(3Si02的折射率为1.48,MgF 2的折射率为 1.38。第一低折射率层4的厚度为50A~400 A。
[0023] 第二高折射率层5的材料为Ti02、Zr02或Si3N4。第二高折射率层5的厚度为 20人~200 A〇
[0024] 第二低折射率层6的材料为Si02或MgF2。第二低折射率层6的厚度为5GA~40〇Jm [0025]第一折射率渐变层4、第二折射率渐变层7的材料都为Si0xNy,Si0xN y为Si02和Si3N4 的中间相,其光学和电学性能介于两者之间,因而可通过改变化学组成,可使其折射率变化 范围为1.47~2.3,因此可以将SiO xNy膜层加入到高折射率层与低折射率层之间,并且通过 连续控制工艺参数改变其化学成分,使其成为一层折射率渐变的膜层材料。
[0026] AZ0膜层8的厚度为50 A~300 A。
[0027] 上述导电玻璃,由于设有第一高折射率层、第一折射率渐变层、第一低折射率层、 第二高折射率层、第二折射率渐变层和第二低折射率层代替传统的Si0 2层,透过率高低结 合的膜层结构不仅能实现消影的效果,同时能大大增加了 AZ0膜层的透过率。
[0028] 以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细, 但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通 技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属 于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1. 一种导电玻璃,其特征在于,包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一折射 率渐变层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二折射率渐变层、第二低折射率层、AZO膜 层; 其中,所述第一高折射率层的材料为Ti02、ZrO2或Si3N 4; 所述第一低折射率层的材料为SiO2或MgF2; 所述第二高折射率层的材料为TiO2、ZrO2或Si3N4; 所述第二低折射率层的材料为SiO2或MgF2; 所述第一折射率渐变层、所述第二折射率渐变层的材料都为SiOxNy,所述SiOxN y为SiO2 和Si3N4的中间相。2. 根据权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述第一高折射率层的厚度为 20A~200 A。3. 根据权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述第二高折射率层的厚度为 2〇A~200 A.。4. 根据权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述第一低折射率层的厚度为 50A~400 A。5. 根据权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述第二低折射率层的厚度为 50A~400 A。6. 根据权利要求1所述的导电玻璃,其特征在于,所述AZO膜层的厚度为50 A~300 A。
【文档编号】C03C17/34GK205635373SQ201620241519
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年3月25日
【发明人】雷小东, 章英
【申请人】江苏浩邦知识产权服务有限公司镇江分公司
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