使用芳基肼合成氨基联苯类的方法
【专利摘要】本发明描述了一种合成2-氨基联苯类及其衍生物的方法。该方法可以成本有效地进行且基于选择性反应。官能化联苯化合物令人大为感兴趣，尤其是作为药物和农业化学品，以及作为该类活性成分的前体。生产式3化合物的方法的特征在于使式1化合物与式2化合物在氧化剂存在下反应。
【专利说明】使用芳基肼合成氨基联苯类的方法
[0001] 本发明涉及一种合成氨基联苯类及其衍生物的方法。该方法可以廉价实施且基于 选择性反应。官能化联苯化合物令人大为感兴趣，尤其是作为药物和作物保护剂，以及作为 该类活性成分的前体。
[0002] 宽范围的有机金属方法目前可以用于温和和有效合成联芳基化合物 [L.Ackermann,Modernarylationmethods,第 1 版，Wiley-VCH,Weinheim,2009]〇
[0003] 然而，已知有机金属方法也具有缺点。其吸引力例如因原料的高成本，尤其是在钯 催化反应的情况下，或正如在镍的情况下不足的环境相容性而降低。使用钴化合物和铁化 合物的催化方法迄今为止仅可有限使用。
[0004] 当经由在该芳族体系上的CH键活化进行联芳基偶联时可以使用更简单的原料 [G.Dyker，HandbookofC_HTransformations，Wiley_VCH，Weinheim，2005]。尽管在该研 究领域中存在许多现有研究，但可使用的底物范围迄今为止仍然非常有限。
[0005] 与基本在过去的二十年里开发的许多有机金属转化相比，芳基自由基在芳族底物 上的加成反应当前仅很少使用。
[0006] 自从Pschorr，Gomberg和Bachmann在自由基联芳基合成领域进行了开拓性研究 以来已经过去很长时间了，在这些研究中通常将芳基重氮盐用作自由基前体[M.Gomberg，ff.E.Bachmann,J.Am.Chem.Soc. 1924, 46,2339-2343,R.Pschorr,Chem.Ber. 1896,29, 496-501]。然而，该分子间反应方案的主要缺点是芳基自由基在常用底物如取代苯上 的加成通常仅缓慢进行，结果是促进了副反应[J.C.Scaiano,L.C.Stewart,J.Am.Chem.Soc. 1983,105, 3609-3614]。因此，自由基联芳基合成的成功通常与特定条件相关联，其 中将底物用作溶剂[A.Nunez，A.Sanchez，C.Burgos，J.Alvarez-Builla，Tetrahedron2004,60,6217-6224,P.T.F.McLoughlin,M.A.Clyne,F.Aldabbagh,Tetrahedron2004, 60,8065-8071]或分子内进行反应[M.L.Bennasar，T.Roca，F.Ferrando，Tetrahedron Lett. 2004,45, 5605-5609]。常规Gomberg-Bachmann反应的改进也已通过在相转移条件下 的反应方案实现[J.R.Beadle，S.H.Korzeniowski，D.E.Rosenberg，B.J.Garcia-Slanga， G.ff.Gokel,J.Org.Chem. 1984,49,1594-1603]〇
[0007] 由最近公布的有关自由基联芳基合成的综述文章清楚常规芳基重氮盐[C.Galli，Chem.ReV. 1988,88,765-792]在当前的研究中不断被作为自由基前体的芳基氯化物、溴 化物和碘化物替代[A.Studer，M.BrossartinRadicalsinOrganicSynthesis，编 辑P.Renaud，M.P.Sibi，第 1 版，Wiley-VCH，Weinheim，2001，第 2 卷，62-80 ;G.Pratsch，M.R.Heinrich,TopicsinCurrentChemistry, 第 320 卷， 编辑M.R.Heinrich, A.GansSuer】。然而，为了由芳基卤产生芳基自由基，通常需要使用有毒的有机锡化合物 或昂贵的有机硅化合物。作为该目的的替换方案，最近也就芳基溴化物和碘化物而言描述 了有机催化联芳基合成[A.Studer，D.Curran，Angew.Chem.Int.Ed. 2011，50, 5018-5022]。
[0008] 迄今为止，将芳基肼用作芳基自由基的前体已经很不寻常。与上述使用芳基重氮 盐、芳基溴化物和芳基碘化物的反应相反，这里在氧化条件下产生芳基自由基。除了乙酸锰 (Ill) [A.S.Demir,Reis,E.Ozgiil-Karaaslail,J.Chem.Soc.PerkinTrans. 12001, 3042]外，迄今为止已经将高锰酸钾描述为联芳基合成中的氧化剂[A.S.Demir，H.Findik，Tetrahedron2008,64,6196]〇
[0009] 然而，在这些研究中，用于芳基肼的共反应物或由其形成的芳基自由基仅为 苯、溴苯、甲苯和简单杂环如噻吩和呋喃[A.S.Demir，Reis，M.Emrullahoglu Tetrahedron2002>58,8055]〇
[0010] 然而，就自由基芳基化反应而言，苯胺类尤其构成重要的一组底物，因为2-氨基 联苯类可以由其制备。以此方式官能化的联苯化合物尤其作为药物和作物保护剂以及作为 该类活性成分的前体令人很感兴趣。
[0011] 本发明的目的是要提供一种制备2-氨基联苯类和衍生物的方法，该方法优选基 于苯胺化合物的自由基芳基化。由于成本的原因，所用芳基自由基前体应是易得的芳基肼 类与廉价的氧化剂。
[0012] 该目的由一种下面详细描述的制备2-氨基联苯类的方法实现。
[0013] 本发明的实施方案是：
[0014]一种通过使式1化合物与式2化合物反应而制备式3化合物的方法：
[0015]
[0016] 其中
【权利要求】
1. 一种通过使式1化合物与式2化合物反应而制备式3化合物的方法： 其中
m为 0、1、2、3、4 或 5 ; R1各自独立地为齒素、烧基、齒代烧基、轻基、轻基烧基、烧氧基、齒代烧氧基、烧硫基、 环烷基、卤代烷硫基、链烯基、炔基、氨基、硝基、氰基、-so3r5、-so2nh2、-so2nhr4、-so2nr4r5、-C OOR4、-CONHR4、-CONR4R5、-COR4、-OCOR4、-NR4R5、-NR4COR5、-NR4S02R5、烷基羰基、卤代烷基羰基、 链稀基撰基、烧氧撰基、齒代烧氧撰基、链稀氧撰基、烧基横醜基、齒代烧基横醜基、烧基亚 氨基、芳基、芳氧基、芳基羰基、芳烷基、杂芳烷基、芳烷氧羰基、芳烷基亚氨基或杂芳基； R2和R3各自独立地为氢、烷基、羟基烷基、氨基烷基、环烷基、卤代烷基、_(CH2)n-0R4、-(CH2)n-NR4R5、_(CH2)n_NR4C0R5、-(CH2)n-NR4C00R5、-(CH2)n-C00R4、_(CH2)n-C0NHR4、- (CH2)n-C0NR4R5、- (CH2)n-S03R4、- (CH2)n-CN、-C00R4、-COR4、烷基磺酰基、卤代烷基 磺酰基、齒代烷基羰基、齒代烷氧羰基、芳烷基、杂芳烷基、芳基或杂芳基， 或者一个R2和一个R3 -起形成烷叉基， 或者一个R2和一个R3-起形成包含4、5、6或7个选自0、S、N和碳原子的环原子，优 选包含碳原子的非芳族环体系， 或者一个R2和一个R1(l -起形成包含4、5、6或7个选自0、S、N和碳原子的环原子，优 选包含碳原子的非芳族环体系， 或者一个R3和一个R1(l -起形成包含4、5、6或7个选自0、S、N和碳原子的环原子，优 选包含碳原子的非芳族环体系； n在每次出现时独立地为1、2、3、4、5、6、7、8、9或10 ; R4在每次出现时独立地为氢、烷基、环烷基、卤代烷基、芳烷基、杂芳烷基、芳基或杂芳 基； R5在每次出现时独立地为氢、烷基、环烷基、卤代烷基、芳烷基、杂芳烷基、芳基或杂芳 基； R6在每次出现时独立地为氧、齒素、烧基、链稀基、块基、环烧基、芳烧基、杂芳烧 基、卤代烷基、羟基烷基、烷氧基烷基、芳氧基烷基、杂芳氧基烷基、氨基烷基、_(CH2)n-NR4R5、-C00H、-CH0、-CN、-COR4、烷基羰基、卤代烷基羰基、环烷基羰基、芳烷基羰基、链烯 基撰基、芳基撰基、杂芳基撰基、-C00R4、烧氧撰基、齒代烧氧撰基、环烧氧撰基、芳烧氧撰 基、链烯氧羰基、芳氧羰基、杂芳氧羰基、-CONHR4、-C0NR4R5、氨基、硝基、-NHR4、-NR4R5、1-吡 咯烷基、1-哌啶子基、1-吗啉代、烷基亚氨基、环烷基亚氨基、卤代烷基亚氨基、芳烷基亚氨 基、-NR4C0R5、NR4C00R5、-NR4S02R5、羟基、烷氧基、卤代烷氧基、环烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、 杂芳氧基、_0C0R4、烧基撰氧基、齒代烧基撰氧基、环烧基撰氧基、芳烧基撰氧基、芳基撰氧 基、杂芳基羰氧基、-0C0NR4R5、-0- (CH2)n-0R4、-0- (CH2)n-NR4R5、-0- (CH2)n-NR4C0R5、-0- (CH2) n-NR4COOR5、-0-(CH2)n-C00R4、-0-(CH2)n-C0NHR4、-0-(CH2)n-C0NR4R5、-〇-(CH2)n-S03R4、-0- (CH2)n-S02R4、-0- (CH2)n-CN、-SH、烷硫基、卤代烷硫基、环烷硫基、芳烷硫基、芳硫 基、杂芳硫基、烷基磺酰基、齒代烷基磺酰基、环烷基磺酰基、芳烷基磺酰基、芳基磺酰基、杂 芳基磺酰基、-so2nh2、-so2nhr4、-so2nr4r5、-so3r5、芳基或杂芳基； R1CI在每次出现时独立地为氧、齒素、烧基、齒代烧基、轻基烧基、环烧基、芳烧基、杂芳烧 基、-(CH2)q-NR4R5、- (CH2)q-NR4C0R5、- (CH2)q-NR4C00R5、- (CH2)q-C00R4、- (CH2)q-C0NHR4、- (CH2) 「C0NR4R5、- (CH丄-S03R4、- (CH2CN、芳基或杂芳基；q在每次出现时独立地为1、2、3、4或5 ; 该方法包括在至少一种氧化剂存在下进行所述反应。
2. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述反应在至少一种溶剂存在下进行。
3. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述反应在至少一种溶剂和至少一种氧化 剂存在下进行。
4. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述反应在至少一种碱、至少一种溶剂和 至少一种氧化剂存在下进行。
5. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述氧化剂为氧气或大气氧。
6. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述氧化剂为Mn02、Mn(0Ac)3,KMn04，NaI04,K3[Fe(CN)6]，K02 或H202。
7. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中R1为齒素、Q-C；烷基或(^-(；烷氧基。
8. 根据权利要求7的方法，其中R1为氟、氯、溴、甲基或甲氧基，优选氟、氯、溴或甲氧 基。
9. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中R2和R3各自为氢。
10. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中R1CI为氢。
11. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中R6为氢、卤素、CN、CfC4烷基或(^-(；烷氧 基。
12. 根据权利要求11的方法，其中R6为氢、氟、氯、溴、CN、甲基、甲氧基或乙氧基，优选 氢、氟、氯、溴、CN、甲氧基或乙氧基。
13. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中m为0、1、2或3。
14. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中R1为氟、氯、溴或甲氧基，R2、R3和R1(l各自 为氢原子，R6为氢、氟、氯、溴、CN、甲氧基或乙氧基且m为0、1、2或3。
15. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述反应在_20°C至100°C，尤其是-10°C至70°C的温度下进行。
16. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述反应在电化学氧化下进行。
17. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述反应在辐射或超声下进行。
18. 根据前述权利要求中任一项的方法，其中所述反应在至少一种氧化剂存在下在保 护性气体下进行。
【文档编号】C07C217/80GK104220417SQ201380013286
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2013年3月7日 优先权日:2012年3月7日
【发明者】M·海因里希, H·嘉施, S·霍夫灵 申请人:巴斯夫欧洲公司