包含有机聚硅氧烷调理聚合物的消费产品组合物的制作方法

包含有机聚硅氧烷调理聚合物的消费产品组合物的制作方法
【专利摘要】本发明公开了包含有机聚硅氧烷调理聚合物的消费产品组合物。本发明还公开了用于制备此类组合物的方法和使用此类组合物以提供调理有益效果的方法。
【专利说明】包含有机聚硅氧烷调理聚合物的消费产品组合物

【技术领域】
[0001] 本专利申请涉及消费产品组合物，所述消费产品组合物包含有机聚硅氧烷调理聚 合物。其还涉及用于制备此类组合物的方法以及使用此类组合物将调理有益效果递送到基 底上的方法。

【背景技术】
[0002] 在许多常见的消费者产品组合物中包括旨在沉积到带负电表面诸如织物、皮肤或 毛发上的调理聚合物。此类产品可提供消费者期望的有益效果诸如柔软性、润滑性、手感、 抗起皱、毛发调理、卷曲控制、皮肤保湿和颜色保护。困难常常在这些表面上实现有效的调 理剂沉积时产生，尤其是在以洗去型组合物诸如洗发剂、沐浴乳、洗涤剂和织物柔软剂，以 及其它表面清洁和表面处理产品的形式递送调理剂时。
[0003] 已提出各种季铵化氨基有机硅聚合物用作调理聚合物。任何特定调理聚合物的效 果不仅取决于调理聚合物本身的化学和物理特性，而且取决于目标表面，以及可包含于所 述组合物中的多种其它材料的那些化学和物理特性。因此，在一组条件下递送示例性性能 的调理聚合物在另一组条件下可能提供很少或不提供优点。为确保期望的性能，调理聚合 物应具有与特定目标表面和消费产品制剂的那些特性互补的特性。
[0004] 改变结构参数，诸如分子量、阳离子电荷、疏水性取代、和/或亲水性取代如乙氧 基化度，可显著影响阳离子调理聚合物的性能。调整这些参数提供一种对基底上的这些聚 合物的性能方面进行改性并控制的方式。另外，为了获得最佳调理有益效果，有机硅聚合物 必须被官能化有利地以与其将施用的特定基底相互作用。此外，有机硅聚合物必须能够被 配制成提供期望的架藏稳定性等级的稳定组合物。
[0005] 季铵化的氨基有机硅聚合物必须被配置成消费者可接受的产品。诸如在织物护 理、美容护理、宠物护理和家庭护理领域中的那些的消费产品是最典型的水基产品。例如， 通过在聚合物本身中结合亲水部分诸如乙氧基化物、丙氧基化物和更一般地烷氧基化物部 分，可制造含水产品制剂。另选地，疏水聚合物可乳化成水基产品。
[0006] 遗憾的是，将有益剂结合入水基产品中，尤其是疏水和/或表面活性剂可溶和/或 亲水改性的有益剂，常常导致有益剂优先从预期的沉积位点被冲洗掉，而不是被沉积。疏水 性有益剂的损失在稀体系中可能是尤其明显的。
[0007] 不受理论的约束，疏水性有益剂的损失可能是阳离子电荷沿有益剂聚合物的长度 过于无规分布所引起。在许多情况下，电荷过于高度分散而不能充分有利于表面沉积。
[0008] 在清洁组合物（例如洗发剂）的情况下，所述清洁组合物（例如，洗发剂、条皂和 皮肤清洁组合物）中大量包含阴离子表面活性剂，在配制季铵化氨基有机硅聚合物时产生 其它问题。阴离子或非离子活性物质从包含阴离子表面活性剂的组合物中沉积到阴离子表 面可能尤其是有问题的。已经提出了包含阳离子聚合物的各种组合物（例如，季铵化胺） 作为此类组合物中的调理聚合物，然而，作为商业产品它们可能不完全令人满意。
[0009] 不受理论的约束，阴离子表面活性剂可通过在活性物质能够沉积在目标表面上之 前，在所有表面上吸收以及与阳离子调理聚合物形成复合物/沉淀而妨碍活性物质包括阳 离子活性物质的沉积。即使沉积进行，所述制剂也可能由于絮凝和沉淀而表现出较差的稳 定性。然而，阴离子表面活性剂的浓度越高，则其获得活性物质沉积越困难。连同其它缺点， 这导致材料的非经济有效使用和浪费。
[0010] 多种阳离子调理聚合物材料存在于本领域中，但不完全令人满意。仍然需要提供 有机硅聚合物，所述有机硅聚合物适用于宽泛的消费产品应用范围。 申请人:未知悉满足所 有期望的通用性、架藏稳定性以及消费产品环境下所期望的性能标准的任何现有有机硅聚 合物。
[0011] 例如，由〇no(w〇 99/32539)描述的季铵化的氨基有机硅聚合物材料包含端基，所 述端基具有杂原子诸如氧、氮或硫或卤素。这些官能化端基可导致给包含这些材料的组合 物带来稳定性问题的不可取的反应。例如，〇no的有机硅可进一步通过这些端基反应，从而 导致储存期间组合物中的有机硅进一步缩合/聚合。
[0012] 本领域中还已知的是包含亚烷基氧单元的季铵化有机硅，诸如授予Masschelein 的美国专利6, 903, 061。由Masschelein所描述的季铵化有机硅趋于过于水溶性，因此具有 减小的作为调理聚合物的能力，因为这些材料趋于以高于所期望的含量溶于水中。另外，这 些材料由于其对水和水蒸气的高度渗透性而具有不可取的感觉。另外，因为它们的水中溶 解度，这些材料可能难以可再现地配制。另外，Masschelein公开了每侧分子仅具有一个季 铵化氮基团的材料。这可限制有机硅材料中期望的官能度。可能期望具有一种材料，所述 材料经由季铵化水平而提供更大的柔韧性。相似地，由Boutique在美国专利6, 833, 344中 公开的乙氧基化的季铵化有机硅材料，遭受许多与由Masschelein所描述的那些材料相同 的不足。
[0013] 遗憾的是，此类护理剂与多种其它消费产品成分不相容，在长期储存期间不稳定， 和/或不够充分沉积到目标表面上，因此迫使所述护理剂的含量以高于在其更有效地沉积 时可能需要的含量。
[0014] 因此，本发明的目的是提供包含调理聚合物的消费产品组合物，所述消费产品组 合物能够将调理有益效果有效沉积并提供到基底上，同时避免上述缺点。


【发明内容】

[0015] 在一个方面，本发明试图通过提供包含本发明有机聚硅氧烷调理聚合物的消费产 品组合物来解决前述需要中的一个或多个。本发明还涉及制备此类组合物的方法和使用此 类组合物以向用其处理的基底提供调理有益效果的方法。
[0016] 在一个方面，本发明提供清洁或表面处理消费产品组合物，所述组合物包含具有 下式的助剂和嵌段阳离子有机聚硅氧烷： _7]MwDxTyQz
[0018] 其中：
[0019]M= [SiR^RA/J、[SiR^GA/2]、[SiRAGA/d、[SiGAGA/J、或它们的组合；
[0020]D=政1^202/2]、[SiRAOd、[SiGAOd或它们的组合；
[0021] T= [SiRA/2]、[SiGA/2]或它们的组合；
[0022] Q= [Si04/2]；
[0023] w=为 1 至（2+y+2z)的整数；
[0024] x=为 5 至 15, 000 的整数；
[0025] y=为0至98的整数；
[0026] z=为0至98的整数；
[0027] &、馬和R3各自独立地选自H、OH、C「C32烷基、C「C32取代的烷基、C5_(：32或C6_C32 芳基、(：5-(：32或c6-c32取代的芳基、c6-c32烧基芳基、c6-c32取代的烷基芳基、C「(：32烷氧基、 Q-c%取代的烷氧基、ci-c32烷氨基和C^(^取代的烷氨基；
[0028] ]?、0、或1'中的至少一个结合至少一个部分61、62或6 3;并且
[0029] G!、G2、和G3各自独立地选自下式：

【权利要求】
1. 一种消费产品组合物，包含助剂和有机聚硅氧烷调理剂，所述有机聚硅氧烷调理剂 具有下式： MwDxTyQz 其中： M= [SiR1R2R3Ol72] > [SiR1R2G1Ol72], [SiR1G1G2Ol72], [SiG1G2G3Ol72] > 或它们的组合； D= [SiR1R2O2Z2K[SiR1G1O2Z2K[SiG1G2Oy2]或它们的组合； T= [SiR1Ov2]、[SiG1Ov2]或它们的组合； Q= [SiO472]； w=为1至（2+y+2z)的整数； X=为5至15, 000的整数；y=为0至98的整数； z=为0至98的整数； ^、馬和R3各自独立地选自H、0H、C「C32烧基、C「C32取代的烷基、C5-(：32或C6-C32芳基、C5-C3^C6-C32取代的芳基、C6-C32烷基芳基、C6-C32取代的烷基芳基、C「(：32烷氧基、C「C32 取代的烷氧基、C1-C32烷基氨基和C^C32取代的烷基氨基； M、D、或T中的至少一个结合至少一个部分Gp62或G3;并且GpG2、和G3各自独立地选自下式：
其中： X包含二价基团，所述二价基团选自C1-C32亚烷基、C^C32取代的亚烷基、C5-(：32或C6-C32 亚芳基、C5-C3^C6-C32取代的亚芳基、C6-C32芳基亚烷基、C6-C32取代的芳基亚烷基、C「C32 烷氧基、C1-C32取代的烷氧基、C「C32亚烷基氨基、C「C32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物 和开环缩水甘油基，前提条件是如果X不包含重复的亚烷基氧部分，则X还可包含选自P、N 和0的杂原子； N=氮原子； 每个R4包含相同或不同的一价基团，所述一价基团独立地选自H、C^C32烷基、C^(^取 代的烷基、C5-C32*C6-C32芳基、C5-(：32或C6-C32取代的芳基、C6-C32烷基芳基和C6-C32取代 的烧基芳基； E包含二价基团，所述二价基团选自C1-C32亚烷基、C^C32取代的亚烷基、C5-(：32或C6-C32 亚芳基、C5-C3^C6-c32取代的亚芳基、C6-c32芳基亚烷基、C6-c32取代的芳基亚烷基、C「c32 烷氧基、C1-C32取代的烷氧基、C「C32亚烷基氨基、C「c32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物 和开环缩水甘油基，前提条件是如果E不包含重复的亚烷基氧部分，则E还可包含选自P、N 和0的杂原子； E,包含二价基团，所述二价基团选自C1-C32亚烷基、C^C32取代的亚烷基、C5-(：32或C6-C32 亚芳基、C5-C3^C6-c32取代的亚芳基、C6-c32芳基亚烷基、C6-c32取代的芳基亚烷基、C「c32 烷氧基、C1-C32取代的烷氧基、Ci-c32亚烷基氨基、Ci-c32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物和 开环缩水甘油基，前提条件是如果E'不包含重复的亚烷基氧部分，则E'还可包含选自P、N和O的杂原子； P为独立地选自1至50的整数；n为独立地选自1或2的整数； 其中GpG2、或63中的至少一个带正电，A4为一种或多种适宜的电荷平衡阴离子，使得 一种或多种电荷平衡阴离子的总电荷k等于部分Gp62或G3上的净电荷并与其相反；其中 t为独立地选自1、2或3的整数；并且k< (p*2/t)+l;使得所述有机聚硅氧烷分子中阳离 子电荷总数与阴离子电荷总数平衡； 并且其中至少一个E不包含亚乙基部分。
2. 根据权利要求1所述的组合物，其中每个E包含二价基团，所述二价基团选自C3-C32 亚烧基、C3-C32取代的亚烧基、C5_C32或C6_C32亚芳基、C5_C32或C6_C32取代的亚芳基、C6_C32 芳基亚烷基、C6-C32取代的芳基亚烷基、C3-c32烷氧基、C3-c32取代的烷氧基、C3-(：32亚烷基氨 基、C3-C32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物和开环缩水甘油基，前提条件是如果E不包含 重复的亚烷基氧部分，则E还可包含选自P、N和O的杂原子；并且其中 E'包含二价基团，所述二价基团选自C3-C32亚烷基、C3-C32取代的亚烷基、C5-(：32或C6-C32 亚芳基、C5-C3^C6-c32取代的亚芳基、C6-c32芳基亚烷基、C6-c32取代的芳基亚烷基、C3-c32 烷氧基、C3-C32取代的烷氧基、C3-c32亚烷基氨基、C3-c32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物和 开环缩水甘油基，前提条件是如果E'不包含重复的亚烷基氧部分，则E'还可包含选自P、N 和O的杂原子。
3. -种消费产品组合物，包含助剂和有机聚硅氧烷调理剂，所述有机聚硅氧烷调理剂 具有下式： MwDx 其中： M= [SiR1R2R3Ol72] > [SiR1R2G1Ol72], [SiR1G1G2Ol72], [SiG1G2G3Ol72] > 或它们的组合； D= [SiR1R2O272]；w=为1至2的整数； X=为5至15, 000的整数； ^、馬和R3各自独立地选自H、0H、C「C32烧基、C「C32取代的烷基、C5-(：32或C6-C32芳基、C5-C3^C6-C32取代的芳基、C6-C32烷基芳基、C6-C32取代的烷基芳基、C「(：32烷氧基、C「C32 取代的烷氧基、C1-C32烷基氨基和C^C32取代的烷基氨基； M或D中的至少一个结合至少一个部分Gp62或G3，并且GpG2、和G3各自独立地选自下式：
其中： X包含二价基团，所述二价基团选自C1-C32亚烷基、C^C32取代的亚烷基、C5-(：32或C6-C32 亚芳基、C5-C3^C6-C32取代的亚芳基、C6-C32芳基亚烷基、C6-C32取代的芳基亚烷基、C「C32 烷氧基、C1-C32取代的烷氧基、C「C32亚烷基氨基、C「c32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物 和开环缩水甘油基，前提条件是如果X不包含重复的亚烷基氧部分，则X还可包含选自P、N 和O的杂原子； N=氮原子； 每个R4包含相同或不同的一价基团，所述一价基团独立地选自H、C^C32烷基、C^(^取 代的烷基、C5-C32*C6-C32芳基、C5-(：32或C6-C32取代的芳基、C6-C32烷基芳基和C6-C32取代 的烧基芳基； E包含二价基团，所述二价基团选自C1-C32亚烷基、C^C32取代的亚烷基、C5-(：32或C6-C32 亚芳基、C5-C3^C6-c32取代的亚芳基、C6-c32芳基亚烷基、C6-c32取代的芳基亚烷基、C「c32 烷氧基、C1-C32取代的烷氧基、C「C32亚烷基氨基、C「c32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物 和开环缩水甘油基，前提条件是如果E不包含重复的亚烷基氧部分，则E还可包含选自P、N 和O的杂原子； E'包含二价基团，所述二价基团选自C1-C32亚烷基、C^C32取代的亚烷基、C5-(：32或C6-C32 亚芳基、C5-C3^C6-c32取代的亚芳基、C6-c32芳基亚烷基、C6-c32取代的芳基亚烷基、C「c32 烷氧基、C1-C32取代的烷氧基、Ci-c32亚烷基氨基、Ci-c32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物和 开环缩水甘油基，前提条件是如果E'不包含重复的亚烷基氧部分，则E'还可包含选自P、N 和O的杂原子； P为独立地选自1至50的整数； n为独立地选自1或2的整数；并且 其中GpG2、或63中的至少一个带正电，A4为一种或多种适宜的电荷平衡阴离子，使得 一种或多种电荷平衡阴离子的总电荷k等于部分Gp62或G3上的净电荷并与其相反；其中 t为独立地选自1、2或3的整数；并且k< (p*2/t)+l;使得所述有机聚硅氧烷分子中阳离 子电荷总数与阴离子电荷总数平衡； 并且其中至少一个E不包含亚乙基部分。
4. 根据权利要求3所述的组合物，其中每个E包含二价基团，所述二价基团选自C3-C32 亚烧基、C3-C32取代的亚烧基、C5_C32或C6_C32亚芳基、C5_C32或C6_C32取代的亚芳基、C6_C32 芳基亚烷基、C6-C32取代的芳基亚烷基、C3-c32烷氧基、C3-c32取代的烷氧基、C3-(：32亚烷基氨 基、C3-C32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物和开环缩水甘油基，前提条件是如果E不包含 重复的亚烷基氧部分，则E还可包含选自P、N和O的杂原子；并且其中 E'包含二价基团，所述二价基团选自C3-C32亚烷基、C3-C32取代的亚烷基、C5-(：32或C6-C32 亚芳基、C5-C3^C6-c32取代的亚芳基、C6-c32芳基亚烷基、C6-c32取代的芳基亚烷基、C3-c32 烷氧基、C3-C32取代的烷氧基、C3-c32亚烷基氨基、C3-c32取代的亚烷基氨基、开环环氧化物和 开环缩水甘油基，前提条件是如果E'不包含重复的亚烷基氧部分，则E'还可包含选自P、N 和O的杂原子。
5. 根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中至少一个E或E'独立地选自：
其中： 每个R6包含二价基团，所述二价基团独立地选自C1-C32亚烷基、C「(^取代的亚烷基、C5-C3^C6-c32亚芳基、C5-(：32或C6-(：32取代的亚芳基、C6-c32芳基亚烷基、C6-c32取代的芳基 亚烷基、C1-C32烷氧基、C^C32取代的烷氧基、C^C32亚烷基氨基、C^c32取代的亚烷基氨基、 开环环氧化物和开环缩水甘油基，前提条件是如果R6不包含重复的亚烷基氧部分，则R6还 可包含选自P、N和O的杂原子； 每个R9包含相同或不同的一价基团，所述一价基团独立地选自H、C^C32烷基、C^(^取 代的烷基、C5-C32*C6-C32芳基、C5-(：32或C6-C32取代的芳基、C6-C32烷基芳基和C6-C32取代 的烷基芳基；并且u为独立地选自3至32的整数。
6. 根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述助剂选自：漂白剂、漂白活化 齐IJ、表面活性剂、助洗剂、螯合剂、染料转移抑制剂、分散剂、酶、酶稳定剂、催化金属配合物、 聚合物、聚合分散剂、粘土和污垢移除/抗再沉积剂、增白剂、荧光增白剂、抑泡剂、染料、香 料、香料递送体系、结构增弹剂、织物软化剂、载体、助水溶物、溶剂、加工助剂、调理剂、香料 微胶囊、润肤剂、脂肪醇、递送增强剂、颜料、高熔点脂肪族化合物、阳离子聚合物、去头皮屑 活性物质、湿润剂、皮肤护理活性物质、有机硅、有机硅树脂、有机硅蜡，包含烃蜡、烃液体、 糖聚酯、糖聚醚的材料，烃蜡、聚烯烃蜡、聚乙烯和聚丙烯蜡、改性聚乙烯和聚丙烯蜡、聚异 丁烯、取代的聚异丁烯、异丁烯、精油、脂质、皮肤冷却剂、维生素、防晒剂、抗氧化剂、甘油、 催化剂、二氧化硅颗粒、恶臭减轻剂、气味控制材料、抗静电剂、软化剂、昆虫和蛾驱避剂、着 色剂、抗氧化剂、增稠剂、褶皱和形状控制剂、平滑剂、皱纹控制剂、卫生处理剂、抗菌消毒 剂、微生物控制剂、霉菌和霉垢控制剂、抗病毒剂、干燥剂、耐污染剂、去污剂、织物清新剂和 保鲜剂、染料固色剂、染料转移抑制剂、颜色维持剂、光学增白剂、颜色复原/再生剂、抗褪 色齐IJ、白度提高剂、织物完整剂、抗磨剂、抗起球剂、消泡剂、抗泡剂、紫外线防护剂、光褪色 抑制剂、抗过敏剂、酶、耐水剂、织物舒适剂、耐收缩剂、耐拉伸剂、拉伸恢复剂、天然剂、止汗 剂活性物质、染料、润肤剂、脂肪醇、凝胶网络、以及它们的混合物。
7. 根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述助剂包含选自以下的材料：有 机硅、有机硅树脂、有机硅蜡、或它们的组合。
8. 根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述助剂包含选自以下的材料：阴 离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、两性表面 活性剂、以及它们的组合。
9. 根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述组合物为织物护理组合物。
10. 根据权利要求1-8中任一项所述的组合物，其中所述组合物为个人护理组合物。
11. 根据权利要求1-8中任一项所述的组合物，其中所述组合物为洗去型组合物。
12. 根据权利要求1-8中任一项所述的组合物，其中所述组合物为硬质表面处理组合 物。
13. 根据权利要求9所述的组合物，其中所述织物护理组合物包含选自以下的助剂： a. 阴离子表面活性剂，其选自C11-C18烷基苯磺酸盐表面活性剂；Cltl-C2tl烷基硫酸盐表 面活性剂；(：1(|-(： 18烷基烷氧基硫酸盐表面活性剂，所述C1(I-C18烷基烷氧基硫酸盐表面活性 剂具有1至30的平均烷氧基化度并且所述烷氧基包含(^-(；链、烷基、烷基醚硫酸盐、琥珀 酸盐、烯烃磺酸盐、3 -烷氧基烷烃磺酸盐以及它们的混合物， b. 阳离子表面活性剂，其选自单长烷基季铵盐阳离子表面活性剂、单烷基胺、二烷基链 阳离子表面活性剂、以及它们的混合物， c. 调理活性物质，其选自：有机硅（例如有机硅油、阳离子有机硅、硅橡胶纯胶料、高折 射性有机硅和有机硅树脂）、有机调理油（例如烃油、聚烯烃和脂肪酸酯）或它们的组合，或 换句话讲在本文含水表面活性剂基质中形成液体分散颗粒的那些调理剂，以及 d.它们的混合物。
14. 根据权利要求9所述的组合物，其中所述组合物为衣物洗涤剂。
15. 根据权利要求13或14中任一项所述的组合物，其中所述阴离子表面活性剂与阳离 子表面活性剂和非离子表面活性剂的总和的比率为10:1至1:10、或6:1至1:9、或5:1至 1:8。
16. 根据权利要求9所述的组合物，其中所述组合物为织物软化剂。
17. 根据权利要求14或16中任一项所述的组合物，其中所述助剂还包含递送增强剂。
18. 根据权利要求9所述的组合物，其中每个p为选自约1至约40的整数。
19. 根据权利要求18所述的组合物，其中所述有机聚硅氧烷的分子量为约10, 000道尔 顿至约1，〇〇〇, 〇〇〇道尔顿、约20, 000道尔顿至约500, 000道尔顿、或约25, 000道尔顿至约 50, 000道尔顿。
20. 根据权利要求19所述的组合物，其中所述助剂还包含稳定剂。
21. 根据权利要求1至5中任一项所述的组合物，其中所述组合物为个人护理组合物。
22. 根据权利要求21所述的组合物，其中所述助剂选自：漂白剂、表面活性剂、螯合剂、 分散剂、酶、酶稳定剂、催化金属配合物、聚合物、聚合分散剂、染料、香料、香料递送体系、结 构增弹剂、载体、助水溶物、溶剂、加工助剂、调理剂、香料微胶囊、润肤剂、脂肪醇、递送增强 齐IJ、颜料、高熔点脂肪族化合物、阳离子聚合物、去头皮屑活性物质、湿润剂、皮肤护理活性 物质、有机硅、有机硅树脂、有机硅蜡，包含烃蜡、烃液体、糖聚酯、糖聚醚的材料，烃蜡、聚烯 烃蜡、聚乙烯和聚丙烯蜡、改性聚乙烯和聚丙烯蜡、聚异丁烯、取代的聚异丁烯、精油、脂质、 皮肤冷却剂、维生素、防晒剂、抗氧化剂、甘油、催化剂、二氧化硅颗粒、恶臭减轻剂、气味控 制材料、抗静电剂、软化剂、昆虫和蛾驱避剂、着色剂、抗氧化剂、增稠剂、平滑剂、皱纹控制 齐IJ、卫生处理剂、抗菌消毒剂、微生物控制剂、霉菌和霉垢控制剂、抗病毒剂、干燥剂、耐污染 齐IJ、去污剂、保鲜剂、染料固色剂、颜色维持剂、颜色复原/再生剂、抗褪色剂、消泡剂、抗泡 齐U、紫外线防护剂、光褪色抑制剂、抗过敏剂、耐水剂、天然剂、止汗剂活性物质、染料、润肤 齐U、脂肪醇、凝胶网络、以及它们的混合物。
23. 根据权利要求22所述的组合物，其中所述个人护理组合物包含助剂，所述助剂选 自： a. 阴离子表面活性剂，其选自C11-C18烷基苯磺酸盐表面活性剂；Cltl-C2tl烷基硫酸盐表 面活性剂；(：1(|-(： 18烷基烷氧基硫酸盐表面活性剂，所述C1(I-C18烷基烷氧基硫酸盐表面活性 剂具有1至30的平均烷氧基化度并且所述烷氧基包含(^-(；链、烷基、烷基醚硫酸盐、琥珀 酸盐、烯烃磺酸盐、3 -烷氧基烷烃磺酸盐、以及它们的混合物， b. 阳离子表面活性剂，其选自单长烷基季铵盐阳离子表面活性剂、单烷基胺、二烷基链 阳离子表面活性剂、以及它们的混合物， c. 调理活性物质，其选自：有机硅（例如有机硅油、阳离子有机硅、硅橡胶纯胶料、高折 射性有机硅和有机硅树脂）、有机调理油（例如烃油、聚烯烃和脂肪酸酯）或它们的组合，或 换句话讲在本文含水表面活性剂基质中形成液体分散颗粒的那些调理剂，以及 d. 它们的混合物。
24. 根据权利要求22或23中任一项所述的组合物，其中所述有机聚硅氧烷具有 0? 05meq/g至 12meq/g、或 0?lmeq/g至 10meq/g、或 0? 1 至 5meq/g的电荷密度。
25. 根据权利要求24所述的组合物，其中所述有机聚硅氧烷的分子量为约10,OOO道尔 顿至约1，〇〇〇, 〇〇〇道尔顿、约20, 000道尔顿至约500, 000道尔顿、或约25, 000道尔顿至约 50, 000道尔顿。
26. 根据权利要求24所述的组合物，其中所述组合物为洗发剂。
27. 根据权利要求25或26中任一项所述的组合物，其中每个p为选自约1至约40的 数。
28. 根据权利要求22或23中任一项所述的组合物，其中所述组合物为毛发冲洗剂。
29. 根据权利要求28所述的组合物，其中所述助剂包含阳离子表面活性剂，所述阳离 子表面活性剂选自：单长烷基季铵盐阳离子表面活性剂、单烷基胺、二烷基链阳离子表面活 性剂、以及它们的混合物。
30. 根据权利要求29所述的组合物，其中所述助剂还包含高熔点脂肪族化合物，所述 高熔点脂肪族化合物选自：脂肪醇、脂肪酸、脂肪醇衍生物、脂肪酸衍生物、以及它们的混合 物。
31. 根据权利要求22或23中任一项所述的组合物，其中所述组合物为免洗型调理组合 物。
32. -种处理基底的方法，包括使所述基底与前述权利要求中任一项所述的组合物接 触。
【文档编号】C08G77/452GK104508011SQ201380039847
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2013年7月29日 优先权日:2012年7月27日
【发明者】C·巴雷拉, S·D·史密斯, R·J·麦凯恩, Y·吉兹, R·K·帕纳戴克, M·A·斯奈德 申请人:宝洁公司