用于眼用镜片的清洁剂的制作方法

本发明涉及一种清洁剂，尤其涉及一种用于去除眼用镜片上脏污的清洁剂。

背景技术：

眼镜是许多近视或远视患者经常性的配戴品。由于经常被拿起来佩戴或摘下，在镜片表面很容易产生手纹。当镜片表面有了汗渍或脏污时，人们通常会使用洗洁精清理镜片。然而，由于镜片表面存在抗污镀层，抗污镀层会因长时间接触洗洁精而逐日失去原有的抗污功效。

技术实现要素：

有鉴于此，有必要提供一种能够有效去除镜片表面脏污且不损伤镜片的表面防污镀层的清洁剂。

一种用于眼用镜片的清洁剂，其包括重量百分比为23～32％的硅烷混合物以及重量百分比为68～77％的表面活性剂，所述硅烷混合物包括疏水性硅烷化合物及醇类化合物。

该清洁剂的配方简单，制作方法简便。该清洁剂包含属于疏水性硅烷的硅烷混合物，该疏水性硅烷混合物能够与镜片表面发生硅烷化反应，以在镜片表面形成一层抗指纹层，该抗指纹层形成于镜片抗污镀层的表面，使该清洁剂能在不损伤镜片表面防污镀层的情况下有效去除镜片表面的脏污。

附图说明

图1为本发明一较佳实施方式提供的清洁剂中的疏水性硅烷化合物与眼用镜片表面发生硅烷化反应的原理图。

具体实施方式

本发明实施方式的清洁剂，用于去除眼用镜片上的脏污。该清洁剂包括重量百分比为23～32％的硅烷混合物以及重量百分比为68～77％的表面活性剂。该硅烷混合物包括疏水性硅烷化合物及醇类化合物。其中，所述眼用镜片可以是框架眼镜或隐形眼镜。

该疏水性硅烷化合物(通式为rsi(ome)3)能够与所述眼用镜片表面发生硅烷化反应，以在所述眼用镜片表面形成一层抗指纹层。请参照图1，该硅烷化反应包括水解、缩合、形成氢键及形成共价键四个阶段。具体的，(1)所述水解步骤为：首先，该疏水性硅烷化合物rsi(ome)3的si-(ome)3键水解生成si-oh键；(2)所述缩合步骤为：si-oh键脱水缩合发应生成含有si-oh基团的硅氧烷低聚物r3si3o2(oh)5；(3)所述形成氢键步骤为：r3si3o2(oh)5中的si-oh基团与眼用眼镜表面的化合物a-oh的羟基生成氢键；(4)所述形成共价键步骤为：氢键在加热的情况下脱水形成共价键，以连接所述眼用眼镜以及生成组分为r3si3o2(oh)2o3a3的抗指纹层。

该醇类化合物能够分散该疏水性硅烷化合物，使其在该硅烷混合物内均勻分散。其中，所述疏水性硅烷化合物与所述醇类化合物的配比可根据实际需求进行变更，只要能使所述疏水性硅烷化合物分散于该硅烷混合物中便可。该硅烷化合物可选自全氟聚醚三甲氧基甲硅烷及九氟己基三甲氧基甲硅烷中的一种或两种。该醇类化合物可选自甲醇与乙醇中的一种或两种。优选地，该醇类化合物为乙醇。

该表面活性剂可以为椰油酰胺化三甲铵乙内酯、甘油、烷基葡萄糖苷、橘子精油及葡萄柚种子提取物中的一种或几种。在本实施方式中，该表面活性剂中还可包括一添加剂。该添加剂可为氯化钠溶液，其用于保持清洁剂中的离子平衡。

在制备所述清洁剂时，将各组份按照上述比例混合并搅拌即可。

下面将结合实施例对本发明清洁剂做进一步详细说明。

实施例1

该清洁剂包括重量百分比为23％的硅烷混合物及重量百分比为77％的表面活性剂。

其中，所述硅烷混合物包括重量百分比为1％的全氟聚醚三甲氧基甲硅烷以及重量百分比为99％的乙醇。所述表面活性剂包括88ml椰油酰胺化三甲铵乙内酯、30ml甘油以及375ml的氯化钠溶液，该氯化钠溶液的浓度为0.00533g/ml。

实施例2

该清洁剂包括重量百分比为32％的硅烷混合物及重量百分比为68％的表面活性剂。

其中，所述硅烷混合物包括重量百分比为0.7％九氟己基三甲氧基甲硅烷以及重量百分比为99.3％的乙醇。所述表面活性剂包括640ml水，300ml烷基葡萄糖苷，50ml橘子精油以及10g葡萄柚种子提取物。

该清洁剂的配方简单，制作方法简便。该清洁剂包含疏水性硅烷化合物，该疏水性硅烷化合物能够与所述眼用镜片表面发生硅烷化反应，以在所述眼用镜片表面形成一层抗指纹层，该抗指纹层形成于镜片抗污镀层的表面，使该清洁剂能在不损伤所述眼用镜片表面防污镀层的情况下有效去除所述眼用镜片表面的脏污。

以上所述，仅是本发明的较佳实施方式而已，并非对本发明任何形式上的限制，虽然本发明已是较佳实施方式揭露如上，并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许变动或修饰为等同变化的等效实施方式，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施方式所做的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

技术特征：

技术总结
一种用于眼用镜片的清洁剂，其包括重量百分比为23～32％的硅烷混合物以及重量百分比为68～77％的表面活性剂，所述硅烷混合物包括疏水性硅烷化合物及醇类化合物。

技术研发人员：简秀纹
受保护的技术使用者：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
技术研发日：2017.06.20
技术公布日：2018.12.28