技术特征:
技术总结
本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中,R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基;R2是低级烷基;R5是低级烷基;R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式‑CY2COOR12所示的基团,其中Y是卤原子,R12是碱金属原子或低级烷基;Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基;X2、X3和X9相同或不同,并为卤原子;X4是离去基团;M是碱金属原子。
技术研发人员:冈田稔;株木隆志;藤枝茂男;古关直
受保护的技术使用者:大塚制药株式会社
技术研发日:2013.08.29
技术公布日:2019.06.14