一种对去甲二氢愈创木酸有选择性吸附的表面印迹材料及制备方法

文档序号:8933339阅读:494来源:国知局
一种对去甲二氢愈创木酸有选择性吸附的表面印迹材料及制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及表面分子印迹技术领域,是一种在合适的溶剂中,将模板分子与功能 单体通过非共价键作用形成复合物,然后加入载体及交联剂,在引发剂的作用下,载体表面 形成特定的印迹位点,去除模板分子后即可于载体表面得到与模板分子大小、形状、官能团 完全互补的且具有三维孔穴的表面印迹材料,这种材料可应用于相关模板分子的提取与分 离,且清洗简易、应用性能较好。
【背景技术】
[0002] 天然产物的有效成分往往具有结构复杂、成分多样、含量低微以及性状不稳定等 诸多特点,所以从天然药物中分离得到纯净的有效活性成分比十分困难。目前传统的过滤、 离心等分离方法只能得到粗提物,难以得到单一的纯组分,而色谱法、超滤法、吸附法等现 代分离技术则普遍存在对被分析对象专一选择性低、亲和力差等缺点,况且上述常规分离 法所用溶剂耗量大,效率低,且容易造成微量有效成分丢失。目前,表面分子印迹技术基本 能克服上述方法的不足,它具有分子识别性强、固定相制备简便快速、操作简单、性质比较 稳定(耐酸碱,耐高温、高压等)、清洗简易、溶剂消耗量少、模板分子和印迹材料均可回收 再利用等优点,因此表面分子印迹技术便在中草药有效成分的提取分离领域具有广阔的应 用前景。
[0003] 去甲二氢愈创木酸(nordihydroguaiaretic acid ;NDGA)最初是从漢藜科灌木中 提取的一种木脂素类天然产物,目前人们可以进行人工合成。去甲二氢愈创木酸是一种脂 氧化酶抑制剂,具有抗氧化、抗肿瘤、抗病毒作用。近年来,人们发现它对前列腺癌、乳腺癌、 肺癌、结肠癌等多种实体瘤细胞的生长亦具有抑制作用,并有预防肿瘤形成的作用,且对肿 瘤转移和体内移植瘤的生长也有显著的抑制作用,但其具体作用机制不详。最新研宄表明 NDGA还能抑制登革热病毒的复制。针对NDGA提取与分离,目前国内外主要为有机溶剂萃 提、超声提取、高效液相色谱分离等报道,这些技术虽然在一定程度上提高了去甲二氢愈创 木酸的提取效率,但是其选择性较差、产量较低、实用性不强。
[0004] 为此,本项目利用表面分子印迹技术的专一识别性、高亲和性和高选择性等特点, 将表面分子印迹技术应用于活性物质去甲二氢愈创木酸的提取与分离,且所得表面印迹材 料易于清洗、应用性能好。

【发明内容】

[0005] 针对上述情况,本发明的目的是提供一种新型对去甲二氢愈创木酸具有选择性吸 附且清洗简易、应用性能好的表面印迹材料及制备方法。
[0006] 本发明的技术方案是:一种对去甲二氢愈创木酸具有选择性吸附且清洗简易、应 用性能好的表面印迹材料,其特征为: (1)制备印迹材料所需各组分的质量百分比为:去甲二氢愈创木酸0. 144-0. 222% ; γ -氨基丙基三乙氧基硅烷0. 531-1. 048% ;甲基三乙氧基硅烷0. 171-0. 264% ;正硅酸四乙 酯 8. 232-16. 905% ;二氧化硅 0· 986-4. 057% ;0· Olmol Γ1 乙酸溶液 9. 589-14. 803% ;致孔剂 乙醇 64. 022-77. 945% ; (2) 最佳优化配比条件下(即制备印迹材料所需各组分的质量百分比为:去甲二氢愈创 木酸0. 151%、γ -氨基丙基三乙氧基硅烷0. 669%、甲基三乙氧基硅烷0. 180%、正硅酸四乙酯 8. 398%、二氧化硅I. 008%、0. 01mol/L乙酸溶液10. 078%及乙醇79. 516%时)所得表面印迹 材料的傅里叶红外光谱图见图1 ; (3) 同(2)条件所得表面印迹材料的扫描电子显微镜图见图2 ; 上述的的一种对去甲二氢愈创木酸具有选择性吸附且清洗简易、应用性能好的表面印 迹材料,其制备方法如下: A、在反应釜中按质量百分比加入0. 144-0. 222%去甲二氢愈创木酸、 0. 531-1. 048%γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、0. 171-0. 264%甲基三乙氧基硅烷及 64. 022-79. 516%致孔剂乙醇,室温搅拌1小时,使其充分预反应; Β、预反应后,分别加入质量百分比为0. 986-4. 057%二氧化硅、8. 232-16. 905%正硅酸 四乙酯,室温搅拌1小时后再加入9. 589-14. 803%浓度为0. 01 mol Γ1乙酸溶液,室温搅 拌使反应进行24小时,得到表面印迹聚合物; C、取0. 2 g干燥好的上述表面印迹聚合物于50 mL索氏提取器中,以体积比为7:3的 乙醇及乙酸的混合溶液洗脱8小时至洗脱液中检测不到去甲二氢愈创木酸为止,然后用乙 醇洗去材料内残留的乙酸,洗脱好的印迹聚合物于60 °C真空干燥24小时后出料。
[0007] 对去甲二氢愈创木酸具有选择性吸附且清洗简易、重复利用率高的表面印迹材 料,其合成反应原理如下: (1) 去甲二氢愈创木酸分子中含有羟基及疏水基团,γ-氨基丙基三乙氧基硅烷中含有 胺基基团、甲基三乙氧基硅烷有疏水基团,在适当溶剂当中,它们通过分子间氢键和疏水键 作用便能形成相应复合物(即超分子化合物); (2) 预反应后,加入载体二氧化硅和交联剂正硅酸四乙酯,室温条件下,在稀乙酸的催 化下发生水解及链式聚合反应,得到含模板分子去甲二氢愈创木酸的聚合物; (3) 在索氏提取器中以体积比为7:3的乙醇及乙酸的混合溶液洗去上述聚合物中的去 甲二氢愈创木酸,直至洗脱液中检测不到去甲二氢愈创木酸为止,最后用乙醇洗掉多余的 乙酸,洗脱好的印迹聚合物即为与模板分子去甲二氢愈创木酸的大小相同,官能团互补的 三维孔穴的表面印迹材料(MIP@Si02)。
[0008] 取最佳优化条件下(即制备印迹材料所需各组分的质量百分比为:去甲二氢愈创 木酸0. 151%、γ -氨基丙基三乙氧基硅烷0. 669%、甲基三乙氧基硅烷0. 180%、正硅酸四乙酯 8. 398%、二氧化硅I. 008%、0.0 lmol Γ1乙酸溶液10. 078%及乙醇79. 516%时)所制备的表面 印迹材料10 mg,投入到10 mL浓度为0.04 mg ml/1的去甲二氢愈创木酸乙醇溶液中,8 h时,吸附基本达到动态平衡,此时表面印迹材料的吸附容量为5. 90 mg g'而同等条件下 (即除不加去甲二氢愈创木酸外的上述最佳优化条件)所得非表面印迹材料(NIPlgSiO2)的吸 附容量仅为2. 78 mg g'
[0009] 整个合成反应原理如图3所示。
[0010] 本发明与现有技术相比具有如下特点: (1) 本发明将表面分子印迹技术与中草药活性有效成分的分离技术巧妙地结合了起 来,丰富和发展了天然药物的提取分离方法; (2) 本发明与传统的分子印迹法如沉淀聚合法、本体聚合法等比较,具有所需实验仪器 条件更为简单、操作上特别是模版分子的清洗更为简便、提取效率更好、材料的重复利用率 更高等特点,因而具有较强的实用性。
[0011] (3)本发明材料对去甲二氢愈创木酸具有高亲和能力,克服了传统分离技术从蒺 藜科灌木中提取分离去甲二氢愈创木酸具有低效、耗时、废料等不足; (4) 本发明材料对去甲二氢愈创木酸具有特异选择性,且能用于微量去甲二氢愈创木 酸的提取; (5) 本发明材料能循环使用,经济效益好。
【附图说明】
[0012] 图1傅里叶红外光谱图(去除模板后的MIPIgSiO2 (a)、MIP@Si02 (b)、NIP@Si02 (c) 及 SiO2 (d)); 图2表面非印迹材料a扫描电子显微镜图; 图3表面非印迹材料b扫描电子显微镜图; 图4去甲二氢愈创木酸表面印迹材料的合成反应原理图; 图5材料对去甲二氢愈创木酸动态吸附曲线图; 图6材料对去甲二氢愈创木酸静态吸附曲线图。
【具体实施方式】
[0013] 下述具体实施例所应用的表面印迹材料(MIPIgSiO2)及非表面印迹材料(ΝΙΡ@ SiO2)的制备方法略同,NIP@Si〇d9制备除不加模板分子(去甲二氢愈创木酸)外,其他内容 均与MIPlgSiO 2的制备相同。
[0014] 实施例1: 一种对去甲二氢愈创木酸具有选择性吸附且清洗简易、应用性能好的 表面印迹材料,制备该印迹材料所需各组分的质量百分比为:去甲二氢愈创木酸0.222%; γ -氨基丙基三乙氧基硅烷〇. 819% ;甲基三乙氧基硅烷0. 264% ;正硅酸四乙酯12. 335% ;二 氧化硅1. 480% ;0.0 lmol Γ1乙酸溶液14. 803% ;致孔剂乙醇
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