光学补偿膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种光学补偿膜，更具体地，涉及一种面内相位差及厚度方向相位差 值高而光学特性优异的光学补偿膜。
【背景技术】
[0002] 由于纤维素乙酸酯膜具有高的强度和阻燃性，因此纤维素乙酸酯膜被用于各种照 片或光学材料中。与其它聚合物膜相比，纤维素乙酸酯膜具有低的光学各向异性，从而提供 相对低的延迟（retardation)。因此，纤维素乙酸酯膜被用于偏光板。
[0003] 美国公开专利第2008/0173215号公开了一种耐光性优异的纤维素乙酸酯膜，韩 国公开公报第2011-0075980也提供了一种包含延迟改进剂的纤维素乙酸酯膜。
[0004] 垂直排列（VerticalAlignment，VA)模式的上下板上形成有透明电极。上下板 外侧面上附着有偏光板以使其与光轴垂直，从而在不施加电场的状态下初期定位方向为 垂直方向，因此，将变成完全暗的状态。当施加电场时，则液晶指向矢（liquidcrystal director)将被适当地重新排列，从而使光透射。这种VA模式的液晶显示装置的光学补偿 膜要求具有高的光学性各向异性，即需要高的延迟。
[0005] 另外，美国公开专利第2010/0208181号中虽然提供有一种纤维素乙酸酯膜，所述 纤维素乙酸酯膜包含有在VA模式的情况下，在广视角下也能够实现高对比度（contrast) 的化合物，但是仍然需要光学特性优异的纤维素乙酸酯膜。
[0006] 【在先技术文献】
[0007] 【专利文献】
[0008] 美国公开专利第 2008/0173215 号（2008. 07. 24)
[0009] 韩国公开专利第 2011-0075980 号（2011. 07. 06)
[0010] 美国公开专利第 2010/0208181 号（2010. 08. 19)
【发明内容】
[0011] 要解决的技术问题
[0012] 本发明的目的在于，提供一种面内相位差及厚度方向的相位差值高的光学膜。
[0013] 另外，本发明的目的在于，提供一种适用于图像显示装置，尤其适用于VA模式液 晶显示装置而可以改善视角及对比度特性的光学补偿膜。
[0014] 另外，本发明的目的在于，提供一种使用所述光学补偿膜的图像显示装置。
[0015] 技术方案
[0016] 1.包含下述化学式1或化学式2的化合物，并且Rin(A)及Rth(A)满足下述式 (I)至（III)的光学补偿膜：
[0017] [化学式1]
[0018]
[0019] (式中，Ar为（C6-C20)芳基或（C3-C20)杂芳基，并且Q的邻位中的至少一个被OR 取代，其中R为氢或（C1-C10)烷基；
[0020] Q，
[0021] R'为氢或（C1-C10)烷基：
[0022] X选自
[0023] 1^、1?12、1?13及1?14相互独立地选自氢、（(：1-(：10)烷基、（(：1-(：10)烷基羰基或 $>17 L及R12可以通过被取代或未被取代的（C4-C10)亚烷基连接而形成环，所述亚烷基可以进 一步被（C1-C7)烷基取代，所述亚烷基中的任一个以上的碳原子可以进一步被选自N、0及 S的一种以上的杂原子取代，
[0024] 所述Y为0或S，
[0025] Z选自氢、
R21、R22、R23及R24相互独立地为 氢、（C1-C10)烷基、（C3-C20)环烷基、胺基，R21和R22可以通过被（C1-C7)烷基取代或未被 (C1-C7)烷基取代的（C3-C10)亚烷基连接而形成环，所述亚烷基中的任一个以上的碳原子 可以进一步被选自N、0及S的一种以上的杂原子取代；
[0026] Ar可以进一步被选自（C1-C7)烷基、（C1-C7)烷氧基、（C3-C20)环烷基、（C1-C7) 烷基羰基、（C3-C20)环羰基、（C1-C7)烷基硫基（sulfanyl)、（C3-C20)环硫基、（C1-C7)烷 基亚砜基（sulfinyl)、（C3-C20)环亚砜基、（C1-C7)烷基磺酰基（sulfonyl)、（C3-C20)环 磺酰基、（C1-C7)烷基羰基亚胺基、（C3-C20)环烷基羰基亚胺基、（C1-C7)烷基硫基亚胺基、 (C3-C20)环烷基硫基亚胺基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、（C2-C7)烯基、（C3-C20)环烷 基、包含选自N、0、S的一种以上元素的5-7元杂环烷基的一种以上所取代，
[0027] m为1至10的整数。）
[0028] [化学式2]
[0029]
[0030] (式中，Ar为（C6-C20)芳基或（C3-C20)杂芳基，但排除Q的邻位被0R取代的化 合物，其中R为氢或（C1-C20)烷基；
[0031] Q为
[0032] A为札及1?2相互独立地为氢、卤素、羟基、（(：1-〇20) '
.7 烷基或（C3-C20)杂环烷基；
[0033] R3为氢、卤素、羟基、（C1-C20)烷基、（C1-C20)烷基羰基、（C6-C20)烯丙基、 (C3-C20)杂芳基或（C3-C20)杂环烷基，R#PAr的取代基可以通过包含稠环或不包含稠环 的被取代或未被取代的（C3-C20)亚烷基或者是被取代或未被取代的（C3-C20)亚烯基连接 而形成脂环族环及单环或多环的芳香族环，所述形成的脂环族环及单环或多环的芳香族环 的碳原子可以被选自氮、氧及硫的一种以上的杂原子取代；
[0034] R4为氢或（C1-C20)烷基；
[0035] X为 0 或S;
[0036] Z为（C1-C20)烷基、-N(RnR12)或-0(R13)，Rn至R13相互独立地选自氢、（C1-C20) 烷基，L及R12可以通过包含稠环或不包含稠环的被取代或未被取代的（C3-C20)亚烷基 或者是被取代或未被取代的（C3-C20)亚烯基连接而形成脂环族环及单环或多环的芳香族 环，所述形成的脂环族环及单环或多环的芳香族环的碳原子可以被选自氮、氧及硫的一种 以上的杂原子取代；
[0037] n为0至3的整数；
[0038] m为1至10的整数；
[0039] 所述&至R3的烷基、杂环烷基，R4的烷基，Z的烷基，Rn至R13的烷基及Z和R3的 脂环族环或芳香族环相互独立地可以进一步被选自卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、（C1-C20) 烷基、（C1-C20)烷氧基、（C2-C20)烯基、（C3-C20)环烷基、包含选自N、0、S的一种以上元 素的5-7元杂环烷基中的一种以上所取代。）
[0040] (1)30 彡Rin(550)彡 100
[0041] (11)70 彡Rth(550)彡 200
[0042] (III)0? 9 彡Rth(450)/Rth(550)彡 1. 05
[0043] (式中，Rin(人）为在波长人nm下的面内相位差（nm)，Rth(入）为在波长人nm下 的厚度方向的相位差（nm)。）
[0044] 2.如1所述的光学补偿膜，所述化学式1的化合物为下述化学式1-a所示的化合 物：
[0045] [化学式l_a]
[0046]
[0047] (式中，1^至L4相互独！地为早键
或选目N、0、S、C= 0、S= 0、0 =S= 0、-NH-C(0)-、-NH-C(S)-;
[0048]&至1?4相互独立地选自氢、（C1-C10)烷基、（C1-C10)烷氧基、（C3-C20)环烷基、
或包含选自N、0、S的一种以上元素的5-7元杂环烷基；
[0049] R或R'相互独立地为氢或（C1-C10)烷基；
[0050] X选自
[0051] Rn、R12、R13及R14相互独立地选自氢、（C1-C10)烷基、（C1-C10)烷基羰基或， L及R12可以通过被取代或未被取代的（C4-C10)亚烷基连接而形成环，所述亚烷基可以进 一步被（C1-C7)烷基取代，所述亚烷基中的任一个以上的碳原子可以进一步被选自N、0及 S的一种以上的杂原子取代，
[0052] 所述Y为0或S，
[0053] Z选自氢 R21、R22、R23及R24相互独立地为氢、 f (C1-C10)烷基、（C3-C20)环烷基、胺基，R21和R22可以通过被（C1-C7)烷基取代或未被 (C1-C7)烷基取代的（C3-C10)亚烷基连接而形成环，所述亚烷基中的任一个以上的碳原子 可以进一步被选自N、0及S的一种以上的杂原子取代；
[0054] 所述札至R4的烷基、烷氧基、环烷基及杂环烷基与R和R'的烷基可以进一步被 选自（C1-C7)烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、（C2-C7)烯基、（C3-C20)环烷基、包含选自 N、0、S的一种以上元素的5-7元杂环烷基中的一种以上所取代，
[0055] 札至R4与相邻的取代基可以通过被（C1-C7)烷基取代或未被（C1-C7)烷基取代 的（C3-C10)亚烷基连接而形成脂环族环。）
[0056] 3.如2所述的光学补偿膜，所述化学式1-a所示的化合物为下述化学式1-b至1-e 所示的化合物：
[0057] [化学式l_b]
[0058]
[0059] [化学式 1-c]
[0060]
[0061][化学式 1-d]
[0062]
[0063] [化学式l_e]
[0064]
[0065] (化学式1-b至1-e中，L#L4相互独立地为单键或选自N、0、S、C= 0、S= 0、 0 =S= 0、-NH-C(0) -、-NH-C(S)-;
[0066] R$R4相互独立地选自氢、（C1-C10)烷基、（C1-C10)烷氧基、（C3-C20)环烷基、 (C2-C7)烯基
或包含选自N、0、S的一种以上元素的5-7元杂环烷基，
[0067] 所述Y为0或S，
[0068] Z选自 _
[0069] R21、R22、R23及R24相互独立地为氢、（C1-C10)烷基、（C3-C20)环烷基、胺基，R21和 R22可以通过被（C1-C7)烷基取代或未被（C1-C7)烷基取代的（C3-C10)亚烷基连接而形成 环，所述亚烷基中的任一个以上的碳原子可以进一步被选自N、0及S的一种以上的杂原子 取代；
[0070] R或R'相互独立地为氢或（C1-C10)烷基；
[0071] 所述&至1?4的烷基、烷氧基、环烷基、烯基及杂环烷基与R和R'的烷基可以进一 步被选自（C1-C7)烷基、卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、（C2-C7)烯基、（C3-C20)环烷基、包含 选自N、0、S的一种以上元素的5-7元杂环烷基中的一种以上所取代。）
[0072] 4.如3所述的光学补偿膜，所述化学式1-b至1-e中，L#L4相互独立地为单键 或选自〇、C= 0，
[0073] &至R4相互独立地选自氢、（C1-C10)烷基、（C1-C10)烷氧基或
[0074]
[0075] 所述Y为0或S，
[0076] Z选自氢、
[0077] R'为氢或（C1-C10)烷基；
[0078] R21、R22、R23及R24相互独立地为氢、（C1-C10)烷基、（C3-C20)环烷基、胺基，R21和 R22可以通过被（C1-C7)烷基取代或未被（C1-C7)烷基取代的（C3-C10)亚烷基连接而形成 环，所述亚烷基中的任一个以上的碳原子可以进一步被选自N、0及S的一种以上的杂原子 取代；
[0079] R5相互独立地选自氢、（C1-C10)烷基。
[0080] 5.如1所述的光学补偿膜，所述化学式2中，Ar可以进一步被选自卤素、（C1-C20) 烷基、（C3-C20)环烷基、（C1-C20)烷氧基、（C6-C20)芳氧基、（C1-C20)烷基酰基、（C6-C20) 芳基酰基、（C1-C20)烷氧基羰基、（C6-C20)芳氧基羰基、（C1-C20)烷基酰氧基、（C6-C20) 芳基酰氧基、磺酰基氨基、硝基、羟基、氰基、氨基、酰基氨基、Q以及包含选自N、0、S的一种 以上元素的5-7元杂环烷基中的一种以上所取代；
[0081] 札至1?2为氢；
[0082] R3为氢、（C1-C20)烷基或（C1-C20)烷基羰基；
[0083] R4为氢或（C1-C20)烷基；
[0084] X为 0 或S;
[0085] Z为（C1-C20)烷基、-N(RnR12)或-0(R13)，Rn至R13相互独立地选自氢、（C1-C20) 烷基，L及R12可以通过包