吡唑衍生物的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及作为药物、农药的中间体有用的吡唑基酮衍生物和吡唑-4-羧酸衍生 物等吡唑衍生物的新型制造方法、以及作为前述制造方法的中间体有用的新型化合物。
【背景技术】
[0002] 3-二氟甲基-1-甲基-IH-吡唑-4-羧酸和3-三氟甲基-1-甲基-IH-吡唑-4-羧酸为 P比挫基烟酰苯胺(pyrazoIyI carboxani I id)杀菌剂的制造中有用的中间体(例如参照专利 文献1和2)。作为制造这些中间体的方法，已知有多种方法(例如参照非专利文献1)。作为将 吡唑环的对应的4位取代基转化为羧基而得到羧酸的方法，通过将醛氧化为羧酸的方法来 制造(例如参照专利文献3)。
[0003] 现有技术文献
[0004] 专利文献
[0005] 专利文献1:国际公开公报第03/070705号
[0006] 专利文献2:国际公开公报第03/074491号 [0007] 专利文献3:国际公开公报第09/000441号
[0008] 非专利文献
[0009] 非专利文献I: Journal of Fluorine Chemistry 152(2013)2-11
【发明内容】
[0010] 发明要解决的问题
[0011] 本发明的课题在于，提供吡唑衍生物的新型且工业上有用的制造方法、作为前述 制造方法的中间体的新型化合物和该新型化合物的制造方法。
[0012] 用于解决问题的方案
[0013] 本发明者人等鉴于上述课题反复深入研究，结果完成了本发明。
[0014] 本发明如以下所述：
[0015] [1] -种下式(6)所示的吡挫衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(5)所示的化 合物和氧化剂反应。
[0017] (其中，
[0018] R1为氢原子、卤原子或Cl~8的卤代烷基。
[0019] R2为Cl~8的烷基、C3~8的环烷基、具有取代基的C3~8的环烷基、芳基、具有取代 基的芳基、杂芳基或具有取代基的杂芳基。
[0020] R3为氢原子、Cl~8的烷基或氮保护基。
[0021 ] X1和X2彼此独立地为氟原子或氯原子。
[0022] Z1为氢原子或Cl~8的烷基。）。
[0023] [2] -种下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(5)所示的化 合物和氧化剂在碱的存在下反应，从而得到下式(6a)所示的化合物，并使该式(6a)所示的 化合物和酸反应。
[0025] (其中，
[0026] R1为氢原子、卤原子或Cl~8的卤代烷基。
[0027] R2为Cl~8的烷基、C3~8的环烷基、具有取代基的C3~8的环烷基、芳基、具有取代 基的芳基、杂芳基或具有取代基的杂芳基。
[0028] R3为氢原子、Cl~8的烷基或氮保护基。
[0029] X1和X2彼此独立地为氟原子或氯原子。
[0030] Z1为氢原子或Cl~8的烷基。
[0031] M为羧酸的抗衡阳离子。）。
[0032] [3]根据上述[1]或[2]所述的制造方法，其中，R2上的取代基为不参与反应的非活 性的基团或原子。
[0033] [4]根据上述[1]~[3]中任一项所述的制造方法，其中，通过使下式(3)所示的化 合物和下式(4a)或(4b)所示的化合物反应，从而得到下式(5)所示的化合物，
[0035][其中，
[0036] !^、!^、护^矛把与前述为相同含义。
[0037] Ra为0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4为Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此独立地为氢原子或Cl~8的烷基。或R5和R6任选彼此连接而与它们所键合的氮原子一起形 成5~6元的杂环基。）。
[0038] Y1为氧原子或N+R7R 8 · A_(其中，R7和R8彼此独立地为Cl~8的烷基。或R7和R 8任选彼 此连接而与它们所键合的氮原子一起形成5~6元的杂环基。f为抗衡阴离子。）。
[0039] R9和Riq彼此独立地为氢原子、Cl~12的烷基、具有取代基的Cl~C12的烷基、C3~8 的环烷基、具有取代基的C3~8的环烷基、芳基、具有取代基的芳基、杂芳基或具有取代基的 杂芳基。
[0040] 或R9和R1t3任选彼此连接而形成3~8元的环烷基、具有取代基的3~8元环的环烷 基、3~8元环的杂环基或具有取代基的3~8元环的杂环基。
[0041 ]波浪线表示Z1和Ra的与双键相关的立体构型任选为E或Z。]。
[0042] [5]根据上述[4]所述的制造方法，其中，R9和Riq上的取代基为选自由4\-0妒、_ SRB、-N(RB) (Rc)、-Si (Rb) (Rc) (Rd)、-<：00妒、-(0 = 0)妒、-0财口-〇^(妒）（妒)组成的组(其中， 妒、妒、#分别独立地为氢原子或(：1~8的烷基(^ 4为氟原子或氯原子。）。
[0043] [6]根据上述[1]所述的制造方法，其中，通过使下式（3)所示的化合物和下式(4) 所示的化合物反应，从而得到式(5)所示的化合物。
[0045] [其中，
[0046] !^、!^、护^矛把与前述为相同含义。
[0047] Ra为0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4为Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此独立地为氢原子或Cl~8的烷基。或R5和R6任选彼此连接而与它们所键合的氮原子一起形 成5~6元的杂环基。）。
[0048] Y1为氧原子或N+R7R8 · A_(其中，R7和R8彼此独立地为Cl~8的烷基。或R7和R 8任选彼 此连接而与它们所键合的氮原子一起形成5~6元的杂环基。A-为抗衡阴离子。）。
[0049] 波浪线表示Z1和Ra的与双键相关的立体构型任选为E或Z。]。
[0050] [7] -种下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(3b)所示的 化合物和下式(4a)或(4b)所示的化合物反应，从而得到下式(5)所示的化合物，并使该式 (5)所示的化合物和氧化剂反应，
[0051]
[0052] [其中，
[0053] R1为氢原子、卤原子或Cl~8的卤代烷基。
[0054] R2为Cl~8的烷基、C3~8的环烷基、具有取代基的C3~8的环烷基、芳基、具有取代 基的芳基、杂芳基或具有取代基的杂芳基。
[0055] R3为氢原子、Cl~8的烷基或氮保护基。
[0056] X1和X2彼此独立地为氟原子或氯原子。
[0057] Z1为氢原子或Cl~8的烷基。
[0058] Ra为0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4为Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此独立地为氢原子或Cl~8的烷基。或R5和R6任选彼此连接而与它们所键合的氮原子一起形 成5~6元的杂环基。）。
[0059] R9和Riq彼此独立地为氢原子、Cl~12的烷基、具有取代基的Cl~C12的烷基、C3~8 的环烷基、具有取代基的C3~8的环烷基、芳基、具有取代基的芳基、杂芳基或具有取代基的 杂芳基。
[0060] 或R9和R1t3任选彼此连接而形成3~8元的环烷基、具有取代基的3~8元环的环烷 基、3~8元环的杂环基或具有取代基的3~8元环的杂环基。
[0061 ]波浪线表示Z1和Ra的与双键相关的立体构型任选为E或Z。]
[0062] [8] -种下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(3b)所示的 化合物和下式(4a)或(4b)所示的化合物反应从而得到下式(5)所示的化合物，使该式(5)所 示的化合物和氧化剂在碱的存在下反应从而得到下式(6a)所示的化合物，使该式(6a)所示 的化合物和酸反应。
[0063]
[0064][其中，
[0065] R1为氢原子、卤原子或Cl~8的卤代烷基。
[0066] R2为Cl~8的烷基、C3~8的环烷基、具有取代基的C3~8的环烷基、芳基、具有取代 基的芳基、杂芳基或具有取代基的杂芳基。
[0067] R3为氢原子、Cl~8的烷基或氮保护基。
[0068] X1和X2彼此独立地为氟原子或氯原子。
[0069] Z1为氢原子或Cl~8的烷基。
[0070] Ra为0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4为Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此独立地为氢原子或Cl~8的烷基。或R5和R6任选彼此连接而与它们所键合的氮原子一起形 成5~6元的杂环基。）。
[0071] R9和Riq彼此独立地为氢原子、Cl~12的烷基、具有取代基的Cl~C12的烷基、C3~8 的环烷基、具有取代基的C3~8的环烷基、芳基、具有取代基的芳基、杂芳基或具有取代基的 杂芳基。
[0072] 或R9和R1t3任选彼此连接而形成3~8元的环烷基、具有取代基的3~8元环的环烷 基、杂环基或具有取代基的杂环基。
[0073] 波浪线表示Z1和Ra的与双键相关的立体构型任选为E或Z。]。
[0074] [9]根据上述[8]所述的制造方法，其中，R9和Riq上的取代基为选自由4\-0妒、_ SRB、-N(RB) (Rc)、-Si (Rb) (Rc) (Rd)、-<：00妒、-(0 = 0)妒、-0财口-〇^(妒）（妒)组成的组(其中， 妒、妒、#分别独立地为氢原子或(：1~8的烷基(^ 4为氟原子或氯原子。）。
[0075] [10] -种下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(3b)所示的 化合物和下式(4)所示的化合物反应从而得到下式(5)所示的化合物，使该式(5)所示的化 合物和氧化剂反应。
[0077] [其中，
[0078] R1为氢原子、卤原子或Cl~8的卤代烷基。
[0079] R2为Cl~8的烷基、C3~8的环烷基、具有取代基的C3~8的环烷基、芳基、具有取代 基的芳基、杂芳基或具有取代基的杂芳基。
[0080] R3为氢原子、Cl~8的烷基或氮保护基。
[0081 ] X1和X2彼此独立地为氟原子或氯原子。
[0082] Z1为氢原子或Cl~8的烷基。
[0083] Ra为0R4、NR5R6或SR4(其中，R 4为Cl~8的烷基、芳基或具有取代基的芳基。R5和R6彼 此独立地为氢原子或Cl~8的烷基。或R5和R6任选彼此连接而与它们所键合的氮原子一起形 成5~6元的杂环基。）。
[0084] 波浪线表示Z1和Ra的与双键相关的立体构型任选为E或Z。]。
[0085] [11]根据上述[7]~[10]中任一项所述的制造方法，其中，通过使下式(3a)所示的 化合物和水反应从而得到下式(3b)所示的化合物，
[0087] (其中，1?1、1?2、1?7、1?8、1^、父 1、父2和21与前述为相同含义。
[0088] 波浪线表示Z1和Ra的与双键相关的立体构型任选为E或Z。）。
[0089] [12]根据上述[4]~[11]中任一项所述的制造方法，其中，通过使下式（1)所示的 化合物和下式(2)所示的化合物反应从而得到式(3)所示的化合物，
[0091](其中，
[0092]妒、1?2、1^、乂1、乂2、￥1和2 1与前述为相同含义。
[0093] X3为卤原子。
[0094] 波浪线表示Z1和Ra的与双键相关的立体构型任选为E或Z。）。
[0095] [13]根据上述[1]~[12]中任一项所述的制造方法，其中，氧化剂为次氯酸盐。
[0096] [14]根据上述[1]~13]中任一项所述的制造方法，其中，R1为氢原子。
[0097] [15] -种下式(5a)所示的化合物。
[0099] (其中，
[0100] R12为Cl~8的烷基。
[0101] R13为氢原子、Cl~8的烷基或氮保护基。