专利名称：缝隙嘴的制作方法
技术领域：
本发明涉及缝隙嘴，该缝隙嘴(slit nozzle)在基板表面上按一定的宽度对涂敷液进行涂敷。
背景技术：
作为在玻璃基板等表面上对光致抗蚀剂等涂敷液进行涂敷的方法来说，有一种方法是，从通常的嘴向着基板表面滴下涂敷液，此后进行旋转以使厚度均一。然而，所涂敷的涂敷液的90％以上会飞溅而造成大量浪费。为此近来一直使用如下方法，即使用缝隙嘴在基板上按一定的宽度对涂敷液进行涂敷，此后进行某种程度的旋转，从而使涂膜的厚度均一，或是使用缝隙嘴在基板上按一定的宽度对涂敷液进行涂敷，于是结束涂敷工序。
为了降低上述涂敷液的浪费，作为条件就是要尽可能不使基板旋转而让涂膜的厚度均一。为此，有必要使在缝隙嘴上，沿着缝隙状排出口从排出口排出的涂敷液的量均一。为了确保该均一性，在现有技术中提出了各种提案。
在特许文献1中提出了如下提案，即在构成缝隙嘴的一方的半体上，沿着上下相间隔地设置2个涂敷液蓄留部，在这2个涂敷液蓄留部的连通部分内，相当于缝隙嘴的宽度方向的中央部的地方设置遮断部，从而可确保涂敷量的均一性。
在特许文献2中提出了如下提案，即在槽(缝隙状流道)内沿着涂敷液的流向分割成2层槽状单体，使各槽状单体的开口互异以控制涂敷液的压力损失，这样就可确保涂敷量的均一性。
在特许文献3中提出了如下提案，即在构成缝隙嘴的一方的半体上设置涂敷液的蓄留部，在该蓄留部的下侧连续形成整压部，经该整压部将涂敷液供给到排出口，从而使涂敷液沿着排出口均一排出。
在特许文献4中提出了如下提案，即在构成缝隙嘴的一方的半体上设置涂敷液的蓄留部，在该蓄留部中配置嘴内流道形成用的部件，从而使涂敷量达到均一。
(特许文献1)特开平7-326564号公报(特许文献2)特开2000-051777号公报(特许文献3)特开2002-086045号公报(特许文献4)特开2002-370057号公报如特许文献2及特许文献3中公开的缝隙嘴所述，在蓄留部与其下侧处设置整压部，这样就不能充分地进行某种程度的均一涂敷。
此外，如特许文献1及特许文献4中公开的缝隙嘴所述，蓄留部是山形，在蓄留部的下方设有遮断部或是在蓄留部内配置嘴内流道形成用的部件，此时如图6所示，在宽度方向的中央部的涂敷液的流下量变少，偏离中央部的两侧处的涂敷液的流下量变多，而且两端部的涂敷液的流下量还有变少的趋势。
发明内容
本发明为了解决上述课题而提供一种缝隙嘴，该缝隙嘴的结构是这样的在2个嘴半体的结合状态下，该缝隙嘴形成向下方开口的缝隙状排出口，在上述2个嘴半体中的一方上形成涂敷液的第1蓄留部，在与该第1蓄留部相连续的下侧形成第2蓄留部，该第2蓄留部以嘴半体的厚度方向为基准而浅于上述第1蓄留部，在与该第2蓄留部相连续的下侧设置平坦面，在平坦面与另一方的嘴半体之间形成下端为缝隙状排出口的开口，上述第1蓄留部按如下方式形成山形，即与形成在嘴半体的宽度方向的中央部上的涂敷液供给孔相连通的地方最高而两端变低，此外，上述第2蓄留部的下边形成嘴半体的宽度方向的中央部最低，随着向两端不断延伸而越来越高的V字状倾斜面。
另外，优选的情况是，以上述V字状倾斜面的两端的始点，作为当上述第2蓄留部的下边为直线状时涂敷液的流下量变得最多的点。
通过采用上述结构，可使沿着排出口的宽度方向从缝隙状排出口流下的涂敷液的量成为均一。因而在基板上涂敷的涂敷液的厚度成为均一，所以可实现制品成品率的提高。
如上述说明所示，通过本发明所述的缝隙嘴，可使从沿嘴的宽度方向延伸的缝隙状排出口流出的涂敷液的流下量，无论在何处都会变得相等，从而使在基板上形成的涂膜的厚度成为均一。
特别是可将光致抗蚀剂的膜厚准确控制在10～20μm的范围内。例如，应用集成电路形成技术，可在IC图形面上容易地形成高度准确的凸起(突起状电极)。此外，也可利用在将替代金属丝连接的金属柱设置在集成电路片上的作业中。
图1是本发明所述的缝隙嘴整体的立体图。
图2是沿图1的A-A线的截面图。
图3是沿图2的B-B的向视方向图。
图4是形成蓄留部的嘴半体的截面放大图。
图5是嘴下端部的截面放大图。
图6是已有缝隙嘴的不良状态的说明图。
符号说明1、2嘴半体1a、2a嘴半体的下部倾斜面3螺栓4第1蓄留部5第2蓄留部6涂敷液供给孔7排气孔8V字状倾斜面8a倾斜面的端部9平坦面10缝隙状排出口11、12端板具体实施方式
下面，基于附图对本发明的实施方式进行说明。图1是本发明所述的缝隙嘴整体的立体图，图2是沿图1的A-A线的截面图，图3是沿图2的B-B的向视方向图，图4是形成蓄留部的嘴半体的截面放大图，图5是嘴下端部的截面放大图。
缝隙嘴是按如下方式构成的，即对接左右的嘴半体1、2，用螺栓3将它们结合成一体，一方的嘴半体1的与嘴半体2相面对的面上形成有涂敷液的第1蓄留部4以及第2蓄留部5。
第1蓄留部4被设置在穿到嘴半体1的厚度方向(图2的左右方向)的大约将近一半的深度的地方，它的截面形状是宽度相同，倾斜而成并随着深度不断变深而变得越来越高。此外，如图3所示，在第1蓄留部4的嘴半体1的与嘴半体2相面对的面上设有开口部分，该开口部分形成为宽度方向(图3的左右方向)的中央部最高、两端变低的山形形状，变得最高的中央部处是与涂敷液供给孔6相连通的。此外，在变得最高的中央部上连通有排气孔7。
在上述第1蓄留部4的下侧连续形成第2蓄留部5，它的深度是以嘴半体1的厚度方向为基准而小于上述第1蓄留部4。将该第2蓄留部5的下边设计成为嘴半体1的宽度方向的中央部最低，随着向两端不断延伸而越来越高的V字状倾斜面8，形成的中央部比倾斜面8的两端8a、8a低0.5～3mm。
上述V字状倾斜面8的两端可以延伸到嘴的两端，但是在该实施例中，使倾斜面8的两端8a、8a从嘴的两端起位于内侧。具体而言，两端8a、8a是将根据作为现有技术的图6中所示的流下量的大小关系而得出的流下量变多的点，选定为当第2蓄留部5的下边为水平时涂敷液的流下量变得最多的点。这样就可使涂敷更加均一。
此外，在第2蓄留部5的下侧连续形成平坦面9，在该平坦面9与另一方的嘴半体2之间形成开口，在该开口的下端形成缝隙状排出口10。
此外，为了防止从第1蓄留部4、第2蓄留部5以及开口漏出涂敷液，可在嘴的两端安装端板11、12，此外，在设定嘴半体1、2的下部倾斜面1a、2a的角度时，与水平面所成的夹角大约为30～60°。
如上所述，由于第1蓄留部4是山形，所以从涂敷液供给孔6流入第1蓄留部4中的涂敷液，也就是现有技术中常集中在中央部的涂敷液会均等分配在左右，而且流入第2蓄留部5中。
若该第2蓄留部5的下边为水平时，则有流下量在两侧比其它地方变多的倾向，然而将第2蓄留部5的下边做成V字状倾斜面后，这样就可使流下量均一。
权利要求
1.一种缝隙嘴，在2个嘴半体的结合状态下，该缝隙嘴形成向下方开口的缝隙状排出口，其特征在于，在上述2个嘴半体中的一方上形成涂敷液的第1蓄留部，在与该第1蓄留部相连续的下侧形成第2蓄留部，该第2蓄留部以嘴半体的厚度方向为基准而浅于上述第1蓄留部，在与该第2蓄留部相连续的下侧设置平坦面，在平坦面与另一方的嘴半体之间形成下端为缝隙状排出口的开口，上述第1蓄留部按如下方式形成山形，即与形成在嘴半体的宽度方向的中央部上的涂敷液供给孔相连通的地方最高而两端变低，此外，上述第2蓄留部的下边形成嘴半体的宽度方向的中央部最低，随着向两端不断延伸而越来越高的V字状倾斜面。
2.如权利要求1所述的缝隙嘴，其特征在于，以上述V字状倾斜面的两端的始点，作为当上述第2蓄留部的下边为直线状时涂敷液的流下量变得最多的点。
全文摘要
本发明提供一种缝隙嘴，该缝隙嘴可使在基板上形成的涂膜厚度均一。在嘴半体(1)的与嘴半体(2)相面对的面上形成有涂敷液的第1蓄留部(4)以及第2蓄留部(5)。第1蓄留部(4)按如下方式形成山形，即宽度方向的中央部最高而两端变低，变得最高的中央部是与涂敷液供给孔(6)相连通的。此外，在变得最高的中央部上连通有排气孔(7)。在上述第1蓄留部(4)的下侧连续形成有第2蓄留部(5)，它的深度是以嘴半体(1)的厚度方向为基准而浅于上述第1蓄留部(4)。将该第2蓄留部(5)的下边设计成嘴半体(1)的宽度方向的中央部最低，随着向两端不断延伸而越来越高的V字状倾斜面(8)。
文档编号B05C5/02GK1806934SQ20061000613
公开日2006年7月26日 申请日期2006年1月19日 优先权日2005年1月19日
发明者高濑真治, 山口和伸, 中西达, 楫间淳生 申请人:东京応化工业株式会社