专利名称：基于珍珠岩片的干扰颜料的制作方法
基于珍珠岩片的干扰颜料本发明涉及具有珍珠岩芯的(干扰)颜料，其包含具有高折光指数的金属氧化物或(薄半透明)金属层，一种制备(干扰)颜料的方法和它们在漆料、喷墨印刷中、在用于染色织物中、用于着色涂料、印刷油墨、塑料、化妆品中、在陶瓷釉料和玻璃釉料中的用途。具有由透明载体材料如天然或合成云母、SiO2，或玻璃组成的芯的干扰颜料为已知的。例如参考 Gerhard Pfaff 和 Peter Reynders, Chem. Rev. 99(1999) 1963-1981。在大多数情况下，天然透明云母用作基质。天然云母为生物惰性的且因此可接受用于广泛应用。基质云母由厚度为约300-600nm且具有指定尺寸分布的薄微片组成。一种表征大量的生产并用作效果颜料基质的微片尺寸分布的特别有用的方法是沿着高斯曲线在微片的最低10体积％、50体积％和90体积％时分别指定微片尺寸。这种分类可表示为微片尺寸分布值Dltl (D (ν, 0. 1)), D50 (D (ν, 0. 5)、和D9tl (D (ν, 0. 9)。因此，一种具有某一尺寸DlO的基质就意味着其中10体积％的微片基质粒子具有至多为该值的尺寸。 例如，一种云母基颜料尺寸分布是，D10为10微米，D50为22微米，D90为45微米，则可这样描述10体积％的云母微片尺寸为至多且包含10微米，50体积％的微片尺寸为至多且包含 22微米，90体积％的微片尺寸为至多且包含45微米。基于涂覆有金属氧化物如铁氧化物、钛氧化物等的天然云母的珠光颜料的缺点在于它们由于铁氧化物杂质而在主色角或阴影侧发展对于云母而言特定的黄色，并且由于云母基质的大范围厚度分布和云母基质表面不平坦，干扰作用弱。本发明的目的是开发基于天然基质的其它珠光颜料，其将显示云母颜料的熟知优点(例如在各种基料体系中的良好施涂性能和环境相容性并且处理简单)，同时具有实现优秀光学效果的可能性，即提供基于天然基质的具有高色强度、强烈闪烁和/或色纯度的干扰颜料。包含片状珍珠岩基质和以下材料的颜料已经实现了所述目标(a)介电材料层，和/或(a’ )金属层，其中所述片状珍珠岩基质不包含大于5%的包含在经研磨的膨胀珍珠岩中的3D孪晶结构的粒子。该说法“包含介电材料层和/或金属层”的含义是，基质可涂覆一层介电材料层或金属层，或其可涂覆两层或更多层介电材料和/或金属。介电材料和金属可以相同或不同。 所谓的“多层”颜料实例会在下文给出。金属层特别是薄的半透明金属层。介电材料层特别是具有高折光指数的(金属)氧化物层。所述片状珍珠岩基质的尺寸分布表征为至少5微米，尤其至少8微米，甚至是至少10微米的D1C1(D(V，0. 1))；介于15和小于50微米之间，尤其是介于20和小于40微米之间的D5Q(D(v，0. 5)) ；35微米以上至小于85微米，尤其是40微米以上至小于75微米的 D90 (D (v,0. 9))。尺寸分布的含义是指至少10体积％的微片的尺寸为至多并包含至少5微米，至少 50体积％的玻璃微片的尺寸为至多并包含15微米至小于50微米，至少90体积％的玻璃微片的尺寸为至多并包含35微米至小于85微米。已经发现将Dltl移到至少5微米，尤其是到至少8微米，这样形成颜料的精细度变差，这使光发生散射，并对颜料形成的膜的闪烁度产生负面影响。通过将包含在经研磨的膨胀珍珠岩中的3D孪晶结构(3D twin structure)粒子的量减少到少于5重量％，尤其是少于3重量％，甚至是少于1重量％，3D孪晶结构粒子的消光效应会降低，这接着在各种应用中带来较好的色彩均一性。3D孪晶结构粒子指的是三或多臂、星形粒子，如
图1所示。珍珠岩片的平均厚度< 2 μ m，尤其是从200到lOOOnm，甚至是从200到600nm。优选地，珍珠岩基质的尺寸分布特征是=Dltl为5到15微米，D50为15 (尤其是20) 到40微米，D90为30 (尤其是50)到70微米。最优选的是珍珠岩基质的尺寸分布特征是 D10为8到13微米，D5tl为23到四微米，D9tl为50到56微米。珍珠岩粒子的粒子尺寸分布由激光衍射仪测得。图Ia是包含在经研磨的膨胀珍珠岩(像Optimat 2550 (来自于World Minerals))中的3D孪晶结构粒子的显微照片。图Ib是从经研磨的膨胀珍珠岩(像Optimat 2550 (来自于World Minerals)) 除去3D孪晶结构粒子和小于5微米的粒子后获得的微片状珍珠岩粒子的显微照片。图2 中能明显看到，粒子并不总是完美的平面，也就是说，会有凹陷。生产本发明干扰颜料的方法涉及用一或多种金属氧化物在湿法中涂覆不包含大于5重量％的包含在经研磨的膨胀珍珠岩中的3D孪晶结构粒子的珍珠岩片，通过水解相应水溶性金属化合物，通过分离、干燥和任选煅烧由此获得的颜料，或者通过在金属化合物存在下将珍珠岩薄片悬浮在包含介质的水性溶剂和/或有机溶剂中，并且通过添加还原剂将金属化合物沉积在珍珠岩薄片上。通过适当的薄片分类可以获得具有理想尺寸和尺寸分布的珍珠岩片状基质，例如通过所选的筛、沉降和离心进行分类。粒子尺寸在 ο μ m以下的粒子优选通过沉降去除。包含在经研磨的膨胀珍珠岩中的3D孪晶结构粒子和/或具有85 μ m以上粒子的粒子也优选通过沉降去除。珍珠岩芯用介电材料，尤其是具有高折光指数的金属氧化物涂覆，或者用金属层， 尤其是薄的半透明金属层涂覆。所述层可涂覆有另外的层。用于(半透明)金属层的适合的金属是诸如Cr、Ti、Mo、W、Al、Cu、Ag、Au或Ni。 半透明金属层通常厚度介于5到25nm之间，尤其是介于5到15nm之间。根据本发明，术语“铝”包括铝和铝的合金。铝的合金例如描述于G. Wassermarm in UllmannsElizyklopMdieder lndustriellen Chemie, 4. Auflage, Verlag Chemie, ffeinheim, Band 7，S. 281-292中。尤其适合的有描述于W000/U634第10-12页中的腐蚀稳定性的铝合金，其除铝外，还包含量小于20重量％，优选小于10重量％的硅、镁、锰、铜、 锌、镍、钒、铅、锑、锡、镉、铋、钛、铬和/或铁。金属层可通过湿化学涂覆或通过化学气相沉积，例如羰基金属的气相沉积而得到。基质在金属化合物的存在下悬浮于含介质的水性溶剂和/或有机溶剂中并通过加入还原剂沉积在基质上。金属化合物例如为硝酸银或乙酰丙酮镍(W003/37993)。根据US-B-3，536，520，氯化镍可用作金属化合物且次磷酸盐可用作还原剂。根据EP-A-353M4，如下化合物可用作湿化学涂覆的还原剂醛(甲醛、乙醛、苯甲醛)，酮(丙酮)，碳酸及其盐(酒石酸、抗坏血酸)，还原酮(异抗坏血酸、丙糖还原酮、还原酸)和还原糖(葡萄糖)。然而，也可使用还原醇(烯丙醇)、多元醇和多酚、亚硫酸盐、 亚硫酸氢盐、连二亚硫酸盐、次磷酸盐、胼、硼氮化合物、金属氢化物以及铝和硼的配位氢化物。金属层的沉积还可借助CVD方法进行。这种方法为已知的。为此，优选使用流化床反应器。EP-A-0741170描述了通过在惰性气体料流中使用烃还原烷基铝化合物而使铝层沉积。金属层还可通过相应羰基金属在可加热流化床反应器中气相分解而沉积，如 EP-A-045851所述。关于此方法的其它详情在W093/12182中给出。在此情况下可用于将金属层施用在基质上的沉积薄金属层的其它方法为对于金属在高真空中气相沉积已知的方法。它详细描述于 Vakuum-Beschichtung[Vacuum Coating]，第 1-5 卷；编者 Frey、 Kienel和Liibl, VDI-Verlag，1995中。在溅射方法中，气体排料(等离子体)在载体与片状(靶)涂料之间着火。涂料用来自等离子体的高能离子如氩离子冲击并因此除去或雾化(atomised)。雾化涂料的原子或分子沉淀在载体上并形成所需薄层。溅射方法描述于 Vakuum-Beschichtung[Vacuum Coating],第 1-5 卷；编者 Frey> Kienel 禾口L6bl， VDI-Verlag, 1995中。就室外应用而言，特别是在车辆漆料中的应用中，颜料可具有其它气候稳定性保护层，所谓后涂层，其同时实现最适应于基料体系。这种后涂层已例如描述于 EP-A-0268918 和 EP-A-0632109 中。如果需要具有金属外观的颜料，则金属层的厚度为> 25nm至lOOnm，优选 30-50nm。如果需要具有着色金属效果的颜料，则可使其它着色或无色金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物和/或金属层沉积。这些层为透明或半透明的。优选具有高折光指数的层与具有低折光指数的层交替或存在一层，其中折光指数在该层内逐渐改变。耐气候性可通过其它涂层提高，其同时导致最佳适应于基料体系(EP-A-268918和EP-A-632109)。如W006/131472所述，可将涂覆有金属和/或金属氧化物的珍珠岩片用等离子炬处理。该处理例如促进均勻结晶度和/或涂料稠化。某些粒子快速熔融和固化可提供与金属和/或金属氧化物涂层相关的增强性能如隔离性能、粘合性能和晶体表面形成。在反应区中的短停留时间使得快速处理。另外，可调整加工条件以选择性熔融和再固化且使粒子表面和近表面结晶。此外，可实现表面变平，这产生具有最小缺陷的均勻表面。这尤其可有助于避免粒子附聚。本方法包括(A)提供涂覆的珍珠岩片，(B)将所述涂覆的珍珠岩片夹带到气体料流中以输送至等离子炬；(C)在所述气体料流中产生等离子体以加热涂覆的珍珠岩片的外表面；(D)使所述涂覆的珍珠岩片冷却；和(E)收集所述涂覆的珍珠岩片。等离子炬优选感应等离子炬。优选用于本发明方法中的感应等离子炬可由Tekna Plasma Systems, Inc. of Sherbrooke, Quebec, Canada. Boulos 等，US-A-5, 200, 595 得至丨J, 在此将其关于等离子感应炬的构造和操作的教导引入作为参考。在本发明一个优选实施方案中，颜料在珍珠岩基质上包含(a)介电层，(b)金属层，和
(c)介电层。这种颜料具有高红外反射率和高可见透射。优选金属银用作金属层，这是由于它提供对红外辐射的高反射率以及对太阳辐射的高透射，条件是使它的反射损失最小化。尽管优选高纯度金属银膜，但可容许某些杂质和 /或合金金属，只要它们不显著降低红外反射率或显著提高可见光吸光系数。金属银层的厚度为 3-20nm。适于层(c)的材料为以所用厚度对太阳和红外辐射为透过的材料。另外，这些材料用作抗反射涂层以使银层对可见光的反射最小，且这些材料优选具有高折光指数。一些适于层(C)的材料包括，但不限于二氧化钛、二氧化硅、一氧化硅、铋氧化物、锡氧化物、铟氧化物、铬氧化物、硫化锌和氟化镁。由于二氧化钛的高折光指数以及由于已发现它具有与银的最小相互扩散，二氧化钛为优选的材料。适于层(a)的材料为透明材料，其与层(b)合作以使银层对可见光反射的损失最小化。适于层(c)的透明材料也适于层(a)，二氧化钛也为用于此层的优选材料。层(a)可由与层(c)相同的材料形成，或在它可能具有不同厚度的情况下由不同的材料形成。选择层(c)和层(a)的厚度以使太阳光透射和红外反射率最大。已发现约15-约 50nm的厚度适于层(C)。然后层(a)的厚度基于大量考虑而选择，例如是否需要实现最佳太阳光透射，透射与热反射率的最佳比或这些最佳值之间的一些组合。在大多数情况下，所需光学性能可通过选择约15-约50nm的层厚度而实现。在本发明一个优选实施方案中，干扰颜料包含具有“高”折光指数的材料，在这里 “高”折光指数定义为大于约1.65的折光指数，和任选具有“低”折光指数的材料，这里“低” 折光指数定义为约1. 65或更小的折光指数。可使用的各种(介电)材料包括无机材料如金属氧化物、金属低氧化物、金属氟化物、金属卤氧化物、金属硫化物、金属硫属元素化物、 金属氮化物、金属氧氮化物、金属碳化物、其组合等，以及有机介电材料。这些材料可容易得到且易于通过物理或化学气相沉积方法，或通过湿化学涂覆方法施用。任选S^2层可放在珍珠岩基质与具有“高”折光指数的材料之间。通过将S^2层施用在珍珠岩基质上，保护珍珠岩表面以防化学变化，例如珍珠岩组分溶胀或浸出。3102层的厚度为5-200nm，尤其是20-150nm。SW2层优选通过使用有机硅烷化合物如四乙氧基硅烷(TEOS)制备。SiO2层可由薄(厚度l-20nm)Al2O3、！^e2O3或&02层代替。此外，如EP-A-0982376所述，SW2涂覆或TW2涂覆的珍珠岩片可涂覆有氮掺杂的碳层。EP-A-0982376所述方法包括如下步骤(a)将SW2或TW2涂覆的珍珠岩片悬浮在液体中，(b)如果合适，加入表面改性剂和/或聚合催化剂，(c)在步骤(b)以前或以后，加入一种或多种包含氮和碳原子的聚合物，或一种或多种能形成这种聚合物的单体，(d)在该片的表面上形成聚合涂层，(e)分离涂覆的片，和(f)将涂覆的片在气体气氛中加热至100-600°C。聚合物可以为聚吡咯、聚酰胺、聚苯胺、聚氨酯、丁腈橡胶或三聚氰胺-甲醛树脂， 优选聚丙烯腈，或单体为吡咯衍生物、丙烯腈、甲基丙烯腈、巴豆腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺或巴豆酰胺，优选丙烯腈、甲基丙烯腈或巴豆腈，最优选丙烯腈。
优选在步骤(f)中将片首先在含氧气氛中加热至100-300°C，然后在惰性气体气氛中加热至200-600°C。因此，本发明还涉及基于本发明珍珠岩片的颜料，其在硅氧化物或钛氧化物涂覆的珍珠岩片整个表面上包含由50-95重量％碳、5-25重量％氮和0-25重量％元素氢、氧和 /或硫组成的层，其中重量百分数数据涉及该层(PAN)的总重量。氮掺杂的碳层的厚度通常为10-150nm，优选30-70nm。在所述实施方案中，优选
的颜料具有如下层结构珍珠岩基质/Ti02/PAN、珍珠岩基质/Ti02/PAN/Ti02、珍珠岩基质/ Ti02/PAN/Si02/PAN。在一个尤其优选的实施方案中，基于珍珠岩基质的干扰颜料包含具有“高”折光指数，即折光指数大于约1. 65，优选大于约2. 0，最优选大于约2. 2的介电材料层，将其施用在珍珠岩基质整个表面上。这种介电材料的实例为硫化锌(ZnS)、氧化锌(ZnO)、氧化锆(&02)、二氧化钛(TiO2)、碳、氧化铟αη203)、氧化铟锡(ITO)、五氧化钽(Ta2O5)、氧化铬(Cr2O3)、氧化铺(CeO2)、氧化钇(Y2O3)、氧化铕(Eu2O3)、铁氧化物如氧化铁(II)/铁 (III) (Fe3O4)和氧化铁(III) O^e2O3)、氮化铪(HfN)、碳化铪(HfC)、氧化铪(HfO2)、氧化镧 (Lei2O3)、氧化镁(MgO)、氧化钕(Nd2O3)、氧化镨(I^r6O11)、氧化钐(Sm2O3)、三氧化铺(Sb2O3) > 一氧化硅(SiO)、三氧化硒(Se2O3)、氧化锡(SnO2)、三氧化钨(WO3)或其组合。介电材料优选金属氧化物。金属氧化物可以为具有或不具有吸收性能的单一氧化物或氧化物的混合物， 例如 Ti02、ZrO2, Fe203> Fe3O4, Cr2O3 或 &ι0，其中尤其优选 Ti02。可通过在TW2层顶上施用具有低折光指数的金属氧化物如Si02、A1203、AIOOH, B2O3或其混合物，优选SiO2,并任选在后者层顶上施用另外TW2层而得到色彩更强且更透明的颜料(EP-A-892832、EP-A-753545, W093/08237、W098/5301U W09812266, W09838254、 W099/20695、W000/42111和EP-A-1213330)。可使用的适合的低折光指数介电材料的非限定性实例包括二氧化硅(SiO2)、氧化铝(Al2O3),和金属氟化物如氟化镁(MgF2)、氟化铝 (AlF3)、氟化铈(CeF3)、氟化镧(LaF3)、氟化钠铝(如 Na3AlF6 或 Na5Al3F14)、氟化钕(NdF3)、 氟化钐(SmF3)、氟化钡(BaF2)、氟化钙(CaF2)、氟化锂(LiF)、其组合，或折光指数为约1.65 或更小的任何其它低指数材料。例如，有机单体和聚合物可用作低指数材料，包括二烯或链烯如丙烯酸酯类(例如甲基丙烯酸酯)、全氟链烯的聚合物、聚四氟乙烯(TEFLON)、氟化乙烯丙烯聚合物(FEP)、聚对亚苯基二甲基、对二甲苯、其组合等。另外，上述材料包括蒸发、浓缩和交联的透明丙烯酸酯层，其可通过US-B-5，877，895所述方法沉积，在此将其公开内容引入作为参考。因此，除(a)高折光指数的金属氧化物外，优选的干扰颜料另外包含(b)低折光指数的金属氧化物，其中折光指数差为至少0. 1。以指定顺序特别优选已通过湿化学方法涂覆的基于珍珠岩基质的颜料Ti02、 (SnO2) TiO2 (基质珍珠岩；层(SnO2) TiO2，优选金红石改性)、低氧化钛、TiO2/低氧化钛、 Fe203> Fe3O4^ TiFe2O5^ Cr2O3> Zr02、Sn(Sb)02、BiOCl、A1203、Ce2S3> MoS2、Fe2O3 · TiO2 (基质 珍珠岩，F^O3和TW2的混合层)、TiO2A^2O3 (基质珍珠岩；第一层11 ；第二层F%03)、 TiO2/ 柏林蓝、Ti02/Cr203 或 Ti02/FeTi03。通常，层厚度为 1-lOOOnm，优选 l_300nm。在另一个特别优选实施方案中，本发明涉及含至少三层高与低折光指数的交替层如 Ti02/Si02/Ti02、(SnO2)Ti02/Si02/Ti02, Ti02/Si02/Ti02/Si02/Ti02, Fe203/Si02/Ti02 或Ti02/Si02/Fe203 的干扰颜料。优选层结构如下(a)折光指数为> 1. 65的涂层，(b)折光指数为彡1. 65的涂层，(c)折光指数为> 1. 65的涂层，和(d)任选外部保护层。在基体基质上的各个具有高和低折光指数的层的厚度对于颜料的光学性能而言为重要的。各个层，尤其是金属氧化物层的厚度取决于使用领域，并且通常为lO-lOOOnm，优选 15-800nm，特别是 20_600nm。层(A)的厚度为10-550nm，优选15_400nm，特别是20_350nm。层(B)的厚度为 lO-lOOOnm，优选 20-800nm，特别是 30-600nm。层(C)的厚度为 10_550nm，优选 15_400nm， 特别是20-350nm。特别适于层(A)的材料为金属氧化物、金属硫化物或金属氧化物混合物，例如 TiO2, Fe203> TiFe2O5, Fe3O4, BiOCl、CoO、Co3O4, Cr2O3> VO2, V2O3> Sn (Sb) 02、SnO2, ZrO2、钛酸铁， 铁氧化物水合物、低氧化钛(氧化态为2至< 4的还原钛属)、钒酸铋、铝酸钴，以及这些化合物相互之间的混合物或混合相或与其它金属氧化物的混合物或混合相。金属硫化物涂层优选选自锡、银、镧、稀土金属，优选铈、铬、钼、钨、铁、钴和/或镍的硫化物。特别适于层⑶的材料为金属氧化物或相应的氧化物水合物，例如Si02、MgF2, A1203、A100H、B2O3 或其混合物，优选 Si02。特别适于层(C)的材料为为无色或有色金属氧化物如Ti02、Fe2O3> TiFe2O5, Fe3O4, BiOCl、CoO、Co3O4, Cr2O3> VO2, V2O3> Sn (Sb) 02、SnO2, 、钛酸铁，铁氧化物水合物、低氧化钛 (氧化态为2至< 4的还原钛属)、钒酸铋、铝酸钴，以及这些化合物相互之间的混合物或混合相或与其它金属氧化物的混合物或混合相。T^2层可另外含吸收性材料如碳，选择性吸收性着色剂、选择性吸收性金属阳离子，可涂覆有吸收性材料或可被部分还原。吸收性或非吸收性材料的夹层可存在于(A)、(B)、(C)和⑶层之间。夹层的厚度为l-50nm，优选l-40nm，特别是l-30nm。这种夹层可例如由SnO2组成。可通过加入少量 SnO2强制形成金红石结构(例如见W093/08237)。在此实施方案中，优选的干扰颜料具有如下层结构
权利要求
1.颜料，其包含片状珍珠岩基质，和 (a)介电材料层和/或(a’ )金属层，其中所述片状珍珠岩基质不包含大于5重量％的3D孪晶结构粒子。
2.根据权利要求1所述的颜料，其中珍珠岩基质具有从15至50微米的平均粒子尺寸 (D50)。
3.根据权利要求1所述的颜料，其中珍珠岩基质的尺寸分布特征如下 D10至少为5微米，D50介于约15和小于50微米之间，并且 D90为35微米以上至小于85微米。
4.根据权利要求3所述的颜料，其中珍珠岩基质的尺寸分布特征如下 D10为5-10微米，D5。为20-40微米，并且 D90为50-70微米。
5.根据权利要求1所述的颜料，其中介电材料为高折光指数的金属氧化物，其选自 TiO2, ZrO2, Fe203> Fe3O4, Cr2O3> ZnO或这些氧化物的混合物或钛酸铁、水合氧化铁、低氧化钛或这些化合物的混合物和/或混合相。
6.根据权利要求5所述的颜料，其中颜料还包含(b)低折光指数金属氧化物，其中折光指数差至少是0.1。
7.根据权利要求6所述的颜料，其中低折光指数金属氧化物为Si02、Al203、AW0H、B203 或其混合物，其中可包含碱金属氧化物或碱土金属氧化物作为另外组分。
8.根据权利要求1-7任一项所述的颜料，其具有以下层结构
9.根据权利要求1-8任一项所述的颜料，其中珍珠岩芯的!^e2O3含量小于2%，尤其是0%。
10.根据权利要求1-4或9任一项所述的颜料，其包含Al203/Ti&混合层、或MgO/TiA 混合层，或介电层/金属层/介电层。
11.根据权利要求1-10任一项所述的颜料，其中珍珠岩片平均厚度<2μ m，特别是200 至lOOOnm，尤其特别的是200至600nm。
12.颜料混合物，其包含两种不同组分A和B，其中组分A为根据权利要求1-11任一项所述的颜料，而成分B为有机、无机颜料或效果颜料。
13.生产权利要求1所述的干扰颜料的方法，其通过使用一种或多种金属氧化物在湿法中涂覆不包含大于5重量％的3D孪晶结构粒子的珍珠岩片，通过水解相应水溶性金属化合物，通过分离、干燥和任选煅烧由此得到的颜料，或通过在金属化合物的存在下在含有介质的水性溶剂和/或有机溶剂中悬浮珍珠岩片， 并通过添加还原剂使金属化合物沉积在珍珠岩片上。
14.根据权利要求1-11任一项所述的的颜料，或根据权利要求12所述的颜料混合物， 在漆料、喷墨印刷，在用于染色纺织品、在用于着色涂料、印刷油墨、塑料、化妆品、陶瓷釉和玻璃釉中的用途。
15.漆料、印刷油墨、塑料、化妆品、陶瓷和玻璃，其用根据权利要求1-11任一项所述的颜料或根据权利要求12所述的颜料混合物着色。
全文摘要
本发明涉及颜料，其包含不包含大于5重量％的包含在经研磨的膨胀珍珠岩中的3D孪晶结构粒子的片状珍珠岩基质，和(a)介电材料，特别是金属氧化物，具有高折光指数；和/或(a)金属层，特别是薄的半透明金属层它们的生产方法和它们在漆料、喷墨印刷，在用于染色纺织品、在用于着色涂料、印刷油墨、塑料、化妆品、陶瓷釉和玻璃釉中的用途。
文档编号C09C1/00GK102245715SQ200980149922
公开日2011年11月16日 申请日期2009年12月1日 优先权日2008年12月11日
发明者M·贝桑, P·比尼翁, P·比雅尔 申请人:巴斯夫欧洲公司