专利名称：用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液的制作方法
技术领域：
本发明涉及以稀土氧化物为基础的、用于玻璃、含硅化合物表面加工的酸性抛光液技术领域，尤其是一种用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液。
背景技术：
当前玻璃以及含硅化合物抛光主要以大颗粒稀土氧化物粉做抛光摩擦剂，总体抛光速率低，分散稳定性差，容易导致严重的表面划伤，还存在平化抛光效率低等缺陷。长时间抛光往往大大降低抛光效率，造成抛光机的迅速磨损，生产效率低，以及大量的耗材消费。同时，现在抛光エ艺所用抛光粉固含量高，难于清洗，固体废料量大，对环境污染与处理造成很大负担。稀土抛光粉的抛光效率在学术界普遍认为在与玻璃表面的零电位时的pH条件下 是最高的。这也是抛光粉配置成抛光液时的PH值接近中性的原因。
发明内容
为了克服现有的抛光液抛光效率低的不足，本发明提供了一种用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液。本发明的目的是提供ー种稀土氧化物为基础的玻璃以及含硅化合物的酸性抛光液，与传统稀土氧化物抛光粉相比，该分散稳定性好、抛光效率高。本发明解决其技术问题所采用的技术方案是一种用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液，包括含铈稀土氧化物抛光粉，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基团的羧酸聚合物，PH值为2. 0-5. O。根据本发明的另ー个实施例，进ー步包括含铈稀土氧化物的铈含量在稀土氧化物中不少于45%wt。根据本发明的另ー个实施例，进ー步包括含有羧基的高分子聚合物为聚合马来酸酐，含羧基酰胺化合物，聚合氨基酸中的至少ー种。所述含酰胺基团的羧酸聚合物是聚丙烯酸酰胺。本发明酸性抛光液悬浮性强，不宣沉积，分散稳定性好，在玻璃以及含硅化合物抛光吋，抛光效果稳定，切削率高，抛光粉用量少，表面缺陷低，抛光无划痕，可有效提高平化抛光效率。本发明的制备方法包括以下步骤
(1)将含有羧基的高分子聚合物为含羧基酰胺化合物加入水中，彻底溶解，搅拌均匀；
(2)含铈稀土氧化物分散在如上液体中制成悬浮液；
(3)用碱调整混合悬浮液的pH为2.0-5. 0 ；
整个制备エ艺简単、易于操作，方便生产，生产效率高，产品质量稳定。通过上述エ艺制备的玻璃以及含硅化合物抛光加速剂与抛光粉按1:5 1:20比例在适当的溶剂中混合，可以广泛应用于玻璃以及含硅化合物的研磨抛光。
其中抛光粉为含铈稀土氧化物，含铈稀土氢氧化物，含铈混合稀土氢氧化物，氧化铝，氢氧化铝，氧化锆，氢氧化锆，钻石粉中的至少ー种。适当的溶剂是水。本发明的有益效果是，本发明的抛光液分散均匀、稳定，整个制备エ艺简单、易于操作，方便生产，生产效率高，产品质量稳定。同时本发明抛光液中不含有稀土氧化剂，使用时则通过加入小粒径的非稀土氧化物如氧化铝等或少量稀土氧化物抛光粉形成抛光液从而对玻璃或含硅化合物进行抛光，这样大大减少了被抛光物品的表面划伤，降低抛光机的磨损，延长了抛光机的使用寿命。且配制抛光液时抛光粉用量少，易清洁，还減少了对环境的污染。
具体实施例方式以下结合具体实施例对本发明做进ー步详细说明。实施例一
称取250克环氧琥珀酸纳，加入5000克水中，搅拌均匀。再加入550克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光液，用氢氧化钠调节PH至2. 5,3. 5,4. 5，即可使用。将所制样品在Logitech⑶P单面抛光机上抛光。下压lpsi,下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为I. 22，I. 18，I. 07微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。实施例ニ
分别称取3，35，350克水解聚马来酸酐(分子量800)，100克聚环氧丙烷醇醚，加入5000克水中，搅拌均匀。再加入550克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光 液，调节PH至3. 5，即可使用。将所制样品在Logitech⑶P单面抛光机上抛光。下压lpsi,下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为0. 88，I. 03，I. 32微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。比较例
在5000克水中，加入550克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光液，调节pH至2. 5，3. 5，4. 5，5. 5，7. 5，即可使用。将所制样品在Logitech⑶P单面抛光机上抛光。下压lpsi,下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为0. 53，0. 67，0. 70，0. 71，0. 85微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
权利要求
1.一种用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液，其特征是，它包括含铈稀土氧化物抛光粉，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基团的羧酸聚合物，pH值为2. 0-5. O。
2.根据权利要求I所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液，其特征是，所述含铈稀土氧化物抛光粉在液体中的比例为0. l-60%wt。
3.根据权利要求I所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液，其特征是，所述分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基团的羧酸聚合物的含量为0. l-10%wt。
4.根据权利要求3所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液，其特征是，所述分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基团的羧酸聚合物的含量为0. 2-5. 0%wto
5.根据权利要求3所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液，其特征是，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基团的羧酸聚合物的含量为0. 3-1. 0%wto
6.根据权利要求I所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液，其特征是，所述含酸酐的羧酸聚合物是聚马来酸酐。
7.根据权利要求I所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液，其特征是，所述含酰胺基团的羧酸聚合物是聚丙烯酸酰胺。
全文摘要
本发明涉及以稀土氧化物为基础的、用于玻璃、含硅化合物表面加工的酸性抛光液技术领域，尤其是一种用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液。它包括含铈稀土氧化物抛光粉，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基团的羧酸聚合物，pH值为2.0-5.0。本发明的抛光液分散均匀，生产效率高，产品质量稳定。同时本发明大大减少了被抛光物品的表面划伤，降低抛光机的磨损，延长了抛光机的使用寿命。且配制抛光液时抛光粉用量少，易清洁，减少了对环境的污染。
文档编号C09G1/02GK102649897SQ20121011238
公开日2012年8月29日 申请日期2012年4月17日 优先权日2012年4月17日
发明者周涛, 孙韬 申请人:江苏中晶科技有限公司