膜、具有膜的设备、电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备的制作方法
【专利摘要】提供对由磨耗引起的摩擦系数增加的抗性的膜。所述膜具有硬度为0.01至3GPa的第一部分和第二部分。第二部分与第一部分的硬度之比为1.2至30。第一部分和第二部分分别形成膜的第一表面区域和第二表面区域。第一部分和第二部分各自延伸至膜厚度的75%以上的深度。在膜表面的任意位置上的1mm×1mm正方形区域中，第二表面区域占正方形区域的10面积%至80面积%，第一表面区域和第二表面区域占正方形区域的50面积%以上。
【专利说明】膜、具有膜的设备、电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
【技术领域】
[0001]本发明涉及具有新结构的膜和包括所述膜的设备。本发明还涉及包括所述膜作为表面层的电子照相感光构件以及各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
【背景技术】
[0002]存在通过采用特定表面形状来控制摩擦的技术。例如，在工业用机械材料领域中，专利文献I公开了可以通过在轴承构件表面上设置凸部来减小轴承构件与轴之间的摩擦。
[0003]专利文献3公开了可以通过在滑动件表面上设置蜂窝结构来减小磁头滑动件的摩擦。
[0004]在对于有机功能构件的一个应用中，专利文献2公开了在如电子照相感光构件或中间转印构件的调色剂图像载体的表面(外表面)上的凹凸可以便于除去表面上残留的调色剂颗粒和防止清洁刮板在表面上卷曲(caught)(刮板翅起(blade curling))。
[0005]专利文献4公开了在电子照相感光构件表面上包括平滑的凸部(convexprotrusion)的凹凸可以防止清洁刮板变为反转。
[0006]根据另一技术，构件包含润滑剂从而控制摩擦。
[0007]引文列表
[0008]专利文献
[0009]专利文献I日本专利特开2002-106578
[0010]专利文献2日本专利特开2005-128510
[0011]专利文献3日本专利特开9-219077
[0012]专利文献4日本专利特开7-092697
【发明内容】
[0013]发明要解决的问题
[0014]然而，表面上的凹凸通过长期的摩擦会磨耗。这增加表面的摩擦系数。
[0015]本发明提供抵抗由长期使用后的凹凸的磨耗引起的摩擦系数增加的膜以及包括所述膜的设备。本发明还提供包括所述膜作为表面层的电子照相感光构件以及各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
[0016]用于解决问题的方案
[0017]根据本发明的第一方面，膜具有硬度不同的第一部分和第二部分，其中第一部分具有通过连续刚性测量法确定的在0.01至3GPa范围内的硬度(HJGPa])，第二部分的通过连续刚性测量法确定的硬度OUGPa])与第一部分的通过连续刚性测量法确定的硬度(H1 [GPa])之比(H2M1)在1.2至30范围内，
[0018]第一部分形成膜的第一表面区域，第二部分形成膜的第二表面区域，
[0019]第一部分和第二部分各自延伸至膜厚度的75%以上的深度，和[0020]在膜表面的任意位置上的ImmXlmm正方形区域中，第二表面区域占正方形区域的10面积％至80面积％，第一表面区域和第二表面区域占正方形区域的50面积％以上。
[0021]根据本发明的第二方面，设备包括包含膜的构件和配置为与膜的表面以一定速度接触的接触构件。
[0022]根据本发明的第三方面，电子照相感光构件包括膜作为表面层。
[0023]根据本发明的第四方面，处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体，所述处理盒支承:电子照相感光构件和用于清洁电子照相感光构件表面的清洁单元。所述电子照相感光构件为根据第三方面的电子照相感光构件，所述清洁单元具有配置为与电子照相感光构件表面接触的清洁刮板。
[0024]根据本发明的第五方面，电子照相设备包括:电子照相感光构件，充电单元，曝光单元，显影单元，转印单元和用于清洁电子照相感光构件表面的清洁单元。电子照相感光构件为根据第三方面的电子照相感光构件，清洁单元具有与电子照相感光构件表面接触的清洁刮板。
[0025]发明的效果
[0026]根据本发明第一方面的膜中，第一部分具有较低硬度并且比第二部分更容易磨耗。因此，重复使用所述膜使第一部分凹陷和第二部分凸起。这些凹凸可以使得膜与接触构件接触的表面面积减小和膜与接触构件之间的摩擦减小。重复使用膜使硬度低的第一部分而不是硬度高的第二部分磨耗。这使得以甚至长期使用时第一部分和第二部分之间的高度差也基本上恒定的方式保持包括凸起的第二部分的凹凸。因此，膜可以长期具有低的摩擦系数。
【专利附图】
【附图说明】
[0027]图1为根据本发明实施方案的膜的俯视图。
[0028]图2为膜的截面图。
[0029]图3为根据本发明实施方案的具有凹凸的膜的截面图。
[0030]图4为根据本发明另一实施方案的膜的俯视图。
[0031]图5为根据本发明再一实施方案的膜的俯视图。
[0032]图6为图5中所示的膜的截面图。
[0033]图7为润滑性磨耗粉在凹部中累积的根据本发明再一实施方案的具有凹凸的膜的截面图。
[0034]图8为各自具有一定的线宽和一定的开孔径的正方型镍网格(nickel mesh)或平织不锈钢网格的示意图。
[0035]图9为具有一定的线宽和一定的开孔径的蜂窝型镍网格的示意图。
[0036]图10为示意图说明用于在电子照相感光构件表面周围放置光掩模的方法。
[0037]图11为说明用于通过使聚氨酯橡胶刮板抵接电子照相感光构件来测量摩擦系数的方法的示意图。
[0038]图12为包括具有根据本发明实施方案的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意图。【具体实施方式】
[0039]图1为根据本发明实施方案的膜的俯视图。图2为膜的截面图。图3为根据本发明实施方案的具有凹凸的膜的截面图。图1至3中，膜具有第二部分10和第一部分11。图2和3中，膜的上侧与接触构件接触。
[0040]第一部分11具有比第二部分10低的硬度并且在膜以一定的速度与接触构件接触使用时更容易磨耗。如图3中所示，这导致包括各自由第二部分10形成的凸部和各自由第一部分11形成的凹部的凹凸。所述凹凸可以使得膜与接触构件接触的表面面积减小和膜与接触构件之间的摩擦减小。第二部分10的磨耗同时诱导第一部分11的磨耗，由此长期保持凹凸。因此，膜表面可以长期具有低的摩擦系数。
[0041]通过使第一部分11的折射率与第二部分10的折射率基本上相等，可以减小通过光散射引起的外观变化。这可以减少光学构件的分辨率劣化。因此，本发明可以合适地体现在电子照相应用中。
[0042]如图4中所示，由第一部分411形成的第一表面区域可以被由第二部分410形成的第二表面区域包围。图4为根据本发明另一实施方案的膜的俯视图。膜的重复使用使第一部分411 (由第一表面区域411形成的第一表面区域)凹陷和第二部分410凸起。因此，可以在凹陷的第一部分、凸起的第二部分和接触构件之间的密闭空间中捕获空气。空气的压缩产生排斥力。排斥力可以减少负荷压力(膜与接触构件之间的接触压力)，由此进一步减少膜与接触构件之间的摩擦。此处，密闭空间意指当膜与接触构件接触时通过凹陷的第一部分411和接触构件形成的密闭空间。
[0043]根据本发明实施方案的膜可以通过将由如丙烯酸酯、不饱和聚酯、环氧、氧杂环丁烷或乙烯基醚的紫外线固化性树脂或电子束固化性树脂单体(和如果需要的下述润滑剂)制成的聚合物膜通过光掩模或电子束掩模用紫外线或电子束照射来制造。可以通过改变聚合物膜的交联密度从而具有不同硬度来形成第一部分和第二部分。
[0044]紫外线固化性树脂或电子束固化性树脂单体的实例包括但不限于以下化合物。
[0045]
【权利要求】
1.一种膜，所述膜包括具有不同硬度的第一部分和第二部分，其中所述第一部分具有通过连续刚性测量法确定的在0.0l至3GPa范围内的硬度(HJGPa])，所述第二部分的通过连续刚性测量法确定的硬度(H2 [GPa])与所述第一部分的通过连续刚性测量法确定的硬度(H1 [GPa])之比(H2M1)在1.2至30范围内， 所述第一部分形成所述膜的第一表面区域，所述第二部分形成所述膜的第二表面区域， 所述第一部分和所述第二部分各自延伸至所述膜厚度的75%以上的深度，和在所述膜表面的任意位置上的ImmX Imm正方形区域中，所述第二表面区域占所述正方形区域的10面积％至80面积％，所述第一表面区域和所述第二表面区域占所述正方形区域的50面积％以上。
2.根据权利要求1所述的膜，其中所述第一部分和所述第二部分由紫外线固化性树脂形成。
3.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述第二部分贯通所述膜。
4.根据权利要求1至3任一项所述的膜，其中在所述膜表面的任意位置上的1_XImm正方形区域中，所述第一表面区域和所述第二表面区域占所述正方形区域的100面积％。
5.根据权利要求1至4任一项所述的膜，其中所述膜表面上的所述第一表面区域被所述第二表面区域包围。
6.根据权利要求1至5任一项所述的膜，其中所述膜包含润滑剂。
7.一种设备，所述设备包括:包含根据权利要求1至6任一项所述的膜的构件；以及配置为与所述膜的表面以一定速度 接触的接触构件。
8.一种电子照相感光构件，所述电子照相感光构件包括根据权利要求1至6任一项所述的膜作为表面层。
9.一种处理盒，所述处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体，所述处理盒支承: 电子照相感光构件，和 用于清洁所述电子照相感光构件表面的清洁单元， 其中， 所述电子照相感光构件为根据权利要求8所述的电子照相感光构件，和 所述清洁单元具有与所述电子照相感光构件表面接触的清洁刮板。
10.一种电子照相设备，所述电子照相设备包括: 电子照相感光构件， 充电单元， 曝光单元， 显影单元， 转印单元，和 用于清洁所述电子照相感光构件表面的清洁单元， 其中， 所述电子照相感光构件为根据权利要求8所述的电子照相感光构件，和 所述清洁单元具有与所述电子照相感光构件表面接触的清洁刮板。
【文档编号】B05D5/00GK103476842SQ201280017969
【公开日】2013年12月25日 申请日期:2012年4月5日 优先权日:2011年4月12日
【发明者】白山和久, 宫内阳平, 吉村公博, 菊地宪裕 申请人:佳能株式会社