一种高粘高反射率超薄胶带的制作方法

文档序号:14681279发布日期:2018-06-12 22:17阅读:265来源:国知局

本实用新型涉及一种高粘高反射率超薄胶带,属于胶带及电子配件粘结技术领域。



背景技术:

超薄胶带可以使电子产品紧凑的内部空间得以充分利用,并且有利于散热。电子产品超薄化设计对所用胶带也提出了更高的要求,既薄又具备高性能的胶带受到了热切关注。但是由于超薄的载体在涂布过程中因受到拉伸张力而特别容易断裂或者褶皱,使得超薄胶带的发展受到了束缚。

胶带厚度降至极薄的同时,还必须具有超高的粘接强度和内聚强度, 否则由于高反弹应力被粘材料会被弹开,不能用于永久贴合。干胶厚度与粘性高低成正比,因此将胶带做到超薄的同时,让其具备高粘,高保持力等高性能是胶带行业的一大挑战。

高反射率胶带在市场上受到了较高的关注。其识别度强,可用于CCD定位,有助于提高自动化,也可用于LCD与背光模块的固定。拥有超薄结构的同时具备高反射率高粘性能是胶带行业的一个新挑战。



技术实现要素:

有鉴于此,本实用新型针对现有技术难题,提供了一款高粘高反射率超薄胶带。应用于石墨等导热材料永久贴合,LCD与背光模块的固定,具备CCD定位功能,可充分利用电子产品紧凑的内部空间,有利于导热,有利于有助于提高自动化。

本发明目的通过以下技术方案得以实现。

一种高粘高反射率超薄胶带,其特征在于:包括一面经电晕处理的聚酯薄膜基材层、反射层、硬化涂层、胶层和离型层,所述的反射层、硬化涂层依次叠加于聚酯薄膜基材层的电晕面,所述的胶层、离型层依次叠加于聚酯薄膜基材层的非电晕面。

所述基材为透明聚氨酯薄膜,厚度为1.9-5.0微米,一面经电晕处理,一面未经电晕处理。电晕处理有利于反射层很好的附着于基材表面,在使用过程中避免了剥落现象的发生。

所述反射层为涂布在基材电晕面的亚白油墨,厚度2.0-4.0微米,光泽度GU值2±1,色相L:92.5±2.5,a:0±1,b:-1±1,耐酒精、耐橡皮差性能优越,反射率≥88%。高反射率可以使产品具备高识别度,可用于CCD定位,有助于提高自动化。

所述胶层为亚克力压敏胶,涂布在基材非电晕面。胶层厚度为2.0-6.0微米,剥离强度>600.0gf/in。高剥离力可以应用于永久贴合。

所述硬化涂层为UV油层,厚度为0.1-0.5微米。可保护反射层使其不被刮伤。

所述离型层为涂布离型物质的聚酯薄膜。

本实用新型与现有技术相比,其优点在于:兼具超薄型设计、高反射率及高粘性能,永久贴合,节约空间,提升自动化程度。

附图说明

图1为本发明一种高粘高反射率超薄胶带的结构示意图。

附图标记:1-一面经过电晕处理的聚酯薄膜层,2-反射层,3-硬化涂层,4-胶层,5-离型层。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型作进一步描述。

实施例1。

所述高粘高反射率超薄胶带,包括一面经过电晕处理的聚酯薄膜基材层、反射层、硬化涂层、胶层、离型层。所述的反射层、硬化涂层依次叠加于聚酯薄膜基材层的电晕面,所述的胶层、离型层依次叠加于聚酯薄膜基材层的非电晕面。

上述聚酯薄膜基材厚度1.9微米。

上述反射层厚度2.0微米,反射率88.0%。

上述胶层厚度2.0微米,剥离强度712.0 gf/in。

上述硬化涂层0.1微米。

实施例2。

所述高粘高反射率超薄胶带,包括一面经过电晕处理的聚酯薄膜基材层、反射层、硬化涂层、胶层、离型层。所述的反射层、硬化涂层依次叠加于聚酯薄膜基材层的电晕面,所述的胶层、离型层依次叠加于聚酯薄膜基材层的非电晕面。

上述聚酯薄膜基材厚度4.0微米。

上述反射层厚度3.0微米,反射率89.6%。

上述胶层厚度4.0微米,剥离强度912.0gf/in。

上述硬化涂层0.4微米。

实施例3。

所述高粘高反射率超薄胶带,包括一面经过电晕处理的聚酯薄膜基材层、反射层、硬化涂层、胶层、离型层。所述的反射层、硬化涂层依次叠加于聚酯薄膜基材层的电晕面,所述的胶层、离型层依次叠加于聚酯薄膜基材层的非电晕面。

上述聚酯薄膜基材厚度5.0微米。

上述反射层厚度4.0微米,反射率88.9%。

上述胶层厚度6.0微米,剥离强度1246.0gf/in。

上述硬化涂层0.5微米。

实施例4。

所述高粘高反射率超薄胶带,包括一面经过电晕处理的聚酯薄膜基材层、反射层、胶层、离型层。所述的反射层叠加于聚酯薄膜基材层的电晕面,所述的胶层、离型层依次叠加于聚酯薄膜基材层的非电晕面。

上述聚酯薄膜基材厚度3.0微米。

上述反射层厚度2.0微米,反射率89.1%。

上述胶层厚度2.0微米,剥离强度742.0gf/in。

上述硬化涂层0.2微米。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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