本发明实施例涉及污染土壤修复技术领域，具体涉及一种修复镉—汞复合污染的土壤调理剂及应用方法。
背景技术：
镉是植物生长的非必须元素，植物吸收镉达到一定含量时会表现出毒害症状，人体积累镉到一定程度时会严重危害健康。土壤镉除自然原因外主要来源于工业“三废”和含镉肥料的长期大量施用。而随着我国工业化进程的不断加快，采矿、冶炼等不断发展，大量含镉废水废弃物未经安全处理直接进入农田，导致土壤镉污染。汞污染主要以工业“三废”的形式存在，但因汞化合物可作农药实用，在曾经的一段时期被大量投加入农田，造成土壤汞超标，农产品汞污染。
目前，土壤镉—汞污染修复的主要途径是改变其在土壤中的存在形态，降低其在环境中的迁移能力和生物有效性；或利用客土法、植物修复法，将重金属从土壤中彻底去除。而客土、换土法虽然切实有效，但工程量大、投资高且需花费大量人力财力，只适用于局部严重污染土壤的治理。植物修复法对植物要求高，修复周期长，且富集后的植物秸秆仍需进一步处理，难以在短期内见效。化学修复则是通过向污染土壤中添加改良剂，固定重金属，以降低植物对重金属的吸收，是时下较为普遍和见效快的修复方法。常用的改良剂有石灰、天然矿石、钙镁磷肥、生物秸秆等。
目前，针对单一重金属污染的土壤调理剂种类较多，针对镉—汞复合污染的土壤调理剂少，如专利(申请号：201310265005.2)公开了一种土壤镉调理剂及其制备方法和应用，具体公开了赤泥、秸秆、石灰、磷肥等组合使用，其主要技术是降低土壤有效镉含量，但修复效果单一、无法固定汞等其他重金属。
技术实现要素：
为此，本发明实施例提供一种可同时修复镉—汞复合污染土壤的调理剂及其应用方法，该调理剂用量小、不影响土壤结构且具有长效稳定性，以解决现有技术中的问题。
为了实现上述目的，本发明的实施方式提供如下技术方案：
在本发明的实施方式的第一方面中，提供了一种修复镉—汞复合污染的土壤调理剂，按重量份数计包括以下原料组分：
海泡石10-30份，硅化物10-40份，生物炭5-20份，高岭土5-20份，硫代硫化物5-20份。
优选地，所述海泡石为粉状黏土矿物。
优选地，所述硅化物为硅酸盐，具体采用硅酸钙或硅酸钠。
优选地，所述生物炭为粉状固体生物炭颗粒。
优选地，所述高岭土为以高岭石为主的非金属矿物。
优选地，所述硫代硫化物为硫代硫酸盐，具体为硫代硫酸钠或硫代硫酸钙。
在本发明的实施方式另一个方面中，还提供了一种修复镉—汞复合污染的土壤调理剂应用方法，包括如下步骤：
步骤1：取待修复的含镉—汞污染土壤，备用；
步骤2：将配置好的土壤调理剂加入所述含镉—汞污染土壤中，搅拌至含镉—汞污染土壤与土壤调理剂充分均匀混合；
步骤3：稳定化养护10-12天后得到修复后的土壤。
优选地，所述土壤调理剂的添加比例为每亩含镉—汞污染土壤质量的0.05％-0.5％。
本发明的实施方式具有如下优点：
本发明可同时修复镉—汞复合污染土壤，用量小、不影响土壤结构、具有长效稳定性；
本发明的土壤调理剂能实现对土壤中镉—汞复合污染的原位修复，降低土壤中镉—汞生物有效性；本技术利用环境友好型原材料制作，具有长效稳定性，能有效防止稳定化的重金属重新释放，本技术添加量在0.5％以内，添加量少，能够保证土壤原有结构不被破坏。
具体实施方式
以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
本发明土壤调理剂的重量份数组分为：
海泡石20份，硅化物35份，生物炭10份，高岭土20份，硫代硫化物15份。
将上述各组分均匀混合配制成调理剂。
取待修复的含镉—汞污染土壤，将配置好的土壤调理剂加入上述土壤中，搅拌至污染土壤与调理剂充分均匀混合，稳定化养护10天后得到修复后的土壤。
实施例2：
本发明土壤调理剂的重量份数组分为：
海泡石30份，硅化物10份，生物炭20份，高岭土20份，硫代硫化物20份。
将上述各组分均匀混合配制成调理剂。
取待修复的含镉—汞污染土壤，将配置好的土壤调理剂加入上述土壤中，搅拌至污染土壤与调理剂充分均匀混合，稳定化养护10天后得到修复后的土壤。
实施例3：
本发明土壤调理剂的重量份数组分为：
海泡石10份，硅化物40份，生物炭15份，高岭土20份，硫代硫化物15份。将上述各组分均匀混合配制成调理剂。
取待修复的含镉—汞污染土壤，将配置好的土壤调理剂加入上述土壤中，搅拌至污染土壤与调理剂充分均匀混合，稳定化养护10天后得到修复后的土壤。
虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施例对本发明作了详尽的描述，但在本发明基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本发明要求保护的范围。