一种光学双面胶带的制作方法

文档序号:9300121阅读:455来源:国知局
一种光学双面胶带的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种光学双面胶带,属于光学材料领域。
【背景技术】
[0002] OCA光学胶(Optically Clear Adhesive)是触摸屏的重要原材料之一,其优点是 清澈度、高透光性、高黏着力,是目前用于液晶及触控屏幕的主要材料之一。
[0003] OCA光学胶通常将光学亚克力胶做成无基材,然后在上下底层再各贴合一层离型 薄膜,是一种无基体材料的双面贴合胶带。
[0004] OCA无基材光学胶具有优异的各项性能,但在生产、加工、使用过程中存在以下问 题需要解决:
[0005] 1、无基材胶带生产难度大,成品良率低,对设备性能要求高;
[0006] 2、胶层厚度通常较厚,溶剂不宜挥发,生产车速慢(1-10米/分钟),产量低;
[0007] 3、后续加工、模切困难;
[0008] 4、胶膜强度低,使用时易产生形变,对可操作性要求高。
[0009] 因此,本领域的技术人员致力于开发一种全新的OCA光学胶,以解决上述问题。

【发明内容】

[0010] 本发明的目的旨在克服上述现有OCA无基材光学胶技术中的不足,提供一种全新 的有基材光学双面胶带,具有工艺简便、性能优良、方便后续加工和模切等优点。
[0011] 为实现上述目的,本发明提供了一种光学双面胶带,包括,一层透明光学薄膜层 (104),所述透明光学薄膜层(104)的两个表面上各设有一层压敏胶层(102, 106),所述各 压敏胶层(102, 106)远离所述透明光学薄膜层的一面上设有一层离型膜层(101,107)。
[0012] 优选地,所述压敏胶层(102, 106)通过涂布形成在所述透明光学薄膜层(104)上, 所述离型膜层(101,107)通过覆贴形成在所述压敏胶层(102,106)上。
[0013] 优选地,所述压敏胶层,其中一层(102)材料为有机硅类压敏胶、有机氟硅类压敏 胶、丙烯酸类压敏胶、聚氨酯类压敏胶或橡胶类压敏胶,另一层(106)材料为有机硅类压敏 胶、有机氟硅类压敏胶、丙烯酸类压敏胶、聚氨酯类压敏胶或橡胶类压敏胶。
[0014] 优选地,所述各压敏胶层(102, 106)和透明光学薄膜层(104)之间均通过涂布形 成一层表面处理层(103, 105)。
[0015] 优选地,所述表面处理层,其中一层(103)材料包括有机硅树脂、有机氟硅树脂、 丙烯酸树脂、有机硅改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂或聚酯树脂,另一层(105)材料包括有机 硅树脂,有机氟硅树脂、丙烯酸树脂、有机硅改性丙烯酸树脂、聚氨酯树脂或聚酯树脂。
[0016] 优选地,所述表面处理层(103,105)材料还包括光学改性剂,如光学染料、折光率 改性剂等。
[0017] 优选地,所述透明光学薄膜层(104)材料为聚酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚 碳酸酯薄膜或三醋酸纤维素薄膜。
[0018] 优选地,所述离型膜层(101,107)材料为有机硅离型膜、无硅离型膜、或氟素离型 膜,所述离型膜的基材为PET、PC、PP或合成纸。
[0019] 本发明提供的光学双面胶带,具有以下有益效果:
[0020] 1、相对于无基材的光学胶对离型膜要求高,工艺复杂,且胶膜强度低,使用时易产 生形变,后续加工和模切困难,本发明提供的有基材的光学胶工艺简单,不易产生形变,方 便后续加工和模切;
[0021] 2、无基材的光学胶只能为一种胶,而本发明提供的有基材的光学胶可根据需要使 用两种不同的胶,可满足一些特殊领域需要不同胶贴合不同基材的要求;
[0022] 3、表面处理层不仅可以增加上下两层的粘合度,还可以通过加入添加剂的方式以 此改善光学性能。
[0023] 以下将结合附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明,以 充分地了解本发明的目的、特征和效果。
【附图说明】
[0024] 图1是本发明较佳实施例的光学双面胶带的断面结构示意图;
[0025] 图2本发明另一较佳实施例的光学双面胶带的断面结构示意图。10U107为离型 膜层;102、106为压敏胶层;103、105为表面处理层;104为光学透明薄膜层。
【具体实施方式】
[0026] 实施例1 :
[0027] 将丙烯酸压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布在厚度为0· 05mm、宽度为1000 mm光学聚 酯薄膜上,涂胶厚度为〇. 〇35mm,涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度,通过总长度 15~45m、温度为60~160°C的烘道烘焙,除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应,此称 之为A胶,然后在涂胶面上覆贴厚度为0. 036mm、宽度为1000 mm的光学聚酯离型膜,即制得 有基材光学双面胶带半成品。
[0028] 将有基材光学双面胶带半成品按照以上工序在基材背面再涂布一层丙烯酸压 敏胶,涂胶厚度为〇· 035mm,此称之为B胶,然后在涂胶面上覆贴厚度为0· 036mm、宽度为 1000 mm的光学聚酯离型膜,制得有基材光学双面胶带。
[0030] 实施例2 :[0031] 将丙烯酸压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布在厚度为0. 005_、宽度为1000 mm光学聚
[0029] 酯薄膜上,涂胶厚度为0. 035mm,涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度,通过总长度 15~45m、温度为60~160°C的烘道烘焙,除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应,此称 之为A胶,然后在涂胶面上覆贴厚度为0. 036mm、宽度为1000 mm的光学有机硅离型膜,即制 得有基材光学双面胶带半成品。
[0032] 将有基材光学双面胶带半成品按照以上工序在基材背面再涂布一层有机硅压 敏胶,涂胶厚度为〇· 035mm,此称之为B胶,然后在涂胶面上覆贴厚度为0· 036mm、宽度为 1000 mm的光学有机硅离型膜,制得有基材光学双面胶带。
[0033]
[0034] 实施例3 :
[0035] 将有机硅压敏胶用逗号刮刀均匀地涂布在厚度为0· 2mm、宽度为1000 mm光学聚 酯薄膜上,涂胶厚度为〇. 〇35mm,涂胶后的光学聚酯薄膜以20m/min的线速度,通过总长度 15~45m、温度为60~160°C的烘道烘焙,除去溶剂并促进压敏胶发生交联固化反应,此称 之为A胶,然后在涂胶面上覆贴
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