分片装置制造方法
【专利摘要】本发明公开一种分片装置，包括进料单元、吸取单元、感应单元，所述的进料单元设置在一水槽内，感应单元包括感应挡块、活动杆和感应开关，感应挡块位于水槽内，感应开关位于水面上，感应挡块通过活动杆将动作传递至感应开关。通过进料单元推送基片堆，以便吸附单元逐个吸附并输送，实现分片，在输送带上初始吸附基片的位置设置能够移动的感应挡块，其通过活动杆触发位于水面上的感应开关，并且，每吸附一片基片时，感应开关被触发一次，利用该感应开关的信号来进行一些控制或对基片进行计数，感应开关设置在水面以上，避免遇水失灵的情况，保证工作效率的同时，节省了使用成本，在这种在水中进行分片的情况下，本装置的设计具有极高的优势。
【专利说明】分片装置
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种分片装置。
【背景技术】
[0002]硅片分片是插片的前续工序，而为了顺利分片，一般选用在水中进行分片，即在水中进行分片，然后在从水中传输出来，这样，对分片的实时监控等只能在水下进行，而一般传感器不适于水下工作，所以亟需一种能够解决该技术问题的方案。
【发明内容】
[0003]针对上述存在的技术不足，本发明的目的是提供一种分片装置，其通过进料单元推送基片堆，通过吸取单元逐个吸附和输送基片，通过活动杆将感应挡块的动作传递至感应开关并触发其开启，进行监控或计数等，感应开关位于水面之上，能够灵敏、高效地工作。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案:
一种分片装置，包括进料单元、吸取单元、感应单元，所述的进料单元设置在一水槽内，所述的进料单元中放置有包括沿水平方向叠放有多个基片的基片堆，每个所述的基片沿大致竖直面布置；所述的吸取单元包括输送带，所述的输送带上设置有若干与一真空源相连通的真空吸附孔，所述的输送带有部分设置在所述的水槽内并且该部分延伸至所述的进料单元，当所述的基片堆沿进给方向进给时，所述的基片堆中的基片能够逐个被所述的输送带上的真空吸附孔吸附并随输送带移动；所述的感应单元用于对所述的吸取单元每吸附一个基片作一次感应，所述的感应单元包括感应挡块、活动杆、感应开关，所述的感应挡块沿所述的基片堆进给方向能够往复移动地设置在所述的吸取单元上与所述的基片堆相对的位置，所述的感应挡块具有第一位置和第二位置，当所述的感应挡块处于第一位置时，所述的感应挡块至少部分突出于所述的输送带表面之外；当所述的感应挡块处于第二位置时，所述的感应挡块缩进于所述的输送带表面之内；所述的活动杆具有第一端部和第二端部，所述的活动杆的第一端部与所述的感应挡块相固定或传动连接、第二端部与所述的感应开关相邻，所述的活动杆的第二端部以及感应开关均位于所述水槽的最高液位面的上方，当所述的感应挡块处于第一位置时，所述的第二端部与所述的感应开关相不接触；当所述的感应挡块处于第二位置时，所述的第二端部抵紧在所述的感应开关上而将其触发开启。
[0005]优选地，所述的活动杆为一杆杠，所述的活动杆的第一端部与所述的感应挡块相固定。
[0006]优选地，所述的进料单元包括一用于支撑所述的基片堆的基片篮、带动所述的基片篮沿进给方向移动的推送机构，所述的基片篮在靠近吸取单元的一端为敞口端。
[0007]优选地，所述的推送机构为丝杠螺母机构。
[0008]优选地，所述的吸取单元的下端部设置在所述的水槽内。
[0009]本发明的有益效果在于:通过设置在水中的进料单元推送基片堆，以便吸附单元逐个吸附并输送，实现分片，在输送带上初始吸附基片的位置设置能够移动的感应挡块，其通过活动杆触发位于水面上的感应开关，并且，每吸附一片基片时，感应开关被触发一次，可以利用该感应开关的信号来进行一些控制或对基片进行计数，感应开关设置在水面以上，避免遇水失灵的情况，保证工作效率的同时，节省了使用成本，在这种在水中进行分片的情况下，本装置的设计具有极高的优势。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]附图1为本发明的分片装置的结构示意图。
[0011]附图中:
10、进料单元;101、水槽;102、基片堆;103、基片篮;104、推送机构；
20、吸取单元；201、输送带；
30、感应单元；301、感应挡块；302、活动杆；3021、第一端部；3022、第二端部；303、感应开关。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图所示的实施例对本发明作以下详细描述:
如附图1所示，一种分片装置，包括进料单元10、吸取单元20及感应单元30,进料单元10设置在一水槽101内，进料单元10中放置有包括沿水平方向叠放有多个基片的基片堆102，每个基片沿大致竖直面布置，基片完全位于水槽101中的水面以下；吸取单元20包括输送带201，输送带201上设置有若干与一真空源相连通的真空吸附孔，输送带201有部分设置在水槽101内并且该部分延伸至进料单元10，一般选择自下而上的输送方式，所以吸取单元20的下端部设置在水槽101内，即基片从输送带201的相对下端输送至相对上端，当基片堆102沿进给方向进给时，基片堆102中的基片能够逐个被输送带201上的真空吸附孔吸附并随输送带201移动；感应单元30用于对吸取单元20每吸附一个基片作一次感应，感应单元30包括感应挡块301、活动杆302、感应开关303，感应挡块301沿基片堆102进给方向能够往复移动地设置在吸取单元20上与基片堆102相对的位置，感应挡块301具有第一位置和第二位置，当感应挡块301处于第一位置时，感应挡块301至少部分突出于输送带201表面之外；当感应挡块301处于第二位置时，感应挡块301缩进于输送带201表面之内；当当前基片移走后，感应挡块301自动复位至第一位置；活动杆302具有第一端部3021和第二端部3022，其以大致中部的一处铰接在吸取单元20上，活动杆302的第一端部3021与感应挡块301相固定或传动连接、第二端部3022与感应开关303相邻，活动杆302的第二端部3022以及感应开关303均位于所述水槽101的最高液位面的上方，当感应挡块301处于第一位置时，第二端部3022与感应开关303相不接触；当感应挡块301处于第二位置时，第二端部3022抵紧在感应开关303上而将其触发开启。
[0013]至于上述的吸取单元20的具体结构参见中国专利2012204184566的原理和结构，本设计与之的不同在于负压腔呈圆弧状，但本领域技术人员能够根据该专利的记载内容结合公知常识得到本设计所需的吸附单元(即对应上述专利中的“负压吸附系统”)的具体结构，此处不再赘述。
[0014]更具体地，活动杆302为一杆杠，且活动杆302的第一端部3021与感应挡块301相固定，进料单元10包括一用于支撑基片堆102的基片篮103、带动基片篮103沿进给方向移动的推送机构104，基片篮103在靠近吸取单元20的一端为敞口端，推送机构104为丝杠螺母机构或其他能够实现此功能的本领域常用结构，由于本领域有很多相关的常规技术手段，此处不再赘述。
[0015]上述的基片堆102是硅棒或硅锭在切割后经脱胶得到的，这些基片相平行地沿水平方向排列在上述的基片篮103内，且每片基片大致沿竖直面分布，即侧面面向具有真空吸附孔的输送带201。
[0016]推送机构104驱动基片篮103向吸取单元20的方向移动而进料，当前基片被吸附后，为了避免与当前基片相邻的基片同时被带走，控制基片篮103后退一个设定距离，而基片被吸附的同时感应开关303会相应被触发，这是通过与感应开关303信号连接的控制器即可控制驱动推送机构104的部件反向带动基片篮103，待当前基片离开了被吸附的位置后，即该控制信号消失后，再正向带动基片篮103进给，进行下一片基片的吸附及输送，依此循环；同时，若需要对被吸附、输送的基片进行计数，也可以通过感应开关303的输出信号来实现，由于每吸附一片基片，感应开关303被触发一次,故感应开关303输出信号中的对应开的信号重复数即为基片的数量。
[0017]工作过程:开启装置的各部分，推送机构104动作使基片篮103向靠近吸取单元20的方向移动，直至当前的基片在真空源的作用下被真空吸附孔吸附，此时感应挡块301发生位移，使活动杆302的第二段抵紧在感应开关303上而被触发开启，与该感应开关303信号连接的相关控制器或计数器即可接受到该信号，从而进行相关的动作，当该基片随输送带201移走时，感应挡块301随之复位至第一位置，活动杆302的第二端部3022与感应开关303相脱离，推送机构104再次动作使基片篮103向靠近吸取单元20的方向移动，依此重复上述的过程。
[0018]本设计的分片装置通过设置在水中的进料单元10推送基片堆102，以便吸附单元逐个吸附并输送，实现分片，在输送带201上初始吸附基片的位置设置能够移动的感应挡块301，其通过活动杆302触发位于水面上的感应开关303，并且,每吸附一片基片时,感应开关303被触发一次，可以利用该感应开关303的信号来进行一些控制或对基片进行计数，感应开关303设置在水面以上，避免遇水失灵的情况，保证工作效率的同时，节省了使用成本，在这种在水中进行分片的情况下，本装置的设计具有极高的优势。
[0019]上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种分片装置，其特征在于:该装置包括: 进料单元，其设置在一水槽内，所述的进料单元中放置有包括沿水平方向叠放有多个基片的基片堆，每个所述的基片沿大致竖直面布置； 吸取单元，其包括输送带，所述的输送带上设置有若干与一真空源相连通的真空吸附孔，所述的输送带有部分设置在所述的水槽内并且该部分延伸至所述的进料单元，当所述的基片堆沿进给方向进给时，所述的基片堆中的基片能够逐个被所述的输送带上的真空吸附孔吸附并随输送带移动； 感应单元，其用于对所述的吸取单元每吸附一个基片作一次感应，所述的感应单元包括感应挡块、活动杆、感应开关，所述的感应挡块沿所述的基片堆进给方向能够往复移动地设置在所述的吸取单元上与所述的基片堆相对的位置，所述的感应挡块具有第一位置和第二位置，当所述的感应挡块处于第一位置时，所述的感应挡块至少部分突出于所述的输送带表面之外；当所述的感应挡块处于第二位置时，所述的感应挡块缩进于所述的输送带表面之内；所述的活动杆具有第一端部和第二端部，所述的活动杆的第一端部与所述的感应挡块相固定或传动连接、第二端部与所述的感应开关相邻，所述的活动杆的第二端部以及感应开关均位于所述水槽的最高液位面的上方，当所述的感应挡块处于第一位置时，所述的第二端部与所述的感应开关相不接触；当所述的感应挡块处于第二位置时，所述的第二端部抵紧在所述的感应开关上而将其触发开启。
2.根据权利要求1所述的分片装置，其特征在于:所述的活动杆为一杆杠，所述的活动杆的第一端部与所述的感应挡块相固定。
3.根据权利要求1 所述的分片装置，其特征在于:所述的进料单元包括一用于支撑所述的基片堆的基片篮、带动所述的基片篮沿进给方向移动的推送机构，所述的基片篮在靠近吸取单元的一端为敞口端。
4.根据权利要求3所述的分片装置，其特征在于:所述的推送机构为丝杠螺母机构。
5.根据权利要求1所述的分片装置，其特征在于:所述的吸取单元的下端部设置在所述的水槽内。
【文档编号】B65H3/12GK104016153SQ201410274571
【公开日】2014年9月3日 申请日期:2014年6月19日 优先权日:2014年6月19日
【发明者】陈宏
申请人:张家港市超声电气有限公司