一种抗氧化无电晕膜的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种抗氧化无电晕膜，包括无电晕膜本体（1），其特征在于：所述无电晕膜本体（1）包括无电晕层（11）、芯层（12）、抗氧化层（13），无电晕层（11）、芯层（12）、抗氧化层（13）依次叠加共挤制成，所述无电晕层（11）由聚乙烯材料制成，所述芯层（12）由聚丙烯树脂材料制成，所述抗氧化层（13）由Cr2N材料制成。本发明有效解决了现有无电晕膜抗氧化能力差，使用寿命短的问题。
【专利说明】 一种抗氧化无电晕膜
[0001]
技术领域
[0002]本发明涉及塑料薄膜技术领域，具体涉及一种抗氧化无电晕膜。
【背景技术】
[0003]塑料薄膜在包装领域的应用最为广泛。塑料薄膜可用于食品包装、电器产品包装、日用品包装、服装包装等等。它们有一个共同点，就是对塑料薄膜都要进行彩色印刷，而作为食品包装还要进行多层复合或真空镀铝等工艺操作。因此，要求塑料薄膜表面自由能要高、湿张力要大，以有利於印刷油墨、粘合剂或镀铝层与塑料薄膜的牢固粘合；在塑料薄膜生产卷取和高速包装过程中，则要求薄膜表面有一定的摩擦性能防止薄膜粘连或打滑；在用于电器、电子产品等包装时，则要求薄膜具有一定的防静电性能等。目前，无电晕膜主要起隔离作用，但是市场上现有的无电晕膜容易氧化，使用寿命短，从而影响产品使用寿命问题。
【发明内容】
[0004]本发明针对上述存在的问题，提出了一种抗氧化无电晕膜，本发明有效解决了现有无电晕膜抗氧化能力差，使用寿命短的问题。
[0005]本发明通过以下技术方案实现:
一种抗氧化无电晕膜，包括无电晕膜本体(1)，其特征在于:所述无电晕膜本体(I)包括无电晕层(11)、芯层(12)、抗氧化层(13)，无电晕层(11)、芯层(12)、抗氧化层(13)依次叠加共挤制成，所述无电晕层(11)由聚乙烯材料制成，所述芯层(12)由聚丙烯树脂材料制成，所述抗氧化层(13)由Cr2N材料制成。
[0006]本发明进一步技术改进方案是:
所述无电晕膜本体(I)厚度为17 μ m，其中无电晕层(11)厚度为I μ m，芯层(12)厚度为14 μ m，抗氧化层(13)厚度为2 μ m。
[0007]本发明与现有技术相比，具有以下明显优点，本发明通过在现有无电晕膜的基础上增加抗氧化层，可在使用过程中有效解决易氧化问题，从而提高了产品的使用寿命。
【附图说明】
[0008]图1为本发明的剖面结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]如图1所示,本发明包括无电晕膜本体I,所述无电晕膜本体I包括无电晕层U、芯层12、抗氧化层13，无电晕层11、芯层12、抗氧化层13依次叠加共挤制成，无电晕层11由聚乙烯材料制成，所述芯层12由聚丙烯树脂材料制成，所述抗氧化层13由Cr2N材料制成，无电晕膜本体I厚度为17 μ m，其中无电晕层11厚度为Ιμπι，芯层12厚度为14μπι，抗氧化层13厚度为2 μ m。
[0010]综上所述，本发明达到了上述发明目的。
【主权项】
1.一种抗氧化无电晕膜，包括无电晕膜本体(1)，其特征在于:所述无电晕膜本体(I)包括无电晕层(11)、芯层(12)、抗氧化层(13)，无电晕层(11)、芯层(12)、抗氧化层(13)依次叠加共挤制成，所述无电晕层(11)由聚乙烯材料制成，所述芯层(12)由聚丙烯树脂材料制成，所述抗氧化层(13)由Cr2N材料制成。2.根据权利要求1所述的一种抗氧化无电晕膜，其特征在于:所述无电晕膜本体(I)厚度为17μπι，其中无电晕层(11)厚度为Ιμπι，芯层(12)厚度为14 μ m，抗氧化层(13)厚度为2 μ m。
【文档编号】B65D65/38GK106064698SQ201410232970
【公开日】2016年11月2日
【申请日】2014年5月29日 公开号201410232970.4, CN 106064698 A, CN 106064698A, CN 201410232970, CN-A-106064698, CN106064698 A, CN106064698A, CN201410232970, CN201410232970.4
【发明人】朱延海
【申请人】朱延海