用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统和方法与流程

背景技术：

光学处方实验室的作用是尽可能快地向专业客户(例如，眼镜商、独立验光师、批发商、和光学连锁店)提供镜片。光学处方实验室必须生产出在一定公差之内具有在所接收的订单中规定的焦度的镜片。用于在处方实验室内生产处方镜片的半成品(sf)镜片毛坯具有在一定公差之内制造出的给定的前侧设计。由于在处方实验室中的表面处理过程中出现偏差，通过对镜片进行表面处理而实现的光焦度和光学设计并不总是完全达标的。当处方光焦度与所实现的焦度之间的差异超出预定公差时，所述镜片报废，因此降低了光学处理实验室的工业合格率。

目前，光学处方实验室的过程工程师手动执行统计学分析，以确定标称光焦度与所实现的光焦度之间的镜片焦度偏差的分布。这种分析的目的是试图确定是否存在一致的光学偏差变化，可以向其应用补偿来提高光学处方实验室的合格率。使用这种统计学分析，过程工程师可以确定平均偏差并且接着静态地限定有待在镜片设计系统(lds)或光学计算器中应用的补偿。

关于设计测量值，目前在处方实验室中没有进行每个镜片设计的系统分析。因此，这种手动工作局限于视远光焦度偏差、并且非常麻烦，因此需要非常了解光学产品的工业性能并需要统计学分析。其还局限于使处方实验室能够访问配置系统的lds计算器。

技术实现要素：

提供本发明内容是用于以简化的形式介绍一些概念，这些概念将在以下详细描述中进一步描述。本发明内容不旨在指出所要求保护的主题的关键特征或必不可少的特征，也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。

本文披露的实施例限定了一种能够计算处方实验室的工业光学性能和合格率的实时计算系统或分析器。所述系统使用统计学分析来确定可以向给定产品、半成品、材料、或镜片设计应用的补偿因子，以提高实验室合格率。通过使用监测与配置系统，用户(例如，实验室管理者、工程师等)跟踪所述实验室的性能的进展并且可以标识出影响合格率的方面。用户还可以例如通过限定如何计算和应用所述补偿因子来限定所述计算系统如何优化所述实验室的性能。

因此，处方实验室的性能的优化是实时地且跨多个lds来实现的。因此集中对实验室内运行的所有产品进行监测和控制。所述实验室还可以使用所述系统来监测其性能随时间的变化、并且由此检测任何表面处理过程偏差趋势。

本文披露的实施例提供了一种可以在光学处方实验室中实施以优化其工业性能并且由此提高其合格率的综合解决方案。这个系统提供的改进和益处的实例包括：

对rx实验室性能(例如，合格率、光学偏差、不同生产线的比较等)以及用户的监测能力进行实时的详细且可定制的统计学分析；

实时补偿表面处理设备或lds命令，以优化rx实验室的工业性能；

实时提高光学性质方面的合格率；

与rx实验室中使用的任何lds光学计算器进行系统集成，并且能够跨生产中使用的所有光学计算器进行补偿；

通过取消了对于在安装于生产环境中之前的新产品开发过程的需要，缩短了新产品的上市时间；以及

取消了对在lds计算器内进行手动统计学分析和光学性质的静态补偿的需要。

附图说明

为了进一步阐明本发明实施例的上述和其他优点和特征，将参照附图来对本发明的实施例进行更具体的描述。应了解的是，这些附图仅描绘了本发明的典型实施例，并且因此不应被认为是对其范围进行限制。通过使用附图，来更具体且详细地描述和解释本发明，在附图中：

图1是高级框图，展示了实验室管理系统(lms)对光学处方实验室中的部件的控制；

图2展示了将信息内容存储至测量值数据库的示例性机构；

图3展示了被存储至配置数据库的示例性信息内容；

图4展示了可以被提供给分析器以检测镜片制造过程中的偏差的示例性输入数据；

图5展示了分析器的示例性输出数据，所述输出数据可以被存储在结果数据库中和/或被提供给lms；

图6是展示了根据一个实施例的用于计算光学镜片制造过程中的偏差的方法的流程图；

图7是展示了根据一个实施例的用于计算补偿值的方法的流程图；

图8是展示了用于连续计算光学处方实验室的统计学性能的方法的流程图；

图9是展示了lms补偿给定处方的方法的流程图；并且

图10展示了可以在其中实现实时光学实验室控制系统的适合的计算与联网环境的实例。

具体实施方式

本文所描述的系统和方法将生产期间在光学处方实验室(rxlab)中进行的光学的和前和/或后表面的测量值当作输入。实施例中使用配置数据库和统计学分析数据库以及所观察到的一段时间内对rxlab性能的统计学分析，以确定有待应用于未来生产轮次的补偿因子。这个解决方案实时地并跨多个lds地优化rx实验室的性能。集中对rx实验室中使用的所有产品进行监测和控制。rx实验室还可以使用所述系统来监测其性能随时间的演变、并且由此检测表面处理过程中的任何偏差趋势。

图1是高级框图，展示了实验室管理系统(lms)101对光学处方实验室中的部件的控制。用户经由用户界面102向lms101提供镜片处方。lms101将所述处方发送至lds103内的计算器，所述计算器计算lms101的制造参数并将其返回。lds103是基于所制造的镜片设计光学性质来选择的并且专用于选定的镜片设计品牌。

lms101使用所述制造参数来命令光学处方实验室中的表面处理过程设备(例如，封阻器、发生器、抛光机)，以创造具有由所述处方限定的希望光学性质的镜片。封阻104使用镜片毛坯上的参考标记来将所述镜片毛坯定位以便附接至镜片封阻件上。发生过程105可以以任何数量的众所周知的方式对镜片进行研磨或切割，而不进行限制。例如，在单光(sv)镜片中，发生105切割镜片的后表面以设定希望的镜片焦度、并且将镜片毛坯切割成希望的形状。发生105还可以研磨sv半成品(sf)镜片毛坯的复杂后表面。在其他实施例中，对于更复杂的镜片设计，发生过程105可以对镜片毛坯的前表面和后表面两者进行切割。抛光106对经切割的镜片毛坯进行抛光。所述镜片可以经历进一步的涂覆过程107和精加工过程108。应理解的是，本文中所描述和所应用的补偿可以在不考虑设计复杂性和被切割表面的数量的情况下应用于任何镜片加工。

测量109经切割且经抛光的镜片的设计参数，以监测并控制实验室过程。测量109可以包括例如使用焦度计来测量光学参数(例如，焦度和棱镜度)、使用厚度计来测量镜片厚度、以及使用镜片测绘仪来测量镜片设计。针对正在制造的每个镜片连续进行测量109。取决于实验室内可获得的设备的类型，这些测量可以手动或自动进行。这些测量值可以被存储至测量值数据库110或者直接提供给分析器，例如实时光学实验室控制系统111。在雕刻步骤112中，激光器将镜片的背面雕刻出半可见标记，所述半可见标记用于将所述镜片定位以便测量并且标识光学设计所位于的地方。

实时光学实验室控制系统111从测量值数据库110、配置数据库113、lms101、和/或其他来源接收输入。处理这些输入以便计算处方参数与实际制造的镜片的参数之间的偏差。所述偏差可能由镜片表面处理设备本身、或所述设备所使用的消耗品随时间的磨损引起的。例如，消耗品(例如，抛光垫和切割尖端)的磨损或老化可能会在表面处理设备随时间的运行方式中引入偏差。偏差可能基于磨损量、设备品牌、和/或所使用的消耗品的品牌或类型而不同。

接着可以使用所述偏差来计算lms101向实验室设备(例如，封阻器、发生器、和抛光机)应用的补偿因子，以使实际镜片参数更接近处方参数。所述分析结果可以根据需要直接被提供给lms101或存储到lms101可以访问的结果数据库114中。由实时光学实验室控制系统111生成的数据可以按照任何适当的参数进行分组，例如按照镜片材料、设计、产品组等。应了解的是，测量值数据库110、配置数据库113、和结果数据库114可以分开存储在不同的存储器部件中。替代性地，这些数据库中的两个或更多个数据库可以存储在同一个存储器部件中。所述存储器部件可以是lms101的、实时光学实验室控制系统111的、或任何其他部件的一部分。

图2展示了将信息内容存储至测量值数据库110的示例性机构。每个镜片的一组测量值200可以包括以下组成部分。日期201表示镜片已被制造以及何时进行了测量。产品信息202可以包括产品代码并且标识了所使用的材料以及镜片设计供应商。可以包括标称处方信息203，例如视远参数、视近参数、厚度参数、以及棱镜度参数。测量数据204包括实际生产的镜片的测量值，包括例如视远测量值、视近测量值、厚度测量值、以及棱镜度测量值。测量数据204可以进一步包括表面几何形状测量值205。应理解的是，测量值200旨在是代表性实例并且可以检测并存储生产镜片的任何适当的测量值。

图3展示了被存储至配置数据库113的示例性信息300的内容。信息300提供了指导实时光学实验室控制系统111将如何处理数据的参数。趋势检测参数301标识了例如检测焦度变化、棱镜度变化、和厚度变化的阈值和极限值。补偿参数302标识了有待应用的补偿的阈值和极限值、以及对焦度偏差、棱镜度偏差、和厚度偏差应用的补偿的梯级大小。产品组303标识了实时光学实验室控制系统111如何基于例如所使用的lds或材料、任何定制分组、或单光(sv)镜片或渐变多焦点镜片(pal)的sf基础将数据分组。

配置数据300还可以标识制造参数304，例如以按照制造线或部件进行群组分析。实时更新数据305指导实时光学实验室控制系统111应多久提供一次更新，例如每小时更新每个测量值、或其他参数。应理解的是，参数300旨在是代表性实例、并且可以向实时光学实验室控制系统111提供任何适当的分析器参数。

图4展示了可以被提供给实时光学实验室控制系统111以检测镜片制造过程中的偏差的示例性输入数据400。输入数据400可以包括用于满足光学处方的、镜片毛坯的产品数据401。产品数据401可以包括产品标识信息，例如镜片款式名称(lnam)或材料编号(lmatid)。内容输入数据400和产品数据401可以根据行业标准(例如，由视力协会(visioncouncil)、光学工业中的制造商和供应商的贸易协会开发的数据通信标准)来限定和/或格式化。

输入数据400包括用于有待制造的特定镜片的处方的标称值402。输入数据400还包括实际制造的镜片的测量值403。可以包括制造数据404，例如在实验室中使用的部件的类型和生产日期。

输入数据400可以从例如lms101等单一来源被提供给实时光学实验室控制系统111。替代性地，实时光学实验室控制系统111可以从两个或更多个来源(例如，从测量值数据库110和配置数据库113以及lms101)独立地收集输入数据400。应理解的是，输入数据400旨在作为代表性实例、并且可以向实时光学实验室控制系统111提供任何适当的参数。

图5示出了实时光学实验室控制系统111的示例性输出数据500，所述输出数据可以例如存储在结果数据库114中和/或被提供给lms101。输出数据500可以包括关于所制造的镜片的基本信息，例如生产日期501、产品信息502、以及制造设备信息503。实时光学实验室控制系统111可以对镜片、镜片组或生产轮次生成统计学分析504，例如测量值的偏差和趋势。

基于在统计学分析中标识出的偏差和趋势，实时光学实验室控制系统111可以计算出有待向未来流水线制造应用的补偿系数505。这些补偿系数可以由lms101和/或lds103来应用，以调整lds103的镜片制造计算，使得制造设备创造出与希望处方的偏差最小的镜片。替代性地，实时光学实验室控制系统111可以将补偿因子直接应用于镜片制造设备，例如封阻器、发生器、或抛光机。

图6是展示了根据一个实施例的用于计算光学镜片制造过程中的偏差的方法的流程图。在步骤601中，分析器接收输入数据和配置数据。所述输入数据可以包括例如产品数据、处方数据、测量值数据、和设备数据。可以从测量值数据库或lms、或其他来源接收所述输入数据。所述输入数据可以包括如图4所示的参数。所述配置数据包括限定了分析器如何处理所述输入数据以及应提供什么类型的输出数据两者的参数。所述配置数据可以从配置数据库检索到、并且可以包括如图3所示的参数。在步骤602中，所述输入数据可以按产品组分类。

在步骤603中，分析器计算每个产品组的视远(fv)焦度偏差。视远焦度偏差(fv-dev)可以使用fv球镜度偏差(fvspdev)和柱镜度(cyl)如下来计算：

fvspdev＝平均值(标称fv球镜度-测得的fv球镜度)

(等式1)

fv球镜度+柱镜度偏差＝平均值((标称fv球镜度+cyl)

-(测得的fv球镜度+cyl))(等式2)

fv-dev＝平均值(fvspdev,fv球镜度+柱镜度偏差)

(等式3)

在步骤604中，分析器计算视远焦度标准偏差。

在步骤605中，分析器计算每个产品组的棱镜度偏差。棱镜度偏差可以使用标称水平棱镜度(hp)和竖直棱镜度(vp)以及测得的水平棱镜度和竖直棱镜度如下来计算：

水平棱镜度偏差＝平均值(标称hp-测得的hp)(等式4)

竖直棱镜度偏差＝平均值(标称vp-测得的vp)(等式5)

在步骤606中，分析器计算棱镜度标准偏差。

在步骤607中，分析器计算每个产品组的厚度偏差。所述厚度偏差可以如下来计算：

厚度偏差＝平均值(棱镜参考点(prp)处的标称厚度-prp处的测得厚度)(等式6)

在步骤608中，分析器计算所述厚度标准偏差。

在步骤609中，分析器计算每个产品组的视近(nv)焦度偏差。视近焦度偏差可以如下来计算：

nv下加光＝nv球镜度-fv球镜度(等式7)

nv下加光偏差＝平均值(标称nv下加光-测得的nv下加光)

(等式8)

在步骤610中，分析器计算所述视近标准偏差。

在步骤611中，分析器将视远偏差、棱镜度偏差、厚度偏差、以及视近偏差数据连同相关制造线数据一起存储到数据库(例如结果数据库114)。

图7是展示了根据一个实施例的用于计算补偿值的方法的流程图。在步骤701中，例如通过从结果数据库114中检索偏差数据，来接收一组测量值的偏差数据。在步骤702中，将所述数据按产品组分类。在步骤703中，计算视远补偿。可以通过使用如710所示的补偿计算子过程(下文中将更详细地讨论)来计算视远补偿值以及其他补偿值。在视远补偿值从子过程710返回之后，所述过程进行到步骤704，在所述步骤中计算棱镜度补偿。接着在步骤705中计算厚度补偿值。

所述补偿计算各自可以使用子过程710所示的步骤。在步骤711中，将偏差与阈值进行比较。使用视远参数作为实例，可以将在步骤603(图6)中计算出的视远偏差值与所述配置数据库中的补偿阈值302(图3)进行比较。如果所计算出的视远偏差值小于0.03屈光度的视远焦度阈值(图3)，则所述过程移动至步骤715，并且补偿计算结束(即，子过程710返回到主过程中的前一个步骤703-705)。否则，如果所计算出的偏差大于阈值，则所述过程移动至步骤712。

在步骤712中，将所述偏差计算值与极限值进行比较。同样使用视远实例，如果偏差大于0.2屈光度的视远焦度极限值(图3)，则所述过程移动到步骤715并且补偿计算结束。否则，如果偏差低于阈值，则所述过程移动至步骤713。

在步骤713中，将所述标准偏差计算值与极限值进行比较。参照所述视远实例，如果所述标准偏差大于0.15屈光度的视远焦度(图3)，则所述过程移动到步骤715并且补偿计算结束。否则，如果所述标准偏差低于阈值，则所述过程移动至步骤714。

在步骤714中，将所述偏差趋势计算值与极限值进行比较。例如，如果所述偏差趋势大于每周0.1屈光度(图3)，则所述过程移动到步骤715并且补偿计算结束。否则，如果偏差低于阈值，则所述过程移动至步骤716。

在步骤716中，将补偿值设定为针对相关参数限定的梯级值。对于视远补偿，所述梯级为0.01屈光度(图3)。在步骤717中，这个补偿值被返回至所述主过程。

接着在步骤706中，存储每个参数的补偿值。这些补偿值可以例如存储在结果数据库114(图1)中。于是lms可获得这些补偿值，lms可以适当地调整制造参数以抵消已测量到的偏差。lds计算器也可以应用补偿值。替代性地，实时光学实验室控制系统111可以将补偿值直接应用于表面处理设备(例如，直接对封阻器、发生器、和/或抛光机应用补偿)。

应理解的是，图6所示的过程的步骤601-611和图7所示的过程的步骤701-717可以同时和/或按顺序执行。将进一步理解的是，每个步骤可以按任何顺序进行、并且可以进行一次或重复地进行。

实施例考虑了与标称值(即，预期光焦度、预期光焦度图等)的任何偏差、并且计算出被提供给lms或rxlab设备的补偿因子。分析系统依赖于一套数学公式和统计学计算来确定rxlab在光学合格率方面的工业性能。还考虑了rx实验室制造系统的配置，以确定根据所述统计学计算结果计算出的补偿因子。统计学分析的结果以及所作出的决定(即，有待应用的补偿因子)两者都可用作所述系统向用户以及向环境中的其他系统的输出。

测量

所述系统考虑了两种类型的测量。首先，所述系统使用镜片的后表面的测量值以及最终镜片的测量值。这些测量值被馈送到系统的数据库中、并且允许所述系统按每个产品组(例如，产品代码、设计、设计供应商、材料等)计算rx实验室性能(例如，合格率、偏差等)。

第二，所述系统使用前表面(可以是半成品镜片或经表面处理的凸镜片)的测量值。所述系统可以使用这些测量值(例如，实际前曲线vs前侧的理论球形度、光学图vs理论前侧、设计偏差等)来计算应产生的后表面，以补偿前表面偏差。在一个实施例中，这些测量值不馈送到整个统计学分析系统中，而是逐个处方、逐个任务地被使用，其中测量将用于制造最终镜片的镜片毛坯的前侧。

用户界面

在一个实施例中，用户使用gui界面与所述系统交互。通过这个界面，用户通过定义所述计算的行为、对偏差的反应速度、以及系统提供的命令的幅度来配置所述系统。这是通过配置可以通过所述系统所补偿的光学偏差的阈值、和/或配置补偿因子的幅值来实现的。用户还可以限定哪些测量值应被补偿(例如，棱镜度参数、视远参数、视近参数、厚度参数、以及其他镜片参数中的一者或多者)。

这个系统还允许用户通过显示统计学分析结果来监测rx实验室的工业性能。例如，用户可以基于每个产品、每种材料、或每个镜片设计供应商来将所制造的镜片的光学偏差与标称(即，期望/处方)值相比进行可视化。分析rx实验室随时间的趋势还使系统和用户能够检测到rx实验室的表面处理过程和设备的异常趋势。

集成和通信

所述系统可以以多种方式集成在rx实验室环境中。在一个实施例中，实时光学实验室补偿系统可以是向lms提供服务的独立系统。这样的独立系统可以与rx实验室在一起、或者可以位于远处。所述实时光学实验室控制系统可以经由公用或专用数据网络115(例如，内联网、局域网(lan)、广域网(wan)、或互联网)与lms和其他实验室设备进行通信。在一些实施例中，实时光学实验室补偿系统位于远处位置并且向多个独立的rx实验室提供服务。

在独立配置下，实时光学实验室补偿系统连续从生产线接收测量值、并执行所有必要的计算。接着结果被存储在所述系统中，并且在查询时lms可获得所述结果。lms可以向实时光学实验室补偿系统发送请求，以请求相关补偿因子(例如，每个产品、每种材料、每个lds供应商、针对重复作业等)。补偿因子可以被发送至lds计算器，从而计算经修正的制造参数。补偿因子可以由lms、或者直接由实时光学实验室补偿系统提供给lds计算器。替代性地，lms可以在向rx实验室设备发送命令之前使用所述补偿因子来修改其从lds计算器接收的制造参数。

在集成式实时光学实验室补偿系统的情况下，所述系统本身可以修改被发送至rx实验室设备的命令。例如，实时光学实验室补偿系统可以修改lms服务器上的指令(例如，工业标准数据文件，如装置记录或oma消息)和发生器表面文件。以下修正可以被实时光学实验室补偿系统在再次进行不令人满意的生产轮次过程中所应用、或者用于补偿在以下多个轮次中观察到的偏差测量值：

修改后表面以补偿rx实验室的焦度偏差、或补偿特定的处方偏差(例如，通过添加球面来补偿视远焦度偏差，或者通过将表面倾斜以添加棱镜度-添加球面允许所述系统不修改所述设计)；

修改oma文件中封阻后的和/或发生的棱镜度命令以补偿棱镜度偏差；

修改发生器厚度(例如，最终被封阻镜片厚度、或oma消息“sval”标签)以补偿厚度偏差；以及

修改发生器棱镜度命令以补偿棱镜度偏差(即，这可以集成在后表面内，或者可以与后表面一起发送到发生器)。

计算

实时光学实验室补偿系统可以使用两种或更多种不同的计算算法。在一个实施例中，所述系统实时地连续计算rx实验室的统计学性能(例如，合格率、偏差等)。在其他实施例中，所述系统计算对于lms所发送的给定处方的补偿。

图8是展示了用于连续计算rx实验室的统计学性能的方法的流程图。这种实时连续计算由所述系统进行，以确定一组给定产品的总体补偿因子。这可以单独应用于每个产品或给定的产品组(例如，镜片设计供应商、材料、或用户特定产品系列)。这种计算将测量值和最终分析(例如，合格率、偏差、和确定的补偿因子)存储在测量值数据库和结果数据库中。所述算法依赖于用户的配置来安排所述数据、并且计算适当的补偿因子(例如，棱镜度、厚度、光焦度、表面几何形状、光学设计等)。这种分析是实时计算的、并且用来自生产线的每个新输入的测量值进行更新。替代性地，所述更新可以具有时间驱动性(例如，每三十分钟更新一次)。

在步骤801中，实时或周期性地接收新的测量值。

在步骤802中，计算光焦度偏差。在步骤803中，计算棱镜度偏差。在步骤804中，计算厚度偏差。在步骤805中，计算表面几何形状偏差和光学设计偏差。步骤802-805可以同时和/或按顺序执行。将进一步理解的是，这些步骤可以按任何顺序进行、并且可以进行一次或重复地进行。此外，这些步骤可以包括其他偏差计算。

在步骤806中，实时光学实验室控制系统根据用户的偏好来安排所计算出的数据和测量值。在步骤807中，例如根据如在配置数据库中限定的用户限定阈值和极限值来计算补偿因子。接着在步骤808中将所述计算值存储到测量值数据库、结果数据库、或这两者中。接着所述过程返回至步骤801并重复下一组测量。

图9是展示了通过lms来补偿给定处方的方法的流程图。lms向实时光学实验室控制系统发送具有所有必要信息(例如，产品代码、材料、镜片设计供应商、标称焦度、棱镜度和镜片厚度、前表面光学偏差、几何偏差等)的处方。所述系统依赖于存储的补偿因子(和前表面偏差，如果可用的话)来补偿这个具体处方。然后将更新后的处方(例如，新的封阻后的或生成的棱镜度值、新的发生器表面文件矩阵、新的发生器厚度等)返回至lms、或者直接提供给表面处理设备。

在步骤901中，实时光学实验室控制系统在存储的补偿组中查找相关产品。所存储的补偿组可以包括经由过去对镜片生产轮次的分析所收集到的数据。所述数据可以存储在配置数据库、结果数据库、或这两者中。

在步骤902中，实时光学实验室控制系统计算经调整的发生器命令。所述经调整的发生器命令可以包括例如经调整的最终发生器厚度(sval)、或经调整的发生器表面、或两者。

在步骤903中，所述系统计算经调整的封阻器命令。所述经调整的封阻器命令可以包括以下各项中的一项或多项：例如经调整的封阻后的水平棱镜度、经调整的封阻后的竖直棱镜度、经调整的封阻后的棱镜模块、以及经调整的封阻后的棱镜轴。

步骤902和903可以同时和/或按顺序执行。将进一步理解的是，这些步骤可以按任何顺序进行、并且可以进行一次或重复地进行。此外，这些步骤可以包括其他补偿计算。

在步骤904中，将经调整的发生器命令和经调整的封阻器命令发送至lms或生产设备。例如，可以使用所述经调整的命令来创建经调整的oma文件，或者可以直接向所述设备发送将经调整的命令。

产品组

所述系统允许用户限定如何分析和组织所述数据。用户可以通过限定以下产品组来限定所述补偿如何与实验室中使用或创造的产品相关联：材料组、镜头设计供应商组、定制用户限定的产品组、半成品产品组(即，对于单光(sv)sf是按产品基础进行分类、或对于渐变多焦点镜片(pal)sf是按产品基础+下加光+眼睛分组)。接着，用户可以使用所限定的产品组来在例如gui用户界面等监测系统中将所述分析可视化。所述系统通过使用与每个处方产品组相关的数据来补偿lms所发送的处方。

补偿

在一个实施例中，所述系统被配置成开始对光焦度偏差补偿0.03屈光度。这意味着如果给定产品或产品组的平均偏差高于0.03屈光度，则所述系统将设定0.03屈光度的补偿值。对于低于这个阈值的任何偏差值，将不会有补偿。对于棱镜度值，在示例性实施例(图3)中设定了0.05度棱镜度的阈值。对于厚度，阈值设定为0.05mm。在所述配置中还可以设定合格率阈值。在示例性实施例(图3)中，只要rx实验室的光学合格率低于给定产品组的98％，系统就应用补偿。

例如所述补偿梯级可以被设定为选定值，例如对于fv焦度、0.01度棱镜度、和0.01mm厚度，设定为0.01屈光度。相应地，如果计算出产品组的偏差为0.041屈光度，则所述系统将设定0.04屈光度的补偿值，例如0.01屈光度梯级值的相应倍数。

为了防止所述系统偏离并修正生产故障，则为给定产品或组的最大补偿值设定极限值。例如，可以为fv焦度补偿设定0.20屈光度的极限值。

还可以对所述数据的标准偏差设定极限值。这确保了补偿值由充分相干的数据支持，并且所述系统不补偿不稳定的制造线。

偏差趋势

所述系统被实施成防止rx实验室补偿生产过程或设备所固有的问题。因此，可以针对焦度和棱镜度随时间的偏差来限定阈值和极限值。

制造

所述测量值和所计算出的补偿因子数据可以被生产设备线所跟踪，例如跟踪用于对所测量的每个镜片进行表面处理的封阻器、发生器、和抛光机。

计算

所述实时统计学分析和补偿计算依赖于上述配置系统来组织和分析数据。对于由用户限定的每个产品组，计算并且记录光学性质偏差。所使用的统计学数据可以简单地是每个物理量的平均偏差(例如，标称值与测量值之间的差)以及标准偏差。还可以使用其他用于计算所述偏差和标准偏差的方法和公式。接着针对所述产品组以及生产线来记录数据以跟踪随时间的演变。根据这种统计学分析，所述系统能够计算有待应用于每个物理量的补偿因子。这个计算部件是高度可配置的，并且算法可以针对用户限定的配置来检查每个要素，例如阈值、极限值、趋势等。

处方补偿计算

所述系统可以提供两种不同的服务：(1)集成在rx实验室生产线内的服务、以及(2)独立服务。所述集成服务计算用于发生器和封阻器设备的调整后的设备命令。所述独立服务将经调整的处方返回至lms，其然后将经调整的处方发送至光学lds计算器。这些服务可以用于根据rx实验室的总体偏差来自动补偿给定的rx。这些服务还可以用于补偿处方的rx实验室偏差和特定任务偏差两者。特定任务偏差可以补偿前表面偏差或任务重做。在任务重做事件中，代替使用一般产品的总体实验室偏差，可以补偿所述处方的在该特定任务期间观察到的偏差。

配置系统允许用户确定如何补偿棱镜度。可以产生(例如，在棱镜度被添加到后表面上、或命令被发送到发生器的情况下)或封阻棱镜度。配置系统允许用户指定发生器和封阻器设备两者的优先级和能力。因此，如果用户优先考虑封阻器，则所述系统将尝试封阻额外的棱镜度或补偿棱镜度，直到达到封阻后的棱镜度能力，此时向发生器发送剩余的补偿棱镜度。

补偿表面计算

lms、lds、或实时光学实验室控制系统可以应用补偿。例如，lms或lds可以通过将多个表面求和来调整表面文件，从而将原始计算的表面与补偿表面一起返回。替代性地，实时光学实验室控制系统可以直接对光学实验室设备提供补偿，以修改表面处理过程。通过这种补偿，lds针对所述处方所发送的发生器表面可以例如在视远焦度和棱镜度方面被补偿。所述系统可以补偿成品镜片的任何光学偏差或几何形状偏差。然而，一般而言，不建议补偿柱镜度偏差，因为柱镜度补偿可能使表面设计变形。

系统增强

上述示例性实施例集中于光焦度补偿、棱镜度补偿、以及厚度补偿。这些补偿可以通过光学设计补偿而被增强。

过程磨光补偿

前述系统可以通过分析表面处理过程固有的磨光行为来增强。早前描述的测量值包括后表面几何形状的测量值。这个测量值将允许系统将理论表面与实际表面进行比较，并且比较“清晰度”。理论表面的特征在于由轮廓图表示的某些设计特征。表面几何形状的轮廓图示出了表面的“峰和谷”、以及整个表面的高度差和表面加速度。与通过表面处理过程产生的实际表面相比，理论表面始终具有更好的清晰度、以及更高的“峰”。这是包括抛光阶段的所述表面处理过程所固有的。

实际表面的测量允许所述系统计算给定表面处理线的磨光系数，这可以包括特定封阻器、发生器、和抛光机组合。已知这个系数时，所述系统能够在进行表面处理之前增强后表面的特征。当所述lms要求所述系统在表面处理之前补偿处方时，所述系统计算后表面复杂度和轮廓图，并且预测地补偿所述处方以考虑rx实验室过程的磨光行为。这种计算可以通过考虑将制造处方的生产线来进行，因为不同设备可能产生不同的过程偏差。

预测性过程磨光补偿

计算过程调整有待产生的表面，以考虑所述过程磨光系数。通过统计学分析算法实时计算从分析数据库中得到的补偿因子。这个因子代表表面处理过程引起的特征约减百分比。例如，如果在理论表面中特征是1毫米高，其中峰在谷上方1mm，但是在最终后表面上测得的几何形状只有0.8mm高，则分析所述过程具有20％的特征约减偏差。因此，当lms想要在进行表面处理之前修正处方时，可以通过将表面特征增强所述过程偏差量的算法来处理所述处方，例如，所述算法将峰高度增加20％以考虑预期偏差。

所述过程的这种补偿也可以通过修改被发送给抛光机的针对给定处方的命令来实现。通过与过程特征约减系数成比例地修改抛光时间，可以获得类似的结果。然而，抛光过程的这种修改也可能影响最终镜片的外观、并且因此可能是不理想的修改。

光学设计补偿

也可以针对设计完整性补偿来增强所述系统。前述系统包括设计完整性测量值，所述测量值可以在实际产生的表面上的若干位置、或者针对整个最终镜片来测量：视近、视远、视中、以及周边视觉。设计完整性是在光焦度图中测量的。经表面处理的镜片上的光焦度变化与预期设计匹配。可以并且应当通过根据镜片类型来修改前侧、后侧、或两侧来补偿设计定位。最后，可以测量镜片的下加光并且相对于所述设计来补偿下加光。不同于视远焦度，视近焦度是与所述设计在设计的走廊长度、渐变、以及相对于预期设计的视近位置方面相关联的。

针对过程的设计补偿、以及光焦度补偿可以通过修改被发送给发生器的表面矩阵来实现。

对于所述设计的每个区(例如可以是视远区、视中区、视近区、周边视区)，可以创建具有针对球镜度和柱镜度的补偿因子的表面文件。补偿表面在被补偿部位之外的所有区域中是平坦的。对于目标部位，使用通过统计学分析算法计算出的补偿值可以创造球面-环曲面表面(包括球面加柱面)。

为了补偿下加光偏差，可以使用两种示例性方法：(1)打电话给设计供应商索要具有下加光补偿的平表面作为处方下加光，或者(2)可以通过使用所述设计的内移量和渐变长度作为输入来创造在镜片上具有视近大小和部位的表面，从而补偿视近球镜度和柱镜度。

一旦计算出补偿表面，就可以将它们求和得到发生器表面并传回至lms或直接传回至发生器设备。

修正所述设计的若干方法包括：

在进行表面处理之前测量前侧设计位置误差、并且调整后表面以便相对于前表面对齐；

在测量了封阻误差之后相对于前表面来调整后表面位置；并且

相对于产品的平均位置误差来调整后表面位置，平均位置误差可以包括通过之前描述的统计学分析算法计算出的平均偏差。

接着将后表面平移和旋转，以补偿测得的或预测的误差并且发送回至表面处理设备或lms。

实时光学实验室控制系统的示例性实施例包括用于获取光学性质、光学图、以及表面几何形状测量值的测量装置，并且具有数据存储能力。所述系统被配置成用于计算统计学合格率、与标称值的偏差、以及rx实验室性能。所述系统进一步被配置成用于分析光学偏差(例如视远焦度、视近焦度、棱镜度、焦度图/设计偏差等)以及几何偏差(例如厚度、镜片表面几何形状等)。所述系统进一步被配置成用于将所述分析按产品类别来分组，例如按半成品、产品代码、设计、设计供应商/lds、材料等。所述系统进一步包括能够允许用户监测rx实验室性能并使用例如反馈回路来配置系统的补偿行为的用户界面。

实时光学实验室控制系统的一些实施例使用以下方法来提供对rx实验室表面处理过程的实时补偿：所述方法用于基于生产基片的测量值来计算统计学分析(例如平均偏差、标准偏差、趋势等)并基于统计学分析来计算补偿因子。所述方法可以进一步补偿来自lds的已经计算出的处方，例如后表面计算、设备棱镜度和厚度调整等等。

实时光学实验室控制系统可以为rx实验室中的其他系统(例如lms或表面处理、涂覆或精加工设备)提供服务，以实时地补偿处方。

实时光学实验室控制系统可以将补偿因子传回至给定呼叫者，例如lms，以便在计算之前修正处方。经修正的处方接着被发送至lds以便进行设计计算。

实时光学实验室控制系统可以补偿已经计算出的处方并且提供经修正的设备命令，例如封阻器棱镜度命令、发生器后表面命令、发生器厚度命令、发生器棱镜度命令、抛光器宏命令等。

实时光学实验室控制系统可以提供在重做之前、例如在一项任务已经对镜片毛坯进行表面处理但未能满足标准之后、仅基于处方偏差而不涉及整个统计学实验室偏差来补偿给定处方的能力。

实时光学实验室控制系统的实施例提供了通过进行以下步骤中的一个或多个步骤来提供设计补偿：

接收表面焦度图偏差的测量值(例如前侧、后侧、最终镜片等)作为输入；

接收设计位置误差(例如可能是由于前表面、后表面、或两个表面引起)的测量值作为输入；

计算局部焦度偏差，例如视近、视远、视中、或周边视觉；

计算局部表面补偿，例如球镜度和柱镜度；

查询外部镜片设计系统以检索下加光补偿表面数据；

将表面平移和旋转以补偿设计位置误差；

计算经补偿的发生器表面矩阵；

提供经补偿的后表面以考虑设计偏差；

提供经补偿的后表面以考虑下加光偏差；

提供经补偿的后表面以考虑设计位置偏差，所述设计位置偏差是针对任务重做用所述任务的偏差测量值补偿过的、或者是针对由统计学分析系统计算出的平均设计位置误差补偿过的。

实时光学实验室控制系统的实施例提供了通过进行以下步骤中的一个或多个步骤来提供预测性过程补偿：

接收镜片前表面(所述前表面可以对应于未来最终镜片的半成品或经表面处理的凸侧)、光学性质(例如前曲线、光学图/设计、前表面的球形度等)以及几何形状(例如几何形状偏差/轮廓图)的测量值作为输入；

计算制造的前表面与理论前表面相比的偏差，例如前曲线与理论曲线相比、光学设计与理论设计相比、理论几何轮廓图与实际测得的轮廓图相比；

按每个生产设备/生产线来计算rx实验室过程磨光系数；

基于前表面偏差测量值来补偿有待产生的后表面以实现目标最终镜片焦度和设计；

计算有待产生的后表面的复杂度和“清晰度”，例如表面加速度、峰和谷、表面轮廓图等；

在进行表面处理之前增强后表面特征，例如以避免在过程中对表面特征进行抛光和磨光；

提供经补偿的后表面以考虑前表面偏差，例如球镜度补偿的下加光；以及

提供经补偿的或经特征增强的后表面以考虑过程“磨光”行为。

实时光学实验室控制系统的示例性实施例包括联接至lds和镜片表面处理设备上的lms。测量设备测量已经被镜片表面处理设备处理的镜片的参数。这些测量值被提供给分析器，所述分析器计算经处理的镜片与标称光学处方值相比的偏差。分析器使用这些偏差来计算补偿因子，所述补偿因子可以用于修改额外镜片毛坯的处理以将偏差最小化。补偿因子可以由分析器直接提供给镜片表面处理设备。分析器可以替代性地将补偿因子提供给lms和/或lds。lms可以在将光学处方发送给lds之前将补偿因子应用于所述处方、或者可以将所述补偿因子应用于从lds接收到的镜片设计、或者可以使用所述补偿因子来修改镜片表面处理设备命令。lds可以在根据光学处方计算镜片设计时使用补偿因子。

补偿因子可以代表由镜片表面处理设备引入的偏差，例如在最终镜片产品中由封阻器、发生器、或抛光机造成的偏差。

在其他实施例中，这些偏差可以代表在sf镜片毛坯被表面处理设备处理之前其中存在的瑕疵。这样，补偿因子可以应用于如在处理之前从提供上接收到的、具有共同瑕疵或误差的大量sf镜片毛坯。

在其他实施例中，补偿因子可以针对已知品牌的镜片表面处理设备例如来自satisloh、essilor或任何其他制造商的设备进行选择。例如，一旦lms已经标识了将用于制造轮次的镜片表面处理设备，则lms可以针对具体品牌的设备来选择补偿因子。用于具体品牌的补偿因子可以用于例如补偿在所述具体品牌的设备中观察到的典型偏差，而不要求实验室去测量偏差和研究其自身的一套补偿因子。

以下系统和方法代表实时光学实验室控制系统的示例性实施例。

一种用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统，所述系统包括：

分析器，所述分析器被配置成用于基于光学处方标称值以及在从镜片表面处理设备输出的一个或多个镜片上测得的参数来计算一个或多个经表面处理的光学镜片的偏差，所述分析器进一步被配置成用于基于所述偏差来计算用于一个或多个未来光学镜片制造轮次的补偿因子。

在所述系统中，所述分析器可以进一步被配置成用于直接向所述镜片表面处理设备提供所述补偿因子。

所述系统进一步包括

联接至所述镜片表面处理设备上的lms，所述lms被配置成用于从所述分析器接收补偿因子、并且在一个或多个未来光学镜片制造轮次期间应用所述补偿因子。

在所述系统中，所述lms进一步被配置成用于通过调整光学处方来应用所述补偿因子、或者用于修改镜片表面处理设备命令。

在所述系统中，所述镜片表面处理设备命令包括以下各项中的一项或多项：封阻器棱镜度命令、发生器后表面命令、发生器厚度命令、发生器棱镜度命令、以及抛光机宏命令。

在所述系统中，这些偏差可能是由所述镜片表面处理设备本身、或所述镜片表面处理设备所使用的消耗品随时间的磨损有引起的。

在所述系统中，所述补偿因子可以基于以下各项中的一项或多项来选择：镜片表面处理设备磨损量、镜片表面处理设备的品牌、所用消耗品的品牌、以及所用消耗品的类型。

在所述系统中，所述lms进一步被配置成用于调整光学处方，以在将所述光学处方发送至镜片设计系统(lds)之前在所述镜片表面处理设备中补偿计算的偏差。

在所述系统中，所述lms进一步被配置成用于调整从镜片设计系统(lds)计算器接收到的光学设计，以在所述镜片表面处理设备中补偿计算的偏差。

在所述系统中，所述分析部件进一步被配置成用于计算针对一个或多个镜片毛坯的偏差的补偿因子。

所述系统进一步包括：

用于自动测量从所述镜片表面处理设备输出的镜片的参数的镜片测量设备；以及

联接至所述镜片测量设备上并且被配置成用于存储测量数据的存储器。

所述系统进一步包括：

联接至所述分析器上并且被配置成用于存储用户限定的分析器配置数据的存储器。

所述系统进一步包括：

被配置成用于使用所接收到的光学处方数据来计算镜片设计的lds，所述镜片设计是使用所述分析器计算的补偿因子计算出来的。

在所述系统中，所述lds从lms接收所述补偿因子。

在所述系统中，所述lds直接从所述分析器接收所述补偿因子。

一种计算用于光学镜片制造的补偿因子的方法，所述方法包括：

使用光学处方标称值以及已经完成了表面处理过程的镜片的存储的测量值来自动计算一个或多个光学镜片的制造偏差；并且

基于所述制造偏差来计算用于一个或多个未来光学镜片制造轮次的补偿因子。

所述方法进一步包括：

在完成所述表面处理过程后测量所述一个或多个光学镜片的参数；并且

将所测得的参数存储至测量值数据库中。

在所述方法中，所述补偿因子对应于以下各项中的一项或多项：镜片表面处理设备磨损量、镜片表面处理设备的品牌、所用消耗品的品牌、以及所用消耗品的类型。

在所述方法中，所述制造偏差包括光学偏差或几何偏差或这两者。

在所述方法中，所述光学偏差包括视远焦度、视近焦度、棱镜度、焦度图、以及光学设计中的一项或多项偏差。

在所述方法中，所述几何偏差包括厚度和镜片表面几何形状中的一项或多项偏差。

所述方法进一步包括：

将所述计算的制造偏差或所述补偿因子或这两者按一种或多种类别进行分组，所述类别包括：半成品类别、产品代码类别、光学设计类别、设计供应商类别、镜片设计系统(lds)类别、以及材料类别。

所述方法进一步包括：

基于所述计算的制造偏差来计算统计学偏差；并且

基于所述统计学偏差来计算用于所述未来光学镜片制造轮次的补偿因子。

所述方法进一步包括：

将所述补偿因子提供给实验室管理系统(lms)以调整提供给镜片制造设备的命令，从而补偿所述计算的制造偏差。

在所述方法中，所述被提供给镜片制造设备的命令包括以下各项中的一项或多项：封阻器棱镜度命令、发生器后表面命令、发生器厚度命令、发生器棱镜度命令、以及抛光机宏命令。

所述方法进一步包括：

将所述补偿因子提供给lms以调整光学处方，从而在将所述光学处方发送至lds之前补偿所述计算的制造偏差。

所述方法进一步包括：

将所述补偿因子提供给lms以调整从lds计算器接收到的光学处方，从而补偿所述计算的制造偏差。

所述方法进一步包括：

根据所述计算的制造偏差来标识已经完成所述表面处理过程的不合格镜片，其中，所述不合格镜片的一个或多个测量值在针对与所述不合格镜片相关联的光学处方值建立的公差之外；并且

在重复制造轮次以替换所述不合格镜片之前应用所述计算的补偿因子。

一种用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统，所述系统包括：

联接至所述镜片表面处理设备上的lms，所述lms被配置成用于接收有待应用于一个或多个未来光学镜片制造轮次的补偿因子，所述补偿因子是基于根据之前的制造轮次中镜片的测量值计算的制造偏差，所述lms进一步被配置成用于通过调整光学处方来应用所述补偿因子以补偿制造偏差、或者用于修改镜片表面处理设备命令。

在所述系统中，所述镜片表面处理设备命令包括以下各项中的一项或多项：封阻器棱镜度命令、发生器后表面命令、发生器厚度命令、发生器棱镜度命令、以及抛光机宏命令。

在所述系统中，所述lms部件进一步被配置成用于调整光学处方，以在将所述光学处方发送至lds之前在所述镜片表面处理设备中补偿计算的偏差。

在所述系统中，所述lms部件进一步被配置成用于调整从lds计算器接收到的光学处方，以在所述镜片表面处理设备中补偿计算的偏差。

在所述系统中，所述lms部件进一步被配置成用于补偿一个或多个镜片毛坯的偏差。

在所述系统中，可以针对特定品牌的镜片表面处理设备来选择所述补偿因子，其中，所述针对特定品牌的补偿因子用于补偿在所述特定品牌设备中观察到的典型偏差。

所述系统进一步包括：

用于自动测量从镜片表面处理设备输出的镜片的参数的镜片测量设备；以及

联接至所述镜片测量设备上并且被配置成用于存储测量数据的存储器。

所述系统进一步包括：

分析器，所述分析器被配置成用于基于光学处方标称值以及在从镜片表面处理设备输出的多个镜片上测得的参数来计算一个或多个经表面处理的光学镜片的制造偏差，所述分析器进一步被配置成用于基于所述制造偏差来计算用于一个或多个未来光学镜片制造轮次的补偿因子。

一种用于补偿光学镜片制造过程中的偏差的系统，所述系统包括：

联接至lms上的lds，所述lds被配置成用于使用从所述lms接收到的光学处方数据来计算镜片设计，所述镜片设计是使用由一个或多个之前的制造轮次中镜片的测量值计算的补偿因子而计算出来的。

在所述系统中，所述lds从所述lms接收所述补偿因子。

在所述系统中，所述补偿因子合并到所述光学处方数据中。

在所述系统中，所述lds从分析器接收所述补偿因子。

在所述系统中，所述分析器被配置成用于基于光学处方标称值以及在从镜片表面处理设备输出的镜片上测得的参数来计算一个或多个经表面处理的光学镜片的制造偏差，所述分析器进一步被配置成用于基于所述制造偏差来计算所述补偿因子。

在所述系统中，所述lds进一步被配置成用于补偿一个或多个镜片毛坯的偏差。

图10展示了适合的计算与联网环境800的实例，图1至9的实例可以在所述环境中在实时光学实验室控制系统中实施。计算系统环境800仅是适合的计算环境的一个实例、并不旨在对使用范围或功能提出任何限制。实时光学实验室控制系统与许多其他通用或专用计算系统环境或配置一起运作。可以适合于与本发明一起使用的熟知的计算系统、环境和/或配置的实例包括但不限于：个人计算机、服务器计算机、手持式或膝上型计算机设备、平板设备、多处理器系统、基于微处理器的系统、机顶盒、可编程消费电子产品、网络pc、小型计算机、大型计算机、包括任何上述系统或设备的分布式计算环境等。

可以在由计算机执行的例如程序模块等计算机可执行指令的一般背景中描述实时光学实验室控制系统。一般而言，程序模块包括执行特定任务或实现特定抽象数据类型的例程、程序、对象、部件、数据结构等。所述实时光学实验室控制系统还可以在任务由通过通信网络链接的远程处理设备执行的分布式计算环境中被实施。在分布式计算环境中，程序模块可以位于包括存储器存储设备的本地和/或远程计算机存储介质中。

参见图10，用于实现所述实时光学实验室控制系统的各个方面的示例性系统可以包括计算机1000形式的通用计算设备。多个部件可以包括但不限于以下各种硬件部件：例如，处理单元1001；数据存储器装置1002(例如，系统存储器)；以及将包括数据存储装置1002的多个系统组件联接至处理单元1001上的系统总线1003。系统总线1003可以是包括存储器总线或存储器控制器、外围总线、以及使用各种总线架构中的任一种的本地总线的几种总线结构类型中的任一种。举例但非限制性地，此类架构包括工业标准架构(isa)总线、微通道体系结构(mca)总线、增强型isa(eisa)总线、视频电子标准协会(vesa)本地总线、以及外围组件互连(pci)总线(又称为夹层总线)。

计算机1000典型地包括各种各样的计算机可读介质1004。计算机可读介质1004可以是可以被计算机1000访问的任何可用介质、并且包括易失性和非易失性介质以及可移除和不可移除介质，但不包括传播信号。举例但非限制性地，计算机可读介质1004可以包括计算机存储介质和通信介质。计算机存储介质包括在用于存储例如计算机可读指令、数据结构、程序模块、或其他数据等信息的任何方法或技术中实现的易失性介质和非易失性介质、可移除介质和不可移除介质介质。计算机存储介质包括但不限于：ram、rom、eeprom、闪速存储器或其他存储器技术、cd-rom、数字通用盘(dvd)或其他光盘存储器、磁带盒、磁带、磁盘存储装置或其他磁存储设备、或可以用于存储希望的信息并且可以被计算机1000访问的任何其他介质。通信介质典型地在例如载波或其他传输机构等调制数据信号中实施计算机可读指令、数据结构、程序模块、或其他数据、并且包括任何信息传送介质。术语“调制数据信号”是指以以下信号：所述信号具有的特征中的一个或多个特征以对所述信号中的信息进行编码的方式进行设定或改变。举例但非限制性地，通信介质包括例如有线网络或直接有线连接的有线介质、以及例如声学、rf、红外和其他无线介质等无线介质。上述中的任何组合也可以包含在所述计算机可读介质的范围内。计算机可读介质可以被实施为计算机程序产品，例如存储在计算机存储介质上的软件。

数据存储器或系统存储器1002包括呈易失性和/或非易失性存储器形式的计算机存储介质，例如，只读存储器(rom)和随机存取存储器(ram)。包含例如在启动期间有助于在计算机1000内的元件之间传输信息的基本例程的基本输入/输出系统(bios)典型地存储在rom中。ram典型地包含可由处理单元1001立即访问和/或当前通过其起作用的数据和/或程序模块。举例但非限制性地，数据存储器1002保存有操作系统、应用程序、以及其他程序模块和程序数据。

数据存储器1002还可以包括其他可除移/不可移除、易失性/非易失性计算机存储介质。仅举例而言，数据存储装置1002可以是：从不可移除非易失性磁性介质读取或写入其中的硬盘驱动器；从可移除非易失性磁盘读取或写入其中的磁盘驱动器；以及从可移除非易失性光盘(例如cd、rom、或其他光学介质)读取或写入其中的光盘驱动器。可以在示例性操作环境中使用的其他可移除/不可移除、易失性/非易失性计算机存储介质包括但不限于：磁带盒、闪存卡、数字通用盘、数字视频磁带、固态ram、固态rom等等。所述驱动器及其相关联的计算机存储介质(上述并且图10所展示的)为计算机1000提供计算机可读指令、数据结构、程序模块、和其他数据的存储。

用户可以通过用户界面1005或例如平板电脑、电子数字转换器、麦克风、键盘、和/或指示设备(通常被称为鼠标、跟踪球、或触摸板)等其他输入设备来输入命令和信息。其他输入设备可以包括操纵杆、游戏垫、卫星天线、扫描仪等等。此外，语音输入、使用手或手指的手势输入、或其他自然用户界面(nui)也可以与适当的输入设备(例如麦克风、相机、平板电脑、触摸板、手套、或其他传感器)一起使用。这些和其他输入设备通常通过联接至系统总线1003上的用户输入接口1005连接至处理单元1001上、但是可以通过例如并行端口、游戏端口、或通用串行总线(usb)等其他接口和总线结构来连接。监测器1006或其他类型的显示设备也经由接口(如音频接口)连接至系统总线1003上。监测器1006也可以与触摸屏面板等集成为一体。应注意，监测器和/或触摸屏面板可以实际联接至其中结合有计算设备1000(例如平板式个人计算机)的壳体上。此外，例如计算设备1000等计算机还可以包括可以通过输出外围接口等等连接的其他外围输出设备，例如扬声器和打印机。

计算机1000可以使用到例如远程计算机等一个或多个远程设备的逻辑连接1007在联网或云计算环境中操作。远程计算机可以是个人计算机、服务器、路由器、网络pc、对等设备、或其他公共网络节点、并且典型地包括上文关于计算机1000描述的许多或全部要素。图10中所描绘的逻辑连接包括一个或多个局域网(lan)和一个或多个广域网(wan)、但也可以包括其他网络。这样的网络环境在办公室、企业范围的计算机网络、内联网和互联网中是常见的。

当在联网或云计算环境中使用时，计算机1000可以通过网络接口或适配器1007连接到公用或专用网络上。在一些实施例中，存在用于通过网络来建立通信的调制解调器或其他装置。所述调制解调器可以是内部或外部的，可以经由网络接口1007或其他适当的机构连接到系统总线1003上。例如包括接口和天线的无线联网部件可以通过例如接入点或对等计算机等合适的设备联接至网络。在联网环境中，关于计算机1000描绘的程序模块或其部分可以存储在远程存储器存储设备中。可以了解的是，所示的网络连接是示例性的，并且可以使用在计算机之间建立通信链路的其他手段。

虽然已经以结构特征和/或方法动作特定的语言描述了本主题，但是应理解的是，所附权利要求书中限定的主题不一定局限于上述具体特征或动作。而是，上述具体特征和动作是作为实现权利要求书的示例性形式而披露的。